JP2010237491A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2009086038A JP5382321B2 (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
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| JP2010237491A JP2010237491A (ja) | 2010-10-21 |
| JP2010237491A5 true JP2010237491A5 (enExample) | 2012-05-17 |
| JP5382321B2 JP5382321B2 (ja) | 2014-01-08 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009086038A Active JP5382321B2 (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5382321B2 (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105027005B (zh) | 2013-02-25 | 2020-02-07 | 日产化学工业株式会社 | 含有具有羟基的芳基磺酸盐的抗蚀剂下层膜形成用组合物 |
| WO2014208542A1 (ja) | 2013-06-26 | 2014-12-31 | 日産化学工業株式会社 | 置換された架橋性化合物を含むレジスト下層膜形成組成物 |
| US10067423B2 (en) | 2014-03-26 | 2018-09-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Additive and resist underlayer film-forming composition containing the same |
| JP6497535B2 (ja) | 2015-11-17 | 2019-04-10 | 日産化学株式会社 | レジスト下層膜形成組成物用添加剤及び該添加剤を含むレジスト下層膜形成組成物 |
| JP7121344B2 (ja) | 2016-09-15 | 2022-08-18 | 日産化学株式会社 | レジスト下層膜形成組成物 |
| WO2018143359A1 (ja) | 2017-02-03 | 2018-08-09 | 日産化学工業株式会社 | ウレア結合を有する構造単位を有するポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物 |
| KR102214895B1 (ko) | 2017-12-26 | 2021-02-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | 레지스트 하층막용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
| TWI850566B (zh) | 2020-06-12 | 2024-08-01 | 日商日產化學股份有限公司 | 含二醇結構之阻劑下層膜形成用組成物 |
| JP7646684B2 (ja) * | 2020-08-17 | 2025-03-17 | Jsr株式会社 | 下層膜形成用組成物、下層膜、及び、リソグラフィープロセス |
| WO2022065374A1 (ja) | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 日産化学株式会社 | フルオロアルキル基を有する有機酸またはその塩を含むレジスト下層膜形成組成物 |
| WO2022196485A1 (ja) * | 2021-03-19 | 2022-09-22 | Jsr株式会社 | 半導体基板の製造方法及びレジスト下層膜形成用組成物 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005351983A (ja) * | 2004-06-08 | 2005-12-22 | Jsr Corp | 塩基遮断性反射防止膜形成用組成物およびレジストパターンの形成方法 |
| US7544750B2 (en) * | 2005-10-13 | 2009-06-09 | International Business Machines Corporation | Top antireflective coating composition with low refractive index at 193nm radiation wavelength |
| KR101457076B1 (ko) * | 2006-10-12 | 2014-10-31 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 광가교 경화에 의한 레지스트 하층막을 이용하는 반도체 장치의 제조방법 |
| JP4745298B2 (ja) * | 2007-06-18 | 2011-08-10 | 信越化学工業株式会社 | レジスト下層膜材料およびこれを用いたパターン形成方法 |
-
2009
- 2009-03-31 JP JP2009086038A patent/JP5382321B2/ja active Active
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