JP2010225672A - フォトレジスト除去装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
洗浄対象の基板を支持して回転する支持台と、支持台の上方に、注水口を下方に向けて配設された洗浄ノズルと、洗浄ノズルに高濃度オゾン水を供給する高濃度オゾン水供給装置とを備えたフォトレジスト除去装置において、洗浄ノズルを、基板の半径方向に所定の間隔で配置された複数の単位洗浄ノズルから構成する。
基板の単位面積あたり供給されるオゾン量が均一化される。
【選択図】図1
Description
しかし、この方法では、溶剤や薬品を含む大量の廃液が生じる上に、これらの溶剤や薬品は一般に排出規制があるため、特別の処理施設を必要とし、コスト面及び環境面の両面で大きい負担となっていた。
しかしながら、オゾンは従来から使用されていた、たとえば、硫酸と過酸化水素水の混合液と比較して強い酸化力を持っているものの、オゾンは自己分解性質を持っているため、シリコン基板の表面に均一にオゾン水に含有されているオゾンを供給しないと、フォトレジストの除去が不均一になるという問題があった。
しかしながら、この方法でも基板の中心部と周縁部では、基板表面を流れるオゾン水の水量に大きい違いがあるため、基板全体の残存するフォトレジストを均一に除去することは難しい。
また、オゾン水によるフォトレジストの除去方法では、フォトレジストとオゾンの反応生成物が基板の周縁部に沈着して、フォトレジストとオゾンの接触を阻害し、このことも周縁部のフォトレジストの除去を困難にする原因となっていた。
また、この実施形態で用いる支持台としては、2000〜6000r.p.mで回転する汎用の回転支持台を使用することができる。
これによって、従来、中心部側だけに配設されていたため、周縁部のオゾン水の水量が少なくなり、これに起因して生じていた、剥離の不均一が改善される。
また、基板の半径方向に配設された複数の単位洗浄ノズルによって、洗浄対象の基板の単位面積あたり供給されるオゾン量の差をより小さくするためには、(1)基板の半径方向に配設する単位洗浄ノズルの数を、中心部側から周縁部側に向かって多くなるようにする、(2)基板の半径方向に配設する単位洗浄ノズルから吐出する高濃度オゾン水の流量を、中心部側から周縁部側に向かって多くなるようにする、(3)基板の半径方向に配設する単位洗浄ノズルから吐出する高濃度オゾン水のオゾン濃度を、中心部側から周縁部側に向かって高濃度とする、(4)これらの方法を組み合わせる、等の方法をとることができる。
この問題を回避するには、基板の径方向に配設する複数の単位洗浄ノズルを、基板上の流れが重ならずに、均一な水流となるよう配置することが望ましい。
洗浄ノズルを、基板の半径方向に所定の間隔で配置する際に、半径方向に一列に配置する設計とした場合、この洗浄ノズル列を、周縁部部側が回転方向に変位する開螺旋状にすると、中心部側の洗浄ノズルからの吐出水が周縁部側の洗浄ノズルからの吐出水と重ならないため、フォトレジストとオゾンの反応生成物が基板の周縁部に沈着するのを防止することができる。
以上は、回転する支持台を用いるフォトレジスト除去装置において、オゾン水の基板の周縁部側の吐出量を増加させる方法であるが、これらの方法に代えて、またはこの方法とともに周縁部側の単位洗浄ノズルから吐出するオゾン水のオゾン濃度を高くすることもできる。
ただ、この方法においても、この吐出された領域から洗浄ノズルが離れていくと、高濃度オゾン水の水流がゆるやかになって、フォトレジストとオゾンの反応生成物が基板表面に沈着するおそれがある。
したがって、この実施形態においても、反応生成物の沈着を防ぐために、一列に配列された洗浄ノズルの移動方向後方に、基板の直径にわたりエアナイフを配置し、洗浄済みの領域への高濃度オゾン水の流れ込みを防ぐとともに沈着した反応生成物を除去することが望ましい。
さらに、一定以上のオゾン濃度が維持できる高濃度高温オゾン水製造装置から供給される高高濃度温オゾン水、たとえば、70度以上のオゾン水を使用して、フォトレジストとの反応速度を高めることも可能である。
図1に示すように、この実施例のフォトレジスト除去装置1は、モータ2で駆動され水平面内を2000〜6000r.p.mで回転する支持台3と、高濃度オゾン水供給装置4と、支持アーム5に取り付けられた洗浄ノズル6を備えている。
高濃度オゾン水供給装置4は、オゾナイザーで生成されたオゾンガスを供給するオゾンガス供給管4aからの濃度210g/m3のオゾンガスを、超純水供給管4bから供給される超純水に溶解させて140ppmの濃度の高濃度オゾン水を調整し、この高濃度オゾン水を管路6を介して洗浄ノズル7に供給する。
洗浄ノズル7は、支持アーム5に保持される管路6の下端に、支持台3の移動方向と直交して配置されている。この洗浄ノズル7には、下方に向けて径方向に等間隔で多数の単位洗浄ノズル7a,7a,……が配設されている。符号8は高濃度オゾン水の単位洗浄ノズル7aへ供給される高濃度オゾン水の開閉バルブ、9は排液受けである。
これに対して、基板10の中心に配置した円筒管から高濃度オゾン水を同量吐出させるようにした従来のフォトレジスト除去装置では、30秒間の洗浄では、基板表面の周縁部にフォトレジストの未剥離部分が残った。
したがって、この実施例のフォトレジスト除去装置によれば、周縁部に流れる高濃度オゾン水の水流が均一になり、フォトレジストとオゾンの反応生成物が周縁部に沈着しにくくなる。
さらに、この実施例では、洗浄ノズル11の回転方向後方に、エアナイフ12を配置して、各単位洗浄ノズル11aから高濃度オゾン水が吐出する前に、基板の表面に沈着したフォトレジストとオゾンの反応生成物を高圧空気で除去するようにしたので、周縁部に残存するフォトレジストも完全に除去することができる。
この洗浄ノズル19は、支持台16が一方向に進行(前進)するときに、各単位洗浄ノズル19aから高濃度オゾン水を吐出するようにされている。
また、洗浄ノズル19の前進方向Fに対して後方に、実施例1と同様のエアナイフ20が配設されている。
この実施例では、支持台16に不要なフォトレジストが残存するシリコン基板15を支持させた後、支持台16を前進(F)させつつ、単位洗浄ノズル19aから高濃度オゾン水を吐出し、エアナイフ20から高圧空気を噴出させる。
この実施形態のフォトレジスト除去装置によれば、基板13のすべての領域に同じ時間だけ単位洗浄ノズル17aから高濃度オゾン水が直接噴射され、かつ、単位洗浄ノズル17aの通過とともにエアナイフ18の圧縮空気の噴射によって高濃度オゾン水をせき止めて洗浄後の基板表面への反応生成物の沈着を防止するので、より均一なフォトレジストの除去が可能となる。
図8において、符号40a,40b,40c,……は、図1の高濃度オゾン水供給装置4と同じ構造のものであるが、オゾンガス供給管41aからの濃度210g/m3のオゾンガスと超純水供給管41bの供給比率を変えることにより、オゾン濃度が中心部側から周縁部側にいくにしたがって高くなるようにされている。なお、図1と共通する符号は、図1と同一の事項を示している。
高濃度オゾン水供給装置40a,40b,40c,……からの高濃度オゾン水は、それぞれ中心部側の単位洗浄ノズル42aから,単位洗浄ノズル42b……と周縁部の単位洗浄ノズルにいくほどオゾン濃度の高い高濃度オゾン水が供給されるようになっている。
したがって、この実施例のフォトレジスト除去装置によれば、周縁部の単位洗浄ノズルがより濃度の高い高濃度オゾン水を供給されるため、基板の周縁部のオゾンの反応性が高められ、周縁部における高濃度オゾン水の反応性が改善される。
2……モータ
3……回転する支持台
4……高濃度オゾン水供給装置
5……支持アーム
7,11,13,14,19……洗浄ノズル
7a,11a,13a,14a,19a……単位洗浄ノズル
8……開閉バルブ
9……排液受け
10……基板
12,20……エアナイフ
Claims (6)
- 洗浄対象の基板を支持して回転する支持台と、前記支持台の上方に、注水口を下方に向けて配設された洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルに高濃度オゾン水を供給する高濃度オゾン水供給装置とを備えたフォトレジスト除去装置であって、
前記洗浄ノズルは、前記基板の半径方向に所定の間隔で配置された複数の単位洗浄ノズルからなり、
前記各単位洗浄ノズルは、前記の基板の単位面積あたり供給されるオゾン量の差が小さくなるように、独立的に構成されていることを特徴とするフォトレジスト除去装置。 - 前記複数の単位洗浄ノズルの吐出量は同一であり、設置される洗浄ノズルの数は、回転支持台の中心部側から周縁部側に遠ざかるにつれて多くされていることを特徴とする請求項1記載のフォトレジスト除去装置。
- 前記複数の単位洗浄ノズルの吐出量は、回転支持台の中心部側から周縁部側に遠ざかるにつれて多くされていることを特徴とする請求項1記載のフォトレジスト除去装置。
- 前記複数の単位洗浄ノズルから吐出される高濃度オゾン水のオゾン濃度は、回転支持台の中心部側から周縁部側に遠ざかるにつれて高濃度とされていることを特徴とする請求項1記載のフォトレジスト除去装置。
- 前記支持台の上方に、前記基板に向けて高エネルギー線を照射する照射装置が配設されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載のフォトレジスト除去装置。
- 洗浄対象の基板を支持する支持台と、前記支持台の上方に、注水口を下方に向けて配設された洗浄ノズルと、前記支持台と前記洗浄ノズルを平面上で平行的に相対移動させる駆動機構と、前記洗浄ノズルに高濃度オゾン水を供給する高濃度オゾン水供給装置とを備えたフォトレジスト除去装置であって、
前記洗浄ノズルは、複数の単位洗浄ノズルを、移動方向から見て、前記基板を横切るように配置されてなることを特徴とするフォトレジスト除去装置。
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