JP2010225674A - 制御ユニット - Google Patents

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Abstract

【課題】電子部品の熱を、シリコングリス(熱伝導材)を介してカバーに伝達させ、カバーから大気中に放熱させる制御ユニットにおいて、シリコングリスの塗布を効率良く行え、かつ、シリコングリスの使用量を低減できるようにする。
【解決手段】第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gを、それぞれの放熱板204が、相互に平行に近接して対向するようにプリント基板400上に配置する。そして、前記放熱板204の対向領域の中央部位にシリコングリス600を塗布し、その後カバー502を組み付けることで、シリコングリス600を、対向配置される放熱板204それぞれ及びカバー502に密着させる。
【選択図】図1

Description

本発明は、電子部品が実装されたプリント基板を筐体に収容して構成される制御ユニットに関する。
特許文献1には、筐体に設けた突出部とプリント基板との間に、例えば、金属フィラーが含まれたシリコン系のゲル状の樹脂材料(熱伝導材)を配置し、プリント基板に実装された電子部品で発生した熱を、前記熱伝導材及び筐体を介して放熱させるようにした電子制御装置が開示されている。
特開2003−289191号公報
ところで、上記のように、熱伝導材を介して電子部品の熱を放熱させる放熱構造において、個々の電子部品毎に熱伝導材を塗布すると、塗布装置における塗布点が多くなって作業効率が悪化し、また、熱伝導材の使用量が多くなってしまうという問題があった。
本発明は上記実情に鑑みなされたものであり、熱伝導材の塗布を効率良く行え、かつ、熱伝導材の使用量を低減できるようにすることを目的とする。
そのため、本発明では、ヒートシンクを一体的に備えた複数の電子部品を、それぞれのヒートシンクが相互に近接して対向するようにプリント基板上に配置し、前記プリント基板を収容する筐体と前記プリント基板との隙間の前記ヒートシンクが対向する領域に柔軟性を有する熱伝導材を配するようにした。
上記発明によると、電子部品のヒートシンクが配置される領域に柔軟性を有する熱伝導材を配するから、電子部品に個々に塗布作業を行う場合に比べて、熱伝導材の塗布点を減少させることができ、また、熱伝導材の使用量を低減させることができる。
本発明に係る制御ユニットの第1実施形態を示す部分断面図である。 前記第1実施形態におけるプリント基板の上面図である。 前記第1実施形態における半導体チップを示す図である。 半導体チップの配置パターンの別の例を示す図である。 半導体チップの配置パターンの別の例を示す図である。 本発明に係る制御ユニットの第2実施形態を示す部分断面図である。 前記第2実施形態におけるプリント基板の上面図である。 本発明に係る制御ユニットの第3実施形態を示す部分断面図である。 本発明に係る制御ユニットの第4実施形態を示す部分断面図である。 本発明に係る制御ユニットの第5実施形態を示す部分断面図である。 本発明に係る制御ユニットの第6実施形態を示す部分断面図である。 本発明に係る制御ユニットの第7実施形態を示す部分断面図である。
以下に本発明の実施の形態を説明する。
図1及び図2は、本願発明に係る制御ユニットの第1実施形態を示し、図1は、図2のA−A断面図である。
図に示す制御ユニット100は、例えば、エンジンルームなどに配置され車両の制御に用いられるものであり、半導体チップ200やアルミ電解コンデンサ300などの複数の電子部品が実装されたプリント基板400と、該プリント基板400を収容する筐体500とから構成される。
本実施形態に記載される前記半導体チップ200は発熱量の多い電子部品であり、図3に示すように、側面201からリード202が取り出されると共に、前記側面201と平行な反対側の側面203には、半導体チップ200の熱を放熱させるためのヒートシンクである放熱板204が突出して設けられている。
前記筐体500は略四角箱状で、一方が開放されたケース501と、該ケース501の開放側を閉塞するカバー502との2部品からなり、前記プリント基板400を収容するための空間を形成する。
前記プリント基板400は、ケース501の開放部を覆うように、ケース501の底面505とプリント基板400の裏面(本実施形態における非実装面)401との間に隙間S1を有して設置され、更に、前記ケース501に対してカバー502が図外のねじ等で取り付け固定されるようになっている。
尚、プリント基板400の裏面にも、電子部品が実装させることができる。
そして、カバー502が取り付けられた状態で、カバー502の内面506と、半導体チップ200やアルミ電解コンデンサ300など電子部品との間には、最小値min以上の隙間S2が確保されるようになっている。
前記最小値minは、筐体500(ケース501及びカバー502)や電子部品の寸法ばらつき、プリント基板400の撓み・振動などを考慮し、電子部品がカバー502に当たることを避けられる値に設定される。
前記ケース501及びカバー502は、例えばアルミニウム等の金属によって形成される。
前記カバー502の表面503には、カバー502に伝達した前記半導体チップ200等の熱を大気中に放熱させるための複数のフィン(ヒートシンク)504が一体的に形成されている。
尚、前記フィン504を介して液体(水)に熱伝達させ、更に、前記液体(水)の熱を大気中に放出させる水冷方式とすることができる。
前記半導体チップ200は、プリント基板400の表面402(実装面)上に複数実装されるが、配置上可能な範囲で、隣接配置される半導体チップ200の放熱板204が相互に近接して配置(対向)するように、複数の半導体チップ200を配置してある。
例えば、第1半導体チップ200aと第2半導体チップ200bとは、それぞれの放熱板204が、相互に平行に近接して対向するようにプリント基板400上に配置される。
また、第3半導体チップ200c〜第5半導体チップ200eは、リード202及び放熱板204が設けられない側面205同士を近接させて直線的に並べられ、該並び方向の一方側(図2で左側)にリード202が配され、かつ、他方側(図2で右側)に放熱板204が配されるように、前記プリント基板400上に配置される。
更に、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gは、それぞれの放熱板204が、相互に平行に近接して対向するようにプリント基板400上に配置され、かつ、前記第3半導体チップ200c〜第5半導体チップ200eの並びの放熱板204が配される側に、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gの側面205が、前記第3半導体チップ200c〜第5半導体チップ200eそれぞれの放熱板204に対して近接して対向するようにプリント基板400上に配置される。
尚、放熱板204を相互に近接して対向させる半導体チップ200の配置は、図2に示した例に限定されるものではない。
例えば、図4に示すように、リード202及び放熱板204が設けられない側面205同士を近接させて直線的に並べられ、かつ、該並び方向の一方側にリード202が配され、かつ、他方側に放熱板204が配されるようにした複数の半導体チップ200の並びと、同じように、リード202及び放熱板204が設けられない側面205同士を近接させて直線的に並べられ、かつ、該並び方向の一方側にリード202が配され、かつ、他方側に放熱板204が配されるようにした複数の半導体チップ200の並びとを、相互の放熱板204が平行に近接して対向するようにプリント基板400上に配置させることができる。
また、図5に示すように、複数の半導体チップ200を、放熱板204を中心に向けて同心円に並べることができ、同心円上に並べられる半導体チップ200の数は、3,4乃至5以上のいずれであってもよい。
即ち、放熱板204を近接させる構成は、放熱板204相互が平行に対向する配置に限られず、傾斜をもって対向することが含まれ、換言すれば、1つの放熱板204の延長上に別の放熱板204が存在するように、複数の半導体チップ200を配置すればよい。
更に、発熱する電子部品であってヒートシンクを備える電子部品を、半導体チップに限定するものではなく、また、ヒートシンクの形状を板状のものに限定するものでもなく、例えばフィン形状のヒートシンクを備える電子部品であってもよい。
上記のようにしてプリント基板400上に配置される半導体チップ200は、前述のように発熱部品であり、前記放熱板204から熱を効率良く逃がすことで、半導体チップ200の昇温を抑制することができる。
そこで、本実施形態では、前記放熱板204と前記カバー502との間の隙間S2に、柔軟性を有するゲル状(半固体状、ペースト状)の熱伝導材であって、空気に比べて高い熱伝導率を示すシリコングリス600を介在させ、放熱板204の熱がシリコングリス600を介してカバー502に伝達され、カバー502に伝達された熱をフィン504によって大気中に放熱させるようにしてある。
尚、本実施形態では、柔軟性を有する熱伝導材として前記シリコングリス600を用いるが、シリコングリス600は、銀粉やアルミ粉を混ぜたものであってもよく、また、シリコングリス600に代えて、シリコンオイルを基油にシリカ粉末を配合したオイルコンパウンドや、エステルベースの合成グリスに熱伝導率の良い金属酸化物を混合して放熱性を得たサーマルコンパウンドなどを用いることができる。
前記シリコングリス600は、プリント基板400をケース501に取り付けた状態で塗布装置(塗布ロボット)を用いて、プリント基板400に対して塗布される。
ここで、本実施形態では、図2に示す通り、シリコングリス600は、第1半導体チップ200a及び第2半導体チップ200bに対しては、相互の放熱板204が対向する領域の略中央部位に塗布され、同様に、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gに対しては、相互の放熱板204が対向する領域の略中央部位に塗布されるようにしてある。
更に、第3半導体チップ200c〜第5半導体チップ200eについては、それぞれの放熱板204と、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gの側面205とが対向する領域の略中央部位にシリコングリス600が塗布される。
そして、シリコングリス600の塗布後に、カバー502をケース501に対して取り付けることで、カバー502が山状に塗布されたシリコングリス600を押し潰し、図1に示すように、前記カバー502と前記プリント基板400との隙間の半導体チップ200で挟まれる領域、及び、半導体チップ200の上面206の放熱板204側と前記カバー502との隙間に、シリコングリス600が充填され、シリコングリス600が放熱板204とカバー502とに密着する状態となる。
これにより、シリコングリス600は、放熱板204及びカバー502に密着し、放熱板204の熱は、シリコングリス600を介してカバー502に伝達されるようになる。
従って、空気を介して放熱板204の熱をカバー502に伝達させる場合に比べて、より多くの熱がカバー502(フィン504)に移動し、高い放熱効果を発揮する。
また、前記シリコングリス600は、柔軟性を有するため、例えば、プリント基板400の振動(例えば車両振動に起因する)・変形(例えば温度によってプリント基板400に生じる反り等)によって、シリコングリス600がプリント基板400に負荷を与えることがない。
ところで、前述のように、第1半導体チップ200a及び第2半導体チップ200b、更に、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gについては、放熱板204相互が対向するように配置されるので、対向領域の略中央部位にシリコングリス600を塗布することで、対向する2つの半導体チップ200それぞれについて、放熱板204とカバー502との間にシリコングリス600が介在するようにできる。
例えば、第1半導体チップ200a及び第2半導体チップ200bが同じ向きに配置されるなど、相互の放熱板204が近接して対向することがないように配置される場合には、シリコングリス600を第1半導体チップ200aと第2半導体チップ200bとでそれぞれ個別に塗布することが必要となる。
これに対し、第1半導体チップ200a及び第2半導体チップ200b、更に、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gのように、相互の放熱板204が近接して対向するように配置すれば、対向領域の中央部位にシリコングリス600を塗布することで、各半導体チップ200についてシリコングリス600を介在させる放熱構造を形成させることができる。
従って、半導体チップ200毎にシルコングリス600を塗布させる場合に比べて、シリコングリス600の塗布点を減らすことができ、塗布作業の効率を高めることができると共に、塗布するシリコングリス600の量を少なくできる。
上記のように、塗布点を減少させるべく、放熱板204を近接させて対向させるので、前記放熱板204の近接とは、対向する半導体チップ200に対し、共通的な塗布点でそれぞれの放熱板204からの熱伝達に必要なシリコングリス600を塗布することができる程度に近いことを意味する。
尚、図4に示すような半導体チップ200の配置は、第1半導体チップ200a及び第2半導体チップ200b、又は、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gの配置の連続と見なすことができるから、対向領域が延びる方向に沿ってシリコングリス600の塗布点を増やせばよい。
また、図5に示すように、放熱板204側を中心に向けて同心円に複数の半導体チップ200を配置する場合には、同心円の中心付近にシリコングリス600を塗布する。
図6及び図7は、本発明の第2実施形態を示し、ケース502の内面506から、放熱板204が配置される領域の略中央部位に向けて突出する壁状の突出部507を設けた点が、第1実施形態と異なる。
前記突出部507は、第1半導体チップ200a及び第2半導体チップ200bが配置される領域の中央部位に沿って延設される第1突出部507aと、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gが配置される領域の中央部位に沿って延設される第2突出部507bとからなる。
更に、第3半導体チップ200c〜第5半導体チップ200eそれぞれの放熱板204と、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gの側面205とが対向する領域の略中央部位に沿って延設される第3突出部507cを形成させても良い。
前記第3突出部507cを形成させる場合、前記第2突出部507bと一体のT字状の突出部とすることができ、また、第2突出部507bと第3突出部507cとをそれぞれ独立に形成させることができる。
前記突出部507は、半導体チップ200(放熱板204)に干渉しない幅Wに設定され、かつ、その先端508とプリント基板400の表面402(実装面)との間に、プリント基板400との干渉を防ぐための隙間S3が設けられるように、ケース502の内面506からの高さHが設定されている。
上記の突出部507a,507b(507c)を設けた場合、第1実施形態の効果に加え、更に、以下のような効果を奏する。
第2実施形態によると、シリコングリス600を塗布した後に、カバー502をケース501に対して取り付ける際に、前記突出部507a,507bが、山状に塗布されたシリコングリス600の中央を分断するように押し進むことになり、シリコングリス600は、対向配置される双方の半導体チップ200に向けて押し分けられるので、対向領域の中央部位に塗布したシリコングリス600を各半導体チップ200に分配して、シリコングリス600の偏りを抑制することができる。
また、前記突出部507a,507b(507c)によって、シリコングリス600を各半導体チップ200の放熱板204に押し付けるようにできるので、放熱板204に対するシリコングリス600の密着度を高めることができる。
更に、突出部507a,507b(507c)がシリコングリス600の熱をフィン504に伝達し、かつ、放熱板204から近い位置に突出部507が位置するから、熱伝達経路として放熱板204からカバー502までの距離を短くした場合と同様に作用し、放熱効率を高めることができる。
また、半導体チップ200が対向する空間容積の一部を、前記突出部507a,507b(507c)が占めることになるので、その分、シリコングリス600の塗布量(使用量)を減らすことが可能となる。
図8は、本発明の第3実施形態を示し、前記第2実施形態に対して、突出部507の高さを、プリント基板400を突出部507の先端508が貫通する長さに設定し、かつ、前記突出部507の先端508を挿通させる貫通孔403(スリット)をプリント基板400に開口させた点が異なる。
第3実施形態では、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gが対向配置される領域の中央部位に沿って、前記突出部507bの先端508を挿通させ得る幅及び長さの貫通孔403bをプリント基板400に形成してある。
また、図示は省略するが、第1半導体チップ200a及び第2半導体チップ200bが対向配置される領域の中央部位に沿って、前記突出部507aの先端508を挿通させ得る幅及び長さの貫通孔、更に、突出部507cが形成される場合には、この突出部507cを挿通させ得る幅及び長さの貫通孔が、前記貫通孔403bと同様に形成されるものとする。
一方、前記突出部507bは、前記貫通孔403bを貫通して、その先端508が、プリント基板400の裏面401と略同一面になるように、ケース502の内面506からの高さを設定してあり、前記突出部507a,507cについても同様な高さ設定がなされているものとする。
上記第3実施形態によると、プリント基板400と突出部507b(507a,507c)とが干渉することを抑制しつつ、突出部507b(507a,507c)を放熱板204に対してより近い位置に配することができ、より高い放熱効果を得られると共に、シリコングリス600の量をより低減することができる。
即ち、突出部507b(507a,507c)の先端508を、プリント基板400の表面402(実装面)に近づけるほど、突出部507b(507a,507c)と放熱板204との距離が短くなり、放熱板204から突出部507b(507a,507c)に対する熱伝達を効率よく行わせることができるが、突出部507b(507a,507c)とプリント基板400との距離が短いと、寸法ばらつきや振動などによって突出部507a,507bの先端508がプリント基板400に突き当たり、プリント基板400に負荷を与える可能性がある。
これに対し、第3実施形態のように、突出部507b(507a,507c)がプリント基板400を貫通していれば、プリント基板400の表裏方向における寸法ばらつきや振動に対して、突出部507b(507a,507c)とプリント基板400とが干渉する(当たる)ことがなく、突出部507b(507a,507c)と放熱板204との距離を最短に設定でき、これによって、プリント基板400に負荷を与えることなく、第2実施形態よりも放熱効果を高めかつシリコングリス600の塗布量(使用量)を減らすことができる。
尚、上記のように、プリント基板400に貫通孔403bを開口させる場合には、シリコングリス600の粘度及び/又は貫通孔403bの開口幅(突出部507bの幅)を調整し、カバー502を組み付ける前の段階で、貫通孔403bからのシリコングリス600の流出を抑制することが好ましい。
また、図8では、突出部507b(507a,507c)の先端508がプリント基板400の裏面401と略同一面になるように、突出部507(507a,507c)の高さを設定したが、
図9に示す第4実施形態のように、突出部507b(507a,507c)がプリント基板400に設けた貫通孔403bに挿通され、かつ、その先端508が、ケース501の底面505に突き当たるように、前記突出部507b(507a,507c)の高さを設定することができる。
上記のように、突出部507b(507a,507c)の先端508がケース501の底面505に突き当たるようにすれば、突出部507b(507a,507c)が、カバー502とケース501とで構成されるプリント基板400の収容空間を上下方向に支える壁として機能し、カバー502及びケース501のプリント基板400側への撓みが抑制される。
従って、カバー502及びケース501と、プリント基板400及び該プリント基板400に実装される半導体チップ200やアルミ電解コンデンサ300などの複数の電子部品との干渉の発生を抑制しつつ、ケース501の底面505とプリント基板400(又は電子部品)との隙間を小さくし、また、カバー502の内面506(天井面)と電子部品との隙間を小さくできる。
これにより、制御ユニット100を薄型化でき、また、シリコングリス600を介する伝熱経路を短くして放熱効率を高め、更に、シリコングリス600の使用量を減らすことができる。
ところで、前記シリコングリス600等の柔軟性を有するゲル状の熱伝導材が、振動や重力などによって、半導体チップ200が配置される領域から移動してしまうと、放熱板204からカバー502に向けての熱伝達経路に、熱伝導率の低い空気が介在することになって、放熱性能が低下してしまう。
上記のようなシリコングリス600の流出を防止する手段を備えた第5実施形態を、図10に従って説明する。
図10に示す第5実施形態は、前記第1実施形態の制御ユニット100に対して、シリコングリスの流出防止手段として、カバー502の内面506(天井面)に、少なくともシリコングリス600の塗布領域を囲む壁を形成した点が異なる。
図10において、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gの放熱板204が対向する領域の中央部位を挟む両側であって、シリコングリス600の塗布領域の境界付近に、カバー502の内面506(天井面)から突出形成される一対の壁510a,510bを形成してある。
尚、図示は省略したが、第1半導体チップ200a及び第2半導体チップ200bの放熱板204が対向する領域の中央部位を挟んで両側にも、同様に、カバー502の内面506(天井面)から突出形成される一対の壁を形成してあるものとする。
前記壁510a,510bは、半導体チップ200との間において、半導体チップ200との干渉を回避できる大きさの隙間が確保されるように、その高さH1が設定されている。
上記壁510a,510bを設けることで、振動や重力などによってシリコングリス600が半導体チップ200を乗り越えるようにして流出することが抑制され、所期の放熱性能を維持させることができる。
図10に示した第5実施形態では、第1実施形態に対してシリコングリス600の流出防止の壁510a,510bを設けたが、図11に示す第6実施形態のように、半導体チップ200の放熱板204が対向する領域の略中央部位に向けて突出する突出部507を形成させる第2実施形態に対して、上記第5実施形態と同様な壁510a,510bを設けることができる。
即ち、第6実施形態では、前記一対の壁510a,510bは、突出部507bの両側に、突出部507bと略平行に形成されることになる。
上記第6実施形態では、カバー502をケース501に取り付ける際に、突出部507b(507a)が、シリコングリス600を対向する両方の半導体チップ200に向けて押し分けるように機能するが、このときに半導体チップ200に向かうシリコングリス600の流動が、前記壁510a,510bで抑制される結果、半導体チップ200の対向領域(壁510a,510bで挟まれる領域内)でのシリコングリス600を圧力が高まり、前記対向領域にシリコングリス600が充填された後に、余分なシリコングリス600が突出部507の延設方向に沿って流動することになる。
従って、前記壁510a,510bは、組み立て後のシリコングリス600の流出を抑制する働きをすると共に、カバー502の組み付け時に、半導体チップ200の対向領域に対するシリコングリス600の充填性能を高める働きをする。
尚、第3実施形態或いは第4実施形態のように、突出部507がプリント基板400を貫通する構成においても、前記壁510a,510bを付加することができ、その場合の作用・効果は、前記第6実施形態と同様である。
前記壁510a,510bは、放熱板204が対向する領域の中央部位を挟む両側に形成されるが、図12の第7実施形態に示すように、放熱板204が対向する領域の側方に、シルコングリス600の流出を抑制するための壁511を、シリコングリス600の塗布領域を囲むように形成させることができる
具体的には、第1半導体チップ200a及び第2半導体チップ200bの放熱板204が対向する領域を両側部に、一対の壁511a,511bを対向配置し、第6半導体チップ200f及び第7半導体チップ200gの放熱板204が対向する領域における、第3半導体チップ200c〜第5半導体チップ200eとは反対側の側方に壁511cを形成してある。
更に、図12に示す例では、第3半導体チップ200c〜第5半導体チップ200eの並び方向の両端にも、第3半導体チップ200c〜第5半導体チップ200eの熱を伝達するシリコングリス600の流出を抑制するための一対の壁511d,511eを形成してある。
前記壁511a〜511eは、その先端とプリント基板400との干渉を回避できる最小隙間でプリント基板400に近接するように、カバー502の内面506(天井面)からの高さが設定されている。
前記壁511a〜511eを備える構成であれば、放熱板204が対向する領域から側方に向けたシリコングリス600の流出が抑制され、所期の放熱性能を維持させることができる。
尚、前記突出部507を備える構成に、前記前記壁511a〜511eを付加することができ、更に、シリコングリス600が半導体チップ200を乗り越えて流出することを抑制する壁510a,510bと、放熱板204が対向する領域から側方に向けてシリコングリス600が流出することを抑制する壁511a〜511eとを、組み合わせて設けるようにすることができる。
また、カバー502の内面506(天井面)から突出形成される壁によって、シリコングリス600の塗布領域を全周にわたって囲むようにすることができる。
更に、カバー502の内面506(天井面)から突出形成される壁と、例えば、液状ガスケットをシールが要求される部分に塗布し、これを硬化させるガスケットシール(FIPG)とを併用することも可能である。
また、各実施形態における半導体チップ200は、プリント基板400の外縁部近傍に配置することで、放熱板204から近い位置に筐体500が位置することで、熱伝導経路の距離が短くなり、放熱効果を高めることができる。
100…制御ユニット、200…半導体チップ(電子部品)、204…放熱板(ヒートシンク)、400…プリント基板、403…貫通孔、500…筐体、501…ケース、502…カバー、504…フィン、507…突出部、510a,510b…壁、511a〜511e…壁、600…シリコングリス(熱伝導材)

Claims (3)

  1. ヒートシンクを一体的に備えた複数の電子部品と、該複数の電子部品が実装されるプリント基板と、前記プリント基板を収容する筐体とを有する制御ユニットにおいて、
    前記複数の電子部品を、それぞれのヒートシンクが相互に近接して対向するように前記プリント基板上に配置し、前記筐体と前記プリント基板との隙間の前記ヒートシンクが対向する領域に柔軟性を有する熱伝導材を配したことを特徴とする制御ユニット。
  2. 前記筐体の内面に、前記ヒートシンクが対向する領域に向けて突出する突出部を設けたことを特徴とする請求項1記載の制御ユニット。
  3. 前記筐体の内面に、前記熱伝導材が配される領域の周囲に壁を設けたことを特徴とする請求項1又は2記載の制御ユニット。
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