JP5006111B2 - フォトレジスト除去装置 - Google Patents
フォトレジスト除去装置Info
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以上の構成から成る本発明に係るフォトレジスト除去装置1の作用を以下説明する。ここでは、フェノール樹脂から成るフォトレジスト(例.ノボラック樹脂系フォトレジスト)として使用した場合で説明する。
本発明者らが、本発明に係るフォトレジスト除去装置1を使用し、フォトレジストの除去の実験を行った。この実験例について以下説明する。この実験例では、回転支持台3上に基板9としてシリコンウェハを載置し、フォトレジストが残存付着したシリコンウェハ上に高濃度オゾン水を注水するとともに、エキシマー光を照射し、シリコンウェハ上のフォトレジストを除去し、残存フォトレジストの厚さ(膜厚)を測定して除去効果を評価した。
(1)オゾン水の注水とエキシマー光の照射を同時並行的に行う場合(実験結果を示す図4中、◇…300rpm+Parallel、◆…600rpm+Parallel)と、
(2)エキシマー光を照射後、オゾン水を注水する場合(図4中、□…300rpm+Separate、灰色□…600rpm+Separate)について、それぞれ測定及び評価を行った。
さらに、
(3)シリコンウェハの回転数を600rpmとして、エキシマー光を照射しない場合(図4中、*…600rpm)について測定及び評価を行った。
2 モータ
3 回転支持台
4 高濃度オゾン水供給装置
5 支持アーム
6 ネジ
7 洗浄ノズル
8 エキシマー光照射源
9 基板
11 円筒管
12 注水口
13 透明円盤
13 透明円盤
14 隙間(細隙)
15 薄液膜
d 隙間の間隔寸法
Claims (6)
- 洗浄対象の基板を支持して回転する回転支持台と、洗浄ノズルと、該洗浄ノズルに高濃度オゾン水を供給する高濃度オゾン水供給装置と、紫外光照射源とを備えたフォトレジスト除去装置であって、
前記洗浄ノズルは、高濃度オゾン水を注水する1本の円筒管と、該円筒管の下端の注水口が開口するように該円筒管の下端に取り付けられた透明円盤とを有し、該円筒管の下端の注水口は、前記透明円盤の下面の中心に開口するように構成されており、
前記透明円盤は、紫外光照射源からの紫外光を透過可能であるとともに、前記回転支持台に支持された前記基板に対して一定間隔の隙間を介して対向するように配置されており、
前記回転支持台を回転させて、前記円筒管から注水される高濃度オゾン水を、前記基板表面において厚さの均一な薄液膜として該基板の中心から放射方向に流しながら、前記紫外光を透明な透明円盤の全面を透過させて前記基板の全表面に照射することにより、該基板表面に残存しているフォトレジストを除去する構成であり、
前記フォトレジストはフェノール樹脂であり、前記基板の中心から放射方向に流されながら紫外光が照射された高濃度オゾン水の一部は光分解されOHラジカルが生成され、該OHラジカルがフォトレジストのフェノールをポリフェノールに変え、該ポリフェノールに、前記高濃度オゾン水中の未分解オゾンを反応させてポリマー主鎖のC−C結合を切断し断片化して、前記基板から剥離する構成であることを特徴とするフォトレジスト除去装置。 - 前記紫外光照射源は、エキシマー光照射源であり、前記紫外光としてエキシマー光であることを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト除去装置。
- 前記透明円盤は合成石英ガラスから成ることを特徴とする請求項1又は2に記載のフォトレジスト除去装置。
- 前記隙間は、1〜3mmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のフォトレジスト除去装置。
- 紫外光照射源とは、200nmより300nmをピークとする光源であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のフォトレジスト除去装置。
- 該円筒管の下端の注水口が開口するように該円筒管の下端に取り付けられた透明円盤により、フォトレジストと高濃度オゾン水との化学的反応効率を改善することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のフォトレジスト除去装置。
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