JP2008045160A - 透光性積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上記目的を達成する本発明の透光性積層体1は、透光性基材10と、その透光性基材10の主面上にプラズマCVD法により形成されかつ酸化チタンを主成分とする第1保護膜20とを備え、第1保護膜20は下記式(1)で表される条件を満足するものである。
6%≦AC/(ATi+AO+AC)×100≦15% (1)
ここで、式(1)中、ACは第1保護膜における炭素原子の含有質量、ATiは第1保護膜におけるチタン原子の含有質量、AOは第1保護膜における酸素原子の含有質量をそれぞれ示す。
【選択図】 図1
Description
6%≦AC/(ATi+AO+AC)×100≦15% (1)
ここで、式(1)中、ACは第1保護膜における炭素原子の含有質量、ATiは第1保護膜におけるチタン原子の含有質量、AOは第1保護膜における酸素原子の含有質量をそれぞれ示す。
6%≦BC/(BSi+BO+BC)×100≦20% (2)
ここで、式(2)中、BCは第2保護膜における炭素原子の含有質量、BSiは第2保護膜におけるケイ素原子の含有質量、BOは第2保護膜における酸素原子の含有質量をそれぞれ示す。
6%≦R1≦15% (1a)
ここで、R1は、下記式(I)で表される条件を満足する値である。
R1=AC/(ATi+AO+AC)×100 (I)
式(I)中、ACは第1保護膜20における炭素原子の含有質量、ATiは第1保護膜20におけるチタン原子の含有質量、AOは第1保護膜20における酸素原子の含有質量をそれぞれ示す。
10%≦R1≦14% (1b)
6%≦R2≦20% (2a)
ここで、R2は、下記式(II)で表される条件を満足する値である。
R2=BC/(BSi+BO+BC)×100 (II)
式(II)中、BCは第2保護膜30における炭素原子の含有質量、BSiは第2保護膜30におけるケイ素原子の含有質量、BOは第2保護膜30における酸素原子の含有質量をそれぞれ示す。
7%≦R2≦15% (2b)
0%≦|R2−R1|≦14% (3a)
1%≦|R2−R1|≦7% (3b)
上述と同様のプラズマCVD装置を用いて、下記のようにして透光性積層体を作製した。まず、カソード電極をプラズマCVD装置の所定位置に設置した。なお、カソード電極の透光性基材と接する部分の表面面積は400cm2であった。次に、カソード電極の一部の表面に接するように、平板状のポリカーボネート製透光性基材(厚み:3mm)を取り付けた。
Pc/Ps=Fc/Fs
の関係が成立する。ここで、
Pc=Pa−Ps
なので、
Fs=Fc×Ps/(Pa−Ps)
となる。したがって、各温度におけるTTIPの蒸気圧と、キャリアガスの流量と、全圧とを測定した上で、これらを調節することによって、TTIPガスの流量を制御した。
酸素ガス、アルゴンガス又はエチレンガス、TTIPガス及びヘリウムガスの流量を表2に示すように代えた以外は実施例1と同様にして、透光性積層体を得た。得られた透光性積層体の第1保護膜における炭素原子、チタン原子及び酸素原子の含有割合、YI及びヘイズを実施例1と同様にして測定した。結果を表1に示す。
まず、実施例1と同様にして、透光性基材の表面上に第1保護膜を形成してなる積層体を得た。次に、反応室内をパージして、再びその中の圧力が0.1Paになるまで、そこに存在するガスを真空ポンプで排気した。その後、反応室内に、酸素ガス、エチレンガス、HMDSガス及びヘリウムガスを導入した。酸素ガス、エチレンガス、HMDSガス及びヘリウムガスの流量は、表3に示す。なお、HMDSガスは、液状のHMDSにヘリウムガスをバブリングすることにより得られた。
上述の各透光性積層体を、大気雰囲気下、120℃で240時間静置した。その後の透光性積層体のヘイズを測定して、その耐熱性を評価した。結果を表5に示す。ヘイズの上昇は、保護膜の剥離やクラックの発生により拡散透過率が低下することに起因すると考えられる。
実施例3、10の透光性積層体を、大気雰囲気、120℃、95%RHの環境下に15時間静置してPCTを行った。その後の透光性積層体のヘイズを測定して、その耐湿熱性を評価した。その結果、いずれの透光性積層体もPCT前後でのヘイズにほとんど変化が認められず、耐湿熱性が良好であることが確認できた。
実施例3、10の透光性積層体を、40℃のイオン交換水中に240時間浸漬した。その後の透光性積層体のヘイズを測定して、その耐水性を評価した。その結果、いずれの透光性積層体も水中への浸漬前後でのヘイズにほとんど変化が認められず、耐水性が良好であることが確認できた。
実施例3、10の透光性積層体を、80℃のイオン交換水中に240時間浸漬した。その後の透光性積層体のヘイズを測定して、その耐温水性を評価した。その結果、いずれの透光性積層体も水中への浸漬前後でのヘイズにほとんど変化が認められず、耐温水性が良好であることが確認できた。
実施例3、10の透光性積層体を、大気雰囲気、60℃、95%RHの高湿環境下に240時間静置した。その後の透光性積層体のヘイズを測定して、その耐湿性を評価した。その結果、いずれの透光性積層体も高湿環境下への静置前後でのヘイズにほとんど変化が認められず、耐湿性が良好であることが確認できた。
実施例3、10の透光性積層体に対して、2000時間のSWOM(サンシャインウェザオメーター)による促進耐候性試験を行った。その後の透光性積層体のヘイズを測定して、その耐候性を評価した。その結果、いずれの透光性積層体もこの試験前後でのヘイズにほとんど変化が認められず、耐候性が良好であることが確認できた。
第1保護膜を設けず、透光性基材の表面上に直接第2保護膜を形成した以外は実施例10と同様にして、比較例3の透光性積層体を得た。
実施例3、10、及び比較例3の透光性積層体、並びに保護膜を設けていない上記透光性基材に対して、所定時間のSWOMによる促進耐候性試験を行った。そして、促進耐候性試験後の各透光性積層体及び透光性基材のYIを測定した。結果を図6に示す。b1は実施例3、b2は実施例10、b3は比較例3の透光性積層体を用いた場合のYIであり、b4は透光性基材を用いた場合のYIである。なお、横軸は促進耐候性試験の時間を示す。
第1保護膜の形成時間を変更して、その膜厚を0.3μm、1.0μmに代えた以外は、実施例1と同様にして、それぞれ実施例13、14の透光性積層体を得た。
分光光度計(日立製作所社製、商品名「U−4100」、光源:D2及びWI)を用いて、実施例3、13、14の透光性積層体の光透過率を測定した。結果を図4に示す。図4中、a1は実施例13(第1保護膜膜厚:0.3μm)、a2は実施例3(第1保護膜膜厚:0.5μm)、a3は実施例14(第1保護膜膜厚:1.0μm)の透光性積層体に係る結果である。これらの結果より、第1保護膜の膜厚が0.3μm以上であると、優れた紫外線遮断性を示すことが確認できた。
第1保護膜及び第2保護膜の形成時間を変更して、第1保護膜の膜厚を0.5μm、第2保護膜の膜厚をそれぞれ1.0μm、0.3μmに代えた以外は実施例7と同様にして、それぞれ実施例15、16の透光性積層体を得た。
第2保護膜の形成時間を変更して、その膜厚をそれぞれ0.5μm、1.0μm、2.0μmに代えた以外は比較例3と同様にして、それぞれ比較例4〜6の透光性積層体を得た。
実施例15、16、及び比較例4〜6の透光性積層体、上記透光性基材、及び参考例として出願人による自動車灯具用ハードコートをサンプルとして、市販のラビングテスターを用い、耐擦傷性評価を行った。評価は、荷重:510g、擦り距離:片道60mm、擦り速度:11往復/分、擦り回数:50往復、研磨材:スチールウール000番、の条件でサンプルの表面を擦傷した前後に、サンプルのヘイズを上述のヘイズコンピュータで測定して、擦傷前後でのヘイズの変化分(Δヘイズ)を導出することにより行った。結果を表6に示す。
Claims (5)
- 透光性基材と、その透光性基材の主面上にプラズマCVD法により形成されかつ酸化チタンを主成分とする第1保護膜と、を備え、
前記第1保護膜は下記式(1)で表される条件を満足する、透光性積層体。
6%≦AC/(ATi+AO+AC)×100≦15% (1)
(式(1)中、ACは前記第1保護膜における炭素原子の含有質量、ATiは前記第1保護膜におけるチタン原子の含有質量、AOは前記第1保護膜における酸素原子の含有質量をそれぞれ示す。) - 前記第1保護膜の前記透光性基材と反対側の主面上にプラズマCVD法により形成されかつ酸化ケイ素を主成分とする第2保護膜を更に備える、請求項1記載の透光性積層体。
- 前記第2保護膜は下記式(2)で表される条件を満足する、請求項2記載の透光性積層体。
6%≦BC/(BSi+BO+BC)×100≦20% (2)
(式(2)中、BCは前記第2保護膜における炭素原子の含有質量、BSiは前記第2保護膜におけるケイ素原子の含有質量、BOは前記第2保護膜における酸素原子の含有質量をそれぞれ示す。) - 前記第2保護膜は、6000MPa以下の残留応力を有する、請求項2又は3に記載の透光性積層体。
- 前記第1保護膜は0.3〜1.0μmの膜厚を有し、前記第2保護膜は0.75〜2.0μmの膜厚を有する、請求項2〜4のいずれか一項に記載の透光性積層体。
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