JP2010237491A - レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - Google Patents
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
Description
従来の反射膜形成用の組成物は、熱架橋により強固な硬化膜を形成するべく、硬化膜のベースとなるポリマーの他、通常、架橋剤及び架橋触媒が配合されている。
Qは−NH−基又は−O−基(エーテル結合)を表し、
L1は直鎖状又は分岐状の炭素原子数1乃至20のアルキレン基を表す。)
L2は単結合、−COO−基(エステル結合)、−CONH−基(アミド結合)、又は直
鎖状若しくは分岐状の炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表し、
L3は単結合又は直鎖状若しくは分岐状の炭素原子数1乃至20のアルキレン基を表し、
Qは−NH−基又は−O−基(エーテル結合)を表し、
Aは芳香環基又は複素環式基を表し、
Bは直鎖状又は分岐状の炭素原子1乃至20個を有するヒドロキシアルキル基を表し、及び、
Dは置換基を有していてもよいラクトン環又はアダマンタン環を表す。)
ングリコールモノメチルエーテルアセテート等)に不溶であるため、フォトレジスト層とのインターミキシングを防止できる。
本発明のリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物に含まれるポリマーは上記式(a)で表される構造単位を必須の構造単位として含み、好ましくは式(b)乃至式(d)で表される構造単位を含みて構成されるポリマーである。
本発明のリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物に含まれるポリマーにおいて、必須の構造単位として含まれる構造単位は、下記式(a)で表される末端にスルホ基を有する構造単位である。
合)を表し、L1は直鎖状又は分岐状の炭素原子数1乃至20のアルキレン基を表す。
スルホエチルアクリレート、スルホエチルメタクリレート、スルホプロピルアクリレート、スルホプロピルメタクリレート、スルホブチルアクリレート、スルホブチルメタクリレート、3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸、3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸、3−アクリロキシ−1−ヒドロキシプロパン−2−スルホン酸、3−メタクリロキシ−1−ヒドロキシプロパン−2−スルホン酸等。
本発明のリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物に含まれるポリマーは、上記式(a)で表される構造単位に加え、下記式(b)乃至式(d)で表される構造単位を有する共重合体であることが好ましい。
OO−基(エステル結合)、−CONH−基(アミド結合)、又は直鎖状若しくは分岐状の炭素原子数1乃至5のアルキレン基を表し、L3は単結合又は直鎖状若しくは分岐状の
炭素原子数1乃至20のアルキレン基を表し、Qは−NH−基又は−O−基(エーテル結合)を表し、Aは芳香環基又は複素環式基を表し、Bは直鎖状又は分岐状の炭素原子1乃至20個を有するヒドロキシアルキル基を表し、及び、Dは置換基を有していてもよいラクトン環又はアダマンタン環を表す。
(メタ)アクリレート、ペンタブロモベンジル(メタ)アクリレート、3−ヨードベンジル(メタ)アクリレート、トリフェニルメチル(メタ)アクリレート、シンナミル(メタ)アクリレート;N−ベンジル(メタ)アクリルアミド、2,6−ジ−第三ブチル−4−((メタ)アクリロイルアミノメチル)フェノール);スチレン、1−ビニルナフタレン、9−ビニルアントラセン;N−(1−アリルアミノ−2,2,2−トリクロロ−エチル)−3−フェニル−(メタ)アクリルアミド;1−アリル−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリオン、1−アリル−3,5−ジグリシジル−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリオン等。
の炭素原子数1乃至5のアルキル基を表し、Rdはそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状
の炭素原子数1乃至5のアルキル基を表す。
また、後述する溶媒を除いた成分を固形分と定義すると、その固形分はポリマー及び、
架橋剤、その他必要に応じて添加される後述する添加剤を含む。固形分中のポリマーの割合は、例えば70質量%以上98質量%以下である。
本発明のレジスト下層膜形成組成物はさらに架橋剤を含む。その架橋剤としては、メラミン系、置換尿素系、エポキシ基を含有するポリマー系等が挙げられる。好ましくは、メチロール基又はアルコキシメチル基で置換された窒素原子を2乃至4つ有する含窒素化合物であり、本発明の組成物に含まれるポリマーに対し例えば1質量%以上30質量%以下の割合で添加することができる。
本発明のレジスト下層膜形成組成物はさらに溶媒を含む。本発明において使用される溶媒としては、前述のポリマーを溶解することができれば特に制限されず、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等を用いることができる。これらの有機溶媒は単独で、または2種以上の組合せで使用される。
そして、本発明のレジスト下層膜形成組成物に対する溶媒の割合は、例えば50質量%以上99.5質量%以下である。
本発明のレジスト下層膜形成組成物には、上記以外に必要に応じて界面活性剤、接着補助剤等、各種添加剤をさらに含んでもよい。
これらの界面活性剤は単独で添加してもよいし、また2種以上の組合せで添加することもできる。
、コリン等の第4級アンモニウム塩、ピロール、ピペリジン等の環状アミン類、等のアルカリ類の水溶液を使用することができる。さらに、上記アルカリ類の水溶液にイソプロピルアルコール等のアルコール類、ノニオン系等の界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。これらの中で好ましい現像液は第四級アンモニウム塩の水溶液、さらに好ましくはテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液である。
[GPC条件]
GPCカラム:Shodex〔登録商標〕Asahipak〔登録商標〕(昭和電工(株)製)
カラム温度:40℃
溶媒:N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)
流量:0.6ml/分
標準試料:標準ポリスチレン試料(東ソー(株)製)
ディテクター:RIディテクター(東ソー(株)製、RI−8020)
上記式(1)で表されるベンジルメタクリレート1.53g(東京化成工業(株))、上記式(2)で表されるヒドロキシプロピルメタクリレート1.49g(東京化成工業(株))、上記式(3)で表されるブチロラクトンメタクリレート1.44g(大阪有機化学工業(株))、及び上記式(4)で表される2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸0.05g(東京化成工業(株))に、プロピレングリコールモノメチルエーテル16.50gを加えた後、フラスコ内を窒素にて置換し、70℃まで昇温させた。重合開始剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル9gに溶解したアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.09gを窒素加圧下で添加し、24時間反応させ、下記式(5)で表される重合物を得た(2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸
仕込み量を基準として、X=1質量%)。当該反応生成物を含む溶液のGPC分析を行ったところ、標準ポリスチレン換算にて重量平均分子量は約70,000であった。
前記式(1)で表されるベンジルメタクリレート1.53g(東京化成工業(株))、前記式(2)で表されるヒドロキシプロピルメタクリレート1.49g(東京化成工業(株))、前記式(3)で表されるブチロラクトンメタクリレート1.40g(大阪有機化学工業(株))、及び前記式(4)で表される2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸0.09g(東京化成工業(株))に、プロピレングリコールモノメチルエーテル16.50gを加えた後、フラスコ内を窒素にて置換し、70℃まで昇温させた。重
合開始剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル9gに溶解したアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.09gを窒素加圧下で添加し、24時間反応させ、前記式(5)で表される重合物を得た(2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸
仕込み量を基準として、X=2質量%)。当該反応生成物を含む溶液のGPC分析を行ったところ、標準ポリスチレン換算にて重量平均分子量は約98,000であった。
前記式(1)で表されるベンジルメタクリレート1.53g(東京化成工業(株))、前記式(2)で表されるヒドロキシプロピルメタクリレート1.49g(東京化成工業(株))、前記式(3)で表されるブチロラクトンメタクリレート1.35g(大阪有機化学工業(株))、及び前記式(4)で表される2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸0.14g(東京化成工業(株))に、プロピレングリコールモノメチルエーテル16.50gを加えた後、フラスコ内を窒素にて置換し、70℃まで昇温させた。重合開始剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル9gに溶解したアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.09gを窒素加圧下で添加し、24時間反応させ、前記式(5)で表される重合物を得た(2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸
仕込み量を基準として、X=3質量%)。当該反応生成物を含む溶液のGPC分析を行ったところ、標準ポリスチレン換算にて重量平均分子量は約145,000であった。
前記式(1)で表されるベンジルメタクリレート1.53g(東京化成工業(株))、前記式(2)で表されるヒドロキシプロピルメタクリレート1.49g(東京化成工業(株))、及び前記式(3)で表されるブチロラクトンメタクリレート1.49g(大阪有機化学工業(株))に、プロピレングリコールモノメチルエーテル16.50gを加えた後、フラスコ内を窒素にて置換し、70℃まで昇温させた。重合開始剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル9gに溶解したアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.09gを窒素加圧下で添加し、24時間反応させ、下記式(6)で表される重合物を得た。当該反応生成物を含む溶液のGPC分析を行ったところ、標準ポリスチレン換算にて重量平均分子量は約60,000であった。
合成例1で得られた反応生成物を含む溶液5.01g(ポリマー濃度:16質量%)に、テトラメトキシメチルグリコールウリル(日本サイテックインダストリーズ(株)、商品名:POWDERLINK〔登録商標〕1174)0.21g、ビスフェノールS(東京化成工業(株))0.025g、プロピレングリコールモノメチルエーテル13.31g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート7.50gを加え、溶液と
した。その後、孔径0.01μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成用組成物を調製した。なおここで添加するビスフェノールSは、レジストパターンのすそ形状をいわゆるフッティング形状からストレート形状に調整するために添加した。本明細書で後述する実施例及び比較例においても同様の目的である。
合成例2で得られた反応生成物を含む溶液5.00g(ポリマー濃度:15質量%)に、テトラメトキシメチルグリコールウリル(日本サイテックインダストリーズ(株)、商品名:POWDERLINK〔登録商標〕1174)0.19g、ビスフェノールS(東京化成工業(株))0.024g、プロピレングリコールモノメチルエーテル13.31g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート7.03gを加え、溶液とした。その後、孔径0.01μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成用組成物を調製した。
合成例3で得られた反応生成物を含む溶液5.00g(ポリマー濃度:15質量%)に、テトラメトキシメチルグリコールウリル(日本サイテックインダストリーズ(株)、商品名:POWDERLINK〔登録商標〕1174)0.19g、ビスフェノールS(東京化成工業(株))0.024g、プロピレングリコールモノメチルエーテル12.06g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート7.01gを加え、溶液とした。その後、孔径0.01μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成用組成物を調製した。
合成例4で得られた反応生成物を含む溶液5.03g(ポリマー濃度:15質量%)に、テトラメトキシメチルグリコールウリル(日本サイテックインダストリーズ(株)、商品名:POWDERLINK〔登録商標〕1174)0.19g、架橋触媒としてピリジニウム−p−トルエンスルホネート0.012g(東京化成工業(株))、ビスフェノールS(東京化成工業(株))0.024g、プロピレングリコールモノメチルエーテル12.67g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート7.17gを加え、溶液とした。その後、孔径0.01μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過し、レジスト下層膜形成用組成物を調製した。
合成例4で得られた反応生成物を含む溶液5.01g(ポリマー濃度:15質量%)に、テトラメトキシメチルグリコールウリル(日本サイテックインダストリーズ(株)、商品名:POWDERLINK〔登録商標〕1174)0.19g、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸0.012g(東京化成工業(株))、ビスフェノールS(東京化成工業(株))0.024g、プロピレングリコールモノメチルエーテル12.70g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート7.17gを加え攪拌したが、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸は溶解しなかった。
前記実施例1〜3及び比較例1で調製したレジスト下層膜形成用組成物を、それぞれスピナーによりシリコンウエハー上に塗布した。ホットプレート上、205℃で1分間加熱し、レジスト下層膜を形成した。このレジスト下層膜をフォトレジストに使用する溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテル)に浸漬し、その溶剤に不溶であるか否かの確認実験を行った。評価の結果を表1に示す。
前記実施例1〜3及び比較例1で調製したレジスト下層膜形成用組成物を、それぞれスピナーによりシリコンウエハー上に塗布した。ホットプレート上、205℃で1分間ベークし、レジスト下層膜(膜厚0.06μm)を形成した。そして、これらのレジスト下層膜を分光エリプソメーター(J.A.Woollam社、VUV−VASE VU−302)を用い、波長193nmでのn値(屈折率)及びk値(減衰係数又は吸光係数)を測定した。結果を表2に示す。
前記実施例1〜3及び比較例1で調製したレジスト下層膜形成用組成物を、それぞれスピナーによりシリコンウエハー上に塗布した。ホットプレート上、205℃で1分間ベークし、レジスト下層膜を形成した。そして、日本サイエンティフィック(株)製RIEシステムES401を用い、ドライエッチングガスとしてCF4を使用する条件下でドライ
エッチング速度(単位時間当たりの膜厚の減少量)を測定した。
チング速度を測定した。
直径4インチのシリコンウエハー基板に、前記実施例1〜3及び比較例1で調製したレジスト下層膜形成組成物を、スピンコーターにて、1,500rpm、60秒間で塗布した。レジスト下層膜が塗布されたウエハーを、ホットプレートが一体化した昇華物量測定装置(国際公開第2007/111147号パンフレット参照)にセットして、120秒間ベークし、昇華物をQCM(Quartz Crystal Microbalance)センサー、すなわち電極が形成された水晶振動子に捕集した。QCMセンサーは、水晶振動子の表面(電極)に昇華物が付着するとその質量に応じて水晶振動子の周波数が変化する(下がる)性質を利用して、微量の質量変化を測定することができる。
前記実施例1〜3で調製したレジスト下層膜形成組成物を、スピナーによりシリコンウエハー上に塗布した。ホットプレート上で205℃1分間加熱し、膜厚50〜80nmのレジスト下層膜を形成した。このレジスト下層膜の上に、市販のフォトレジスト溶液(JSR(株)製、商品名:AR2772JN)をスピナーにより塗布し、ホットプレート上で110℃にて90秒間加熱してフォトレジスト膜(膜厚0.21μm)を形成した。
Claims (5)
- 前記ポリマーが、前記式(a)で表される構造単位に加え、下記式(b)乃至式(d)で表される構造単位を有する共重合体であることを特徴とする、請求項1記載のリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。
L2は単結合、−COO−基、−CONH−基、又は直鎖状若しくは分岐状の炭素原子数
1乃至5のアルキレン基を表し、
L3は単結合又は直鎖状若しくは分岐状の炭素原子数1乃至20のアルキレン基を表し、
Qは−NH−基又は−O−基を表し、
Aは芳香環基又は複素環式基を表し、
Bは直鎖状又は分岐状の炭素原子1乃至20個を有するヒドロキシアルキル基を表し、及び、
Dは置換基を有していてもよいラクトン環又はアダマンタン環を表す。) - 請求項1乃至請求項3のうちいずれか一項に記載のリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物を基板上に塗布し、焼成することにより得られる、リソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜の形成方法。
- 請求項1乃至請求項3のうちいずれか1項に記載のリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物を半導体基板上に塗布し焼成してレジスト下層膜を形成する工程、前記下層膜上にフォトレジスト膜を形成する工程、前記下層膜と前記フォトレジスト膜で被覆された半導体基板を露光する工程、露光後にアルカリ性現像液によって現像する工程を含む、フォトレジストパターンの形成方法。
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