JP2010247426A - 硬質化樹脂基板、窓ガラス代替物、混合硬質膜形成方法、および成膜装置 - Google Patents

硬質化樹脂基板、窓ガラス代替物、混合硬質膜形成方法、および成膜装置 Download PDF

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Abstract

【課題】透明な樹脂基板の耐摩耗性を改善する積層膜、又は混合硬質膜を形成する技術を提供する。
【解決手段】図1の符号1は、窓ガラス代替物を形成する混合硬質膜を形成する混合硬質膜形成装置であって、蒸着室12内に、TiOから成る第一蒸着源21とSiO2から成る第二蒸着源22が成膜対象物の移動方向の真下に離間して並べて配置されている。この混合硬質膜形成装置1を用いて、蒸着室12内に酸素ガスを導入し、TiOから成る第一蒸着源21とSiO2から成る第二蒸着源22を加熱して蒸発させながら、SiO2よりTiO2が多い位置から、TiO2が徐々に少なくなり、SiO2が増加する位置までの領域を形成し、その領域内で透明な樹脂基板を通過させて混合硬質膜を形成させる。
【選択図】図1

Description

本発明は、ポリカーボネート樹脂基板にSiO2酸化物からなる耐摩耗性被膜、Al23酸化物からなる耐摩耗性被膜、又はSiO2とAl23の複合酸化物からなる耐摩耗性被膜を密着性良く形成する被膜形成方法に関する。
ポリカーボネート樹脂は透明で機械的強度が高いことから、窓用の材料として適するが、硬度が低いために、傷が付きやすいことが車両用の窓材として応用する上で大きな障害となっている。また、高分子材料であるため、耐熱性が低く、樹脂表面に耐摩耗性材料を被覆する方法が限られる。例えば、スパッタ法は成膜レートが遅いために数μmのSiO2やAl23を短時間で成膜することは困難である。また、成膜レートが高いプラズマCVD法は基板温度が上昇するため、樹脂基板への成膜には適さない。
さらに、SiO2やAl23などを成膜した樹脂基板を屋外で使用すると紫外線によって樹脂基板が分解されるために、樹脂基板の上に成膜したSiO2やAl23が剥離する問題があった。
特開2002−539004号公報 特開2004−331679号公報
本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、ポリカーボネート樹脂基板の耐摩耗性を改善するために、SiO2酸化物、Al23酸化物又はSiO2とAl23の複合酸化物を厚さ3μm以上形成する。
また、紫外線照射による膜剥離を防ぐために、ポリカーボネート樹脂と硬質膜との界面、または、硬質膜の中間に厚さ0.05μm以上のTiO2膜を積膜する。
紫外線吸収膜としてTiO2の単膜を形成する代わりに、TiO2を5mol%以上含む硬質膜をポリカーボネート樹脂基板に形成する。
さらに、ポリカーボネート樹脂基板に紫外線吸収膜と硬質膜を連続的に形成する硬質膜形成装置を提供することである。
上記課題を解決するために、本発明は、樹脂基板と、SiO2もしくはAl23の少なくともいずれかを含む硬質膜と、前記樹脂基板と前記硬質膜の間に紫外線吸収膜とを有し前記紫外線吸収膜はTiO2を含む、硬質化樹脂基板である。
TiO2により樹脂基板と、SiO2もしくはAl23の剥離が抑制される。
また、本発明は、樹脂基板と、前記樹脂基板の表面に形成される混合硬質膜とを有し、前記混合硬質膜は、SiO2もしくはAl23の少なくともいずれかと、TiO2を含む硬質化樹脂基板である。
TiO2を含む混合膜とすることで、膜の剥離を抑制することができ、さらに、膜界面の反射の問題を低減できる。
また、本発明は、硬質化樹脂基板において、前記混合硬質膜は、膜厚の厚み方向で、前記TiO2の含有率が前記樹脂基板に近い方から遠い方へ徐々に小さくなる硬質化樹脂基板である。
膜の表面のTiO2の割合が下がり、SiO2もしくはAl23の割合が上がるので、表面のより硬質な膜が形成できる。
また、本発明は、透明な樹脂基板と、積層膜とを有する窓ガラス代替物であって、前記積層膜は、前記樹脂基板上に配置され、TiO2から成る紫外線吸収膜と、前記紫外線吸収膜の上に配置され、SiO2もしくはAl23のいずれかを含む硬質膜とを有する窓ガラス代替物である。
また、本発明は、前記紫外線吸収膜は、厚さ0.05μm以上0.5μm以下である窓ガラス代替物である。
本発明は、前記硬質膜は厚さ3μm以上8μm以下である窓ガラス代替物である。
また、本発明は、前記樹脂基板と、前記紫外線吸収膜との間に配置され、厚さ1.5μm以上3μm以下のSiO2から成る密着膜とを有する窓ガラス代替物である。
本発明は、透明な樹脂基板と、前記樹脂基板上に配置され、SiO2もしくはAl23を主成分とし、TiO2を含有する混合硬質膜とを有し、前記混合硬質膜の全体を100mol%としたときに、前記混合硬質膜は、前記TiO2を5mol%以上70mol%未満含有する窓ガラス代替物である。
また、本発明は、前記混合硬質膜は、厚さ3μm以上8μm以下である窓ガラス代替物である。
本発明は、膜厚の厚み方向で、前記TiO2の含有率が前記樹脂基板に近い方から遠い方へ徐々に小さくなる窓ガラス代替物である。
本発明は、前記樹脂基板が、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタレートのいずれか一つである窓ガラス代替物である。
また、本発明は、樹脂基板上に形成される混合硬質膜形成方法であって、減圧雰囲気の蒸着室内に、TiO2を蒸着させる第一蒸着源とSiO2もしくはAl23を蒸着させる第二蒸着源が成膜対象物の移動経路の下方に離間して並べて配置された蒸着装置を用いて、前記第一蒸着源と前記第二蒸着源を加熱して蒸発させながら、前記樹脂基板を前記第一蒸着源の上方の位置から前記第二蒸着源の上方の位置まで通過させて、前記樹脂基板の表面から前記TiO2が徐々に減少し、前記SiO2もしくはAl23が徐々に増加する傾斜混合硬質膜を形成させる混合硬質膜形成方法である。
また、本発明は、前記蒸着室内に酸素ガスを導入しながら前記傾斜混合硬質膜を形成する傾斜混合硬質膜形成方法である。
また、本発明は、真空排気可能な蒸着室と、前記蒸着室内に設置され、TiO2を蒸着させる第一蒸着源と、SiO2もしくはAl23を蒸着させる第二蒸着源と、前記第一蒸着源の蒸着範囲から前記第二蒸着源の蒸着範囲へ成膜対象物を搬送する搬送機構と、を有し、前記第一蒸着源の蒸着範囲と前記第二蒸着源の蒸着範囲は少なくとも一部が重複し、前記成膜対象物が、前記第一蒸着源の蒸着範囲から前記第二蒸着源の蒸着範囲へ移動する間に、前記成膜対象物の表面から前記TiO2が徐々に減少し、前記SiO2もしくはAl23が徐々に増加する傾斜混合硬質膜を形成する成膜装置である。
また、本発明は、前記蒸着室内に酸素ガスを導入する酸素導入手段を有する、成膜装置である。
本発明により、ポリカーボネート樹脂基板に対して耐摩耗性に優れ、かつ、密着性に優れた耐摩耗性被膜の作製が可能になる。
本発明に用いられる混合硬質膜形成装置の断面図 SiO2を3μm蒸着したポリカーボネート樹脂基板の透過率測定結果 スチールウール耐傷性試験試料の透過率測定結果
<装置構成>
図1の符号1は、成膜対象物20上に薄膜を形成する混合硬質膜形成装置である。混合硬質膜形成装置1は、搬入室11と蒸着室12と搬出室13とを有しており、各室11〜13は、開閉自在なゲートバルブ151、152によってこの順序で接続されている。
蒸着室12内には、不図示の移動機構が配置されており、蒸着室12内部に位置する搬送キャリア19に装着された成膜対象物20を成膜面が下に向いた状態を維持しながら搬入室11側から搬出室13側への移動、又は搬出室13から搬入室11側への移動ができるように構成されている。
搬入室11と、搬出室13は、それぞれ開閉自在な入口用扉16と、出口用扉17を有しており、各ゲートバルブ151、152を閉じて入出口用扉16、17を開けると、蒸着室12の内部を所望圧力のガス雰囲気を維持しながら、搬入室11の内部雰囲気と搬出室13の内部雰囲気とを、大気雰囲気に接続して大気雰囲気との間で成膜対象物20の搬出、又は搬入ができるようになっている。
入出口用扉16、17を閉じると、各室11〜13の内部雰囲気を大気雰囲気と遮断することができる。
搬入室11と、蒸着室12と、搬出室13には、それぞれ真空排気系361〜363が接続されており、真空排気系361〜363を動作させると各室11〜13内部を真空雰囲気にすることができ、搬入室11と、蒸着室12と、搬出室13とを真空雰囲気にすると、搬入室11から蒸着室12への成膜対象物20の搬入と、搬出室13への蒸着室12からの成膜対象物20の搬出を行うことができる。
蒸着室12内にはTiOを蒸着源とする第一蒸着源21とSiO2を蒸着源とする第二蒸着源22が、成膜対象物20の移動方向の真下に、並んで離間して配置されている。
蒸着室12の側面には、第一、第二の電子銃31、32が、気密に挿通されており、第一、第二の電子銃31、32から電子ビームをそれぞれ第一、第二蒸着源21、22に向けて照射し、蒸着室12内部に酸素ガスを導入しながら、第一、第二蒸着源21、22を蒸発させ、成膜対象物20が第一、第二蒸着源21、22の上に位置すると、TiO2、SiO2、又はTiO2とSiO2の混合蒸気が成膜対象物20の成膜面に到達できるように構成されている。
第一、第二蒸着源21、22から蒸気が到達する蒸着範囲は重複しており、第一蒸着源21に近い位置では第一蒸着源からの蒸気の割合が多く、第二蒸着源22に近い位置では第二蒸着源からの蒸気の割合が多く成膜される。
第一、第二蒸着源21、22には、それぞれ第一、第二のモーター41、42が接続されており、第一、第二のモーター41、42を動作させ第一、第二蒸着源21、22を回転させると、それぞれ、第一、第二の電子銃31、32により電子ビームが第一、第二蒸着源21、22上に均一に照射されるように構成されている。図1の符号51、52はそれぞれ、第一、第二の電子銃31、32により照射された電子ビームを表している。
蒸着室12には、ガス導入系35が接続されており、ガス導入系35を動作させると蒸着室12内を所望圧力のガス雰囲気にすることができる。本件ではガス導入系35から酸化ガス、例えば酸素を導入する。蒸着源から蒸発したTiOは、酸素と反応して、成膜対象物20にTiO2が成膜される。
なお、第一、第二蒸着源21、22の間に仕切りを設ければ、第一蒸着源21の蒸着材料と第二蒸着源22の蒸着材料を個別に積層することもできる。
<プロセス>
上記混合硬質膜形成装置1を用いて、透明な樹脂基板としてポリカーボネート基板の上に積層膜を成膜して本発明の窓ガラス代替物を形成する際には、真空排気系362により蒸着室12内を真空雰囲気にして、蒸着室12内に樹脂基板を搬入する。
ガス導入系35により蒸着室12内に酸素ガスを導入して、TiOを蒸発させる第一蒸着源21と、SiO2を蒸発させる第二蒸着源22とを加熱して蒸発させながら、樹脂基板を第一蒸着源21に近づける。第一蒸着源21の蒸着範囲内で、かつ第二蒸着源22の蒸着範囲外では、ほぼTiO2の蒸気だけが樹脂基板上に到達し、樹脂基板の表面に濃度が略100%のTiO2から成る紫外線吸収膜が形成される。
樹脂基板を第二蒸着源22に近づくように移動させると、第一蒸着源21の蒸着範囲と第二蒸着源22の蒸着範囲が重複した範囲に入る。この範囲で、樹脂基板上にSiO2の蒸気が到達し始め、樹脂基板が第一蒸着源21から離れ第二蒸着源22に近づくに従い、樹脂基板に到達するSiO2が徐々に多くなり、TiO2が徐々に少なくなる。これにより、樹脂基板に到達するSiO2の濃度が徐々に高くなり、TiO2の濃度が徐々に低くなる傾斜混合硬質膜が形成される。
樹脂基板が、第一蒸着源21の蒸着範囲から外れると、第二蒸着源22の蒸着範囲でほぼSiO2の蒸気だけが到達し、樹脂基板の表面には濃度が略100%のSiO2から成る硬質膜が形成される。
このように順に樹脂基板を移動させることで、紫外線吸収膜と傾斜混合硬質膜と硬質膜から成る積層膜が形成される。
紫外線吸収膜と傾斜混合硬質膜との境が無く、傾斜混合硬質膜と硬質膜との境がないので膜間の応力も緩和でき、剥離を防止することができる。さらに、混合膜にすることで透過率を高くすることができる。TiO2/SiO2の界面の反射が低減するためである。
上記では、TiO2を成膜するために、酸素を導入しながらTiOを蒸発させ、反応したTiO2を成膜したが、TiO2のみを蒸発させてもよいし、酸素が欠損するようであれば、酸素を導入しながらTiO2を蒸発させてもよい。
また、上記ではガス導入系35により酸素ガスを蒸着室12内に導入してTiO蒸気と酸素ガスを反応させてTiO2から成る紫外線吸収膜を形成したが、第二蒸着源22のSiO2から放出された酸素ガスがTiO蒸気と反応してTiO2から成る紫外線吸収膜が形成できる場合は、ガス導入系35により蒸着室12内に酸素ガスを導入しなくてもよい。
また、樹脂基板の上にTiO2とSiO2から成る積層膜を作製する場合は、第一蒸着源21と第二蒸着源22の間に、TiO2の蒸気とSiO2の蒸気を混合させないための仕切り板を配置して、樹脂基板表面にTiO2から成る膜を成膜後に、SiO2からなる膜を成膜する。
樹脂基板の上に、樹脂基板表面からSiO2、TiO2、SiO2の順序で積層させた積層膜を作製する場合は、蒸着室12内に、搬入室11側からSiO2から成る第二蒸着源22と、TiO2から成る第一蒸着源21とをこの順序で離間して配置し、各蒸着源の間に仕切を配置して樹脂基板表面からSiO2、TiO2、SiO2の順序で成膜して積層膜を形成し、積層膜が成膜された樹脂基板を搬入室11に戻し、搬入室11から大気へ搬出する。
上述した例では積層膜、又は混合硬質膜をSiO2とTiO2を組み合わせた場合について述べたが、SiO2の代わりにAl23を用いてもよく、Al23とTiO2との組み合わせおよびSiO2/Al23複合酸化物とTiO2との組み合わせでもよい。
また、上述した例では、混合硬質膜を真空蒸着による成膜によって形成したが、スパッタリングやプラズマスプレーガンを用いたCVDにより混合硬質膜、又は積層膜を形成してもよい。
なお、上記では、透明な樹脂基板を例に記載したが、透明な樹脂基板に限定されない。例えば、車の車体用の樹脂基板、もしくは非透明の建材用の樹脂基板に成膜することで、紫外光が照射されても剥離しない硬質膜を形成することができる。
表1にSiO2、TiO2、SiO2-TiO2混合膜の成膜条件を示す。
Figure 2010247426
<実施例>
(1)耐摩耗性の改善
図2に樹脂基板としてポリカーボネート樹脂(PC)基板のみの試料、PC基板に3μmのSiO2を蒸着した試料、PC基板に3μmのSiO2とTiO2の混合膜を蒸着した試料、PC基板に0.2μmのTiO2と3μmのSiO2の積層膜を蒸着した試料の透過率測定結果を示す。SiO2を蒸着した試料、PC基板に3μmのSiO2とTiO2の混合膜を蒸着した試料は、ポリカーボネート樹脂(PC)基板のみの試料と概ね同等の透過率であった。
0.2μmのTiO2と3μmのSiO2をPC基板からこの順序で積層させた積層膜ではやや透過率が下がり、波長により干渉縞が出る場合があった。また、TiO2とSiO2の順序を変えてSiO2とTiO2を積層した場合も同様の傾向があった。
次に、図3に耐摩耗性の試験結果を示す。PC基板と、片面に厚さ3μmのSiO2硬質膜を形成したPC基板の成膜面をスチールウール(日本スチールウール(株)ボンスター No.OOOO)を用いて、荷重1kgで400往復擦り、成膜面が白濁や膜が剥離しないかどうか調べた。テスト後の透過率測定結果を図3に示す。SiO2が成膜されていないポリカーボネート樹脂の表面は細かな傷が無数に付き、透過率が大きく低下して白濁したが、SiO2を成膜したサンプルは磨耗テスト前と変わらない透明性が確認出来た。SiO2とTiO2をPC基板からこの順序で積層させた積層膜では、表面のTiO2に傷が付き透過率が低下した。TiO2とSiO2をPC基板からこの順序で積層させた積層膜(図示なし)では、硬質のSiO2が表面に成膜されているため、SiO2硬質膜だけの場合と同様、透過率は低下しなかった。
(2)紫外線照射を原因とする剥離問題対策
SiO2のみを3μm蒸着したポリカーボネート樹脂基板と、膜厚を変えてTiO2を積層した上にSiO2のみを3μm蒸着したポリカーボネート樹脂基板の密着性試験の結果を表2に示す。試験方法は、上記の基板に中心波長254nmの紫外線を連続的に照射して碁盤目テープテストにより密着性の変化を調べた。
Figure 2010247426
TiO2から成る紫外線吸収膜を積層しなかったPC基板は紫外線を18時間照射しただけでSiO2から成る硬質膜が全面にわたり剥難した。一方、TiO2からなる紫外線吸収膜を成膜したPC基板はTiO2膜厚50nmで効果が現れ、SiO2から成る硬質膜の上にTiO2から成る紫外線吸収膜を200nm以上を成膜した積層膜では、120時間の紫外線照射を受けても密着性が低下しないことが確認できた。
次に、試料の膜構成と各試料の紫外線照射後の密着性試験結果を表3に示す。
Figure 2010247426
PC基板に、SiO2+TiO2の順で形成した膜では、密着性は問題ないが、TiO2の硬度が低いため表面の耐傷性で問題があった。
TiO2から成る紫外線吸収膜を個別に形成する場合、耐傷性を満たすためには、試料の表面、SiO2から成る密着膜とSiO2から成る硬質膜の中間、およびPCとSiO2から成る硬質膜との間に形成することが好ましい。
SiO2とTiO2の積層膜でなく、SiO2とTiO2の混合膜の場合、SiO2膜中に5mol%以上のTiO2を含む混合硬質膜であれば、150時間以上の紫外線遮蔽効果があった。但し、TiO2が70mol%以上となると耐傷性が低下するので、TiO2は5mol%以上70mol%未満であることが好ましい。
さらに、目視検査においては、SiO2とTiO2の積層膜では、各層の膜厚により膜界面での反射が確認される場合があった。SiO2とTiO2の混合膜の場合は、膜の界面の数が少ないため反射の問題が抑制できることが確認できた。このため、混合膜とすることで透過率を高くすることができた。
さらに、本発明の窓ガラス代替物においては、紫外線吸収膜は、厚さ0.05μm以上0.5μm以下であることが好ましい。0.05μm未満では紫外線遮蔽効果がなく、0.5μmを超えると透過率が低下するためである。さらに、硬質膜は厚さ3μm以上8μm以下であることが好ましい。3μm未満では耐傷性が不十分となり、8μmを超えると膜の内部応力により密着性が低下する恐れがあるためである。
なお、SiO2の代わりにAl23を用いた場合、SiO2/Al23の複合酸化物をもちいた場合でも、TiO2と組み合わせることで同様の効果が確認できた。
1……混合硬質膜形成装置 11……搬入室 12……蒸着室 13……搬出室 151〜152……ゲートバルブ 16……入口用扉 17……出口用扉 19……搬送キャリア 20……成膜対象物 21、22……第一、第二蒸着源 31、32……第一、第二の電子銃 35……ガス導入系 361〜363……真空排気系 41、42……第一、第二のモーター 51、52……第一、第二の電子銃から照射された電子ビーム

Claims (15)

  1. 樹脂基板と、
    SiO2もしくはAl23の少なくともいずれかを含む硬質膜と、
    前記樹脂基板と前記硬質膜の間に紫外線吸収膜とを有し、
    前記紫外線吸収膜はTiO2を含む、硬質化樹脂基板。
  2. 樹脂基板と、
    前記樹脂基板の表面に形成される混合硬質膜とを有し、
    前記混合硬質膜は、SiO2もしくはAl23の少なくともいずれかと、TiO2を含む
    硬質化樹脂基板。
  3. 請求項2に記載の硬質化樹脂基板において、
    前記混合硬質膜は、膜厚の厚み方向で、前記TiO2の含有率が前記樹脂基板に近い方から遠い方へ徐々に小さくなる
    硬質化樹脂基板。
  4. 透明な樹脂基板と、積層膜とを有する窓ガラス代替物であって、
    前記積層膜は、前記樹脂基板上に配置され、TiO2から成る紫外線吸収膜と、
    前記紫外線吸収膜の上に配置され、SiO2もしくはAl23のいずれかを含む硬質膜とを有する窓ガラス代替物。
  5. 前記紫外線吸収膜は、厚さ0.05μm以上0.5μm以下である請求項4記載の窓ガラス代替物。
  6. 前記硬質膜は厚さ3μm以上8μm以下である請求項4または5記載の窓ガラス代替物。
  7. 前記樹脂基板と、前記紫外線吸収膜との間に配置され、厚さ1.5μm以上3μm以下のSiO2から成る密着膜とを有する請求項4乃至6記載の窓ガラス代替物。
  8. 透明な樹脂基板と、
    前記樹脂基板上に配置され、SiO2もしくはAl23を主成分とし、TiO2を含有する混合硬質膜とを有し、
    前記混合硬質膜の全体を100mol%としたときに、前記混合硬質膜は、前記TiO2を5mol%以上70mol%未満含有する窓ガラス代替物。
  9. 前記混合硬質膜は、厚さ3μm以上8μm以下である請求項8記載の窓ガラス代替物。
  10. 膜厚の厚み方向で、前記TiO2の含有率が前記樹脂基板に近い方から遠い方へ徐々に小さくなる請求項8記載の窓ガラス代替物。
  11. 前記樹脂基板が、ポリカーボネート、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタレートのいずれか一つである請求項4乃至請求項10記載の窓ガラス代替物。
  12. 樹脂基板上に形成される混合硬質膜形成方法であって、
    減圧雰囲気の蒸着室内に、TiO2を蒸着させる第一蒸着源とSiO2もしくはAl23を蒸着させる第二蒸着源が成膜対象物の移動経路の下方に離間して並べて配置された蒸着装置を用いて、前記第一蒸着源と前記第二蒸着源を加熱して蒸発させながら、前記樹脂基板を前記第一蒸着源の上方の位置から前記第二蒸着源の上方の位置まで通過させて、前記樹脂基板の表面から前記TiO2が徐々に減少し、前記SiO2もしくはAl23が徐々に増加する傾斜混合硬質膜を形成させる混合硬質膜形成方法。
  13. 前記蒸着室内に酸素ガスを導入しながら前記傾斜混合硬質膜を形成する請求項12記載の傾斜混合硬質膜形成方法。
  14. 真空排気可能な蒸着室と、
    前記蒸着室内に設置され、TiO2を蒸着させる第一蒸着源と、SiO2もしくはAl23を蒸着させる第二蒸着源と、
    前記第一蒸着源の蒸着範囲から前記第二蒸着源の蒸着範囲へ成膜対象物を搬送する搬送機構と、を有し、
    前記第一蒸着源の蒸着範囲と前記第二蒸着源の蒸着範囲は少なくとも一部が重複し、前記成膜対象物が、前記第一蒸着源の蒸着範囲から前記第二蒸着源の蒸着範囲へ移動する間に、前記成膜対象物の表面から前記TiO2が徐々に減少し、前記SiO2もしくはAl23が徐々に増加する傾斜混合硬質膜を形成する
    成膜装置。
  15. 前記蒸着室内に酸素ガスを導入する酸素導入手段を有する請求項14記載の成膜装置。
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