JP2010219080A - 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 - Google Patents

光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2010219080A
JP2010219080A JP2009060372A JP2009060372A JP2010219080A JP 2010219080 A JP2010219080 A JP 2010219080A JP 2009060372 A JP2009060372 A JP 2009060372A JP 2009060372 A JP2009060372 A JP 2009060372A JP 2010219080 A JP2010219080 A JP 2010219080A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
optical element
support member
shape
optical system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009060372A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2010219080A5 (enExample
Inventor
Choshoku Sai
長植 崔
Makoto Mizuno
誠 水野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2009060372A priority Critical patent/JP2010219080A/ja
Publication of JP2010219080A publication Critical patent/JP2010219080A/ja
Publication of JP2010219080A5 publication Critical patent/JP2010219080A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
JP2009060372A 2009-03-13 2009-03-13 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置 Pending JP2010219080A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009060372A JP2010219080A (ja) 2009-03-13 2009-03-13 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009060372A JP2010219080A (ja) 2009-03-13 2009-03-13 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010219080A true JP2010219080A (ja) 2010-09-30
JP2010219080A5 JP2010219080A5 (enExample) 2012-04-26

Family

ID=42977642

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009060372A Pending JP2010219080A (ja) 2009-03-13 2009-03-13 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010219080A (enExample)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012248849A (ja) * 2011-05-25 2012-12-13 Carl Zeiss Smt Gmbh 照明光学ユニットを設定する方法及び装置
CN113933948A (zh) * 2020-06-29 2022-01-14 上海微电子装备（集团）股份有限公司 镜组调节机构、可调式光学系统及光刻设备
JP2022519064A (ja) * 2019-01-30 2022-03-18 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学配置を有する半導体リソグラフィのための投影露光システム

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2694043B2 (ja) * 1990-10-08 1997-12-24 キヤノン株式会社 投影型露光装置
JPH10312957A (ja) * 1997-05-09 1998-11-24 Canon Inc 露光方法およびデバイス製造方法
JP2000195788A (ja) * 1998-12-23 2000-07-14 Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss 光学システム、特にマイクロリソグラフィ―に用いられる投影照明ユニット
JP2001343575A (ja) * 2000-03-31 2001-12-14 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
JP2002519843A (ja) * 1998-06-20 2002-07-02 カール・ツアイス・スティフツング・トレーディング・アズ・カール・ツアイス 光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置
JP2003532138A (ja) * 2000-04-25 2003-10-28 エーエスエムエル ユーエス，インコーポレイテッド 光学系における収差の能動補償のための装置、システム、および方法
JP2004031491A (ja) * 2002-06-24 2004-01-29 Nikon Corp 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
JP2007206643A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Canon Inc 光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2694043B2 (ja) * 1990-10-08 1997-12-24 キヤノン株式会社 投影型露光装置
JPH10312957A (ja) * 1997-05-09 1998-11-24 Canon Inc 露光方法およびデバイス製造方法
JP2002519843A (ja) * 1998-06-20 2002-07-02 カール・ツアイス・スティフツング・トレーディング・アズ・カール・ツアイス 光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置
JP2000195788A (ja) * 1998-12-23 2000-07-14 Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss 光学システム、特にマイクロリソグラフィ―に用いられる投影照明ユニット
JP2001343575A (ja) * 2000-03-31 2001-12-14 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
JP2003532138A (ja) * 2000-04-25 2003-10-28 エーエスエムエル ユーエス，インコーポレイテッド 光学系における収差の能動補償のための装置、システム、および方法
JP2004031491A (ja) * 2002-06-24 2004-01-29 Nikon Corp 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
JP2007206643A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Canon Inc 光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012248849A (ja) * 2011-05-25 2012-12-13 Carl Zeiss Smt Gmbh 照明光学ユニットを設定する方法及び装置
JP2022519064A (ja) * 2019-01-30 2022-03-18 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学配置を有する半導体リソグラフィのための投影露光システム
JP7579788B2 (ja) 2019-01-30 2024-11-08 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学配置を有する半導体リソグラフィのための投影露光システム
CN113933948A (zh) * 2020-06-29 2022-01-14 上海微电子装备（集团）股份有限公司 镜组调节机构、可调式光学系统及光刻设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4565261B2 (ja) 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
JP4505989B2 (ja) 収差測定装置並びに測定方法及び該装置を備える投影露光装置並びに該方法を用いるデバイス製造方法、露光方法
TW517279B (en) Optical element holding device for exposure apparatus
JP5525559B2 (ja) リソグラフィ装置
JP2010262284A (ja) 保護装置、マスク、マスク形成装置、マスク形成方法、露光装置、デバイス製造方法、及び異物検出装置
US20050078386A1 (en) Retainer, exposure apparatus, and device fabrication method
TW201525524A (zh) 光學設備、投影光學系統、曝光設備、及製造物品的方法
KR20060054053A (ko) 광학 소자 유지 장치, 경통, 노광 장치 및 디바이스의 제조방법
JP5168507B2 (ja) 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
JP2010219080A (ja) 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置
TW200848828A (en) Optical element holding apparatus
JP2001023886A (ja) 試料保持装置及び露光装置
TW552469B (en) Apparatus and method of holding mask, and exposure apparatus
US8064152B2 (en) Supporting device, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US20100296182A1 (en) Optical element position adjusting mechanism and optical element position adjusting method, exposure apparatus using same, and device manufacturing method
JP2013106017A (ja) 光学素子保持装置、光学装置、及び露光装置
TW201007376A (en) Deforming mechanism, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2011035102A (ja) 光学素子の保持装置、それを用いた露光装置、及びデバイスの製造方法
JP6808381B2 (ja) 保持装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法
JP2010135492A (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JP2006066836A (ja) 光学部材の支持構造、及び露光装置
JP5556155B2 (ja) 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法
US20130250271A1 (en) Stage assembly with secure device holder
WO2018008364A1 (ja) 光学装置、露光装置及び物品の製造方法
TW202221425A (zh) 用於量測在半導體微影之投影曝光設備中的致動器的方法與裝置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120313

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120313

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130213

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130219

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130618