JP2010217877A5

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Publication number: JP2010217877A5
Application number: JP2010026086A
Authority: JP
Filing date: 2010-02-09
Publication date: 2013-02-28
Anticipated expiration: 2030-02-09

Description

本発明の第５の態様に従えば、本発明にかかる露光装置を用いて、前記パターンを基板に転写する工程と、
前記パターンが転写された前記基板を現像し、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を前記基板に形成する工程と、
前記転写パターン層を介して前記基板を加工する工程と、
を含むデバイス製造方法が提供される。
本発明の第６の態様に従えば、第１方向に沿って移動する感光性の第１基板と第２基板とを、前記第１方向と直交した第２方向に並べて配置した状態で、デバイス用のパターンからの光束を前記第１基板と第２基板の各々に投影露光する露光装置であって、
前記パターンからの光束を入射して前記パターンの中間像を空間的に離れた２ヶ所の各々に形成する中間結像光学系と、前記中間像の一方を第１結像領域に投影する第１結像光学系と、前記第１結像領域を前記第１基板上に設定するように光路を折り曲げる第１反射部材と、前記中間像の他方を第２結像領域に投影する第２結像光学系と、前記第２結像領域を前記第２基板上に設定するように光路を折り曲げる第２反射部材と、を有する投影光学系を備え、
前記投影光学系は、前記２ヶ所に中間像を形成する為に、前記中間結像光学系の瞳位置またはその近傍の位置に配置されて、前記パターンからの光束を異なる２方向に反射させる分割反射部を含むことを特徴とする露光装置が提供される。
本発明の第７の態様に従えば、本発明の第６の態様の露光装置を用いて、前記第１基板と第２基板の各々に前記パターンを転写した後に、前記第１基板と第２基板を処理して、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を前記第１基板と第２基板の各々に形成する工程、を含むことを特徴とするデバイス製造方法が提供される。

Claims

感光性を有する第１基板を第１方向に沿って第１の向きに移動させ、且つ感光性を有する第２基板を前記第１方向に沿って前記第１の向きとは反対の第２の向きに移動させる移動機構と、
パターンを有するマスクを保持し、前記第１基板および前記第２基板の前記第１方向への移動に同期して、第２方向に沿って第３の向きに移動するステージ機構と、
前記パターンを介した光を受光し、前記マスク上の前記第３の向きと前記第１基板上の前記第１の向きとが光学的に対応するように前記パターンの第１投影像を前記第１基板上に形成し、前記マスク上の前記第３の向きと前記第２基板上の前記第２の向きとが光学的に対応するように前記パターンの第２投影像を前記第２基板上に形成する投影光学系と、を備えることを特徴とする露光装置。
感光性を有する帯状の基板の第１部分を第１方向に沿って第１の向きに移動させ、且つ前記基板の第２部分を前記第１方向に沿って前記第１の向きと反対の第２の向きに移動させる移動機構と、
パターンを有するマスクを保持し、前記第１部分および前記第２部分の前記第１方向への移動に同期して、第２方向に沿って第３の向きに移動するステージ機構と、
前記パターンを介した光を受光し、前記マスク上の前記第３の向きと前記第１部分上の前記第１の向きとが光学的に対応するように前記パターンの第１投影像を前記第１部分上に形成し、前記マスク上の前記第３の向きと前記第２部分上の前記第２の向きとが光学的に対応するように前記パターンの第２投影像を前記第２部分上に形成する投影光学系と、を備えることを特徴とする露光装置。
前記第１方向と前記第２方向とは直交していることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
前記第１投影像と前記第２投影像とは前記第１方向と直交する方向に整列して形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
前記投影光学系は、前記パターンの第１中間像および第２中間像を形成する中間結像光学系と、前記第１中間像と前記第１投影像とを光学的に共役にする第１結像光学系と、前記第２中間像と前記第２投影像とを光学的に共役にする第２結像光学系と、を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
前記中間結像光学系は、前記パターンからの光が入射するレンズ群と、前記レンズ群からの光を該レンズ群の光軸を挟んで互いに異なる方向に進む第１の光と第２の光とに分割し且つ前記第１の光および前記第２の光を前記レンズ群に向けて反射する分割反射部と、を有することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
前記分割反射部は、前記レンズ群の後側焦点位置またはその近傍に配置され、前記レンズ群から入射した光を第４の向きに反射して前記第１の光を生成する複数の第１反射部および第５の向きに反射して前記第２の光を生成する複数の第２反射部を有することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
前記第１反射部と前記第２反射部とは、前記第２方向に沿って交互に設けられていることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
前記複数の第１反射部および前記複数の第２反射部は、二次元的に配列されて個別に姿勢変化可能な複数のミラー要素を有することを特徴とする請求項７または８に記載の露光装置。
前記ステージ機構に保持された前記マスクのパターンに光を照射する照明光学系を備え、
前記照明光学系は、前記分割反射部の位置と光学的に共役な位置に、前記複数の第１反射部および前記複数の第２反射部の配置に対応させて複数の光源を形成することを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載の露光装置。
前記分割反射部は、前記レンズ群からの光を前記第１の光と前記第２の光とに分割する分割部と、前記レンズ群の後側焦点位置またはその近傍に配置され、前記分割部からの光を反射して該分割部を介して前記レンズ群に再入射させる反射部と、を有することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
前記分割部は、偏光ビームスプリッターを有し、
前記反射部は、前記偏光ビームスプリッターを透過して生成された前記第１の光を前記偏光ビームスプリッターに向けて反射する第１反射部材と、前記偏光ビームスプリッターを反射して生成された前記第２の光を前記偏光ビームスプリッターに向けて反射する第２反射部材と、を有することを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
前記分割反射部は、前記レンズ群の後側焦点位置またはその近傍に配置され、前記レンズ群から入射した光に基づいて前記第１の光としての＋１次回折光と前記第２の光としての−１次回折光とを発生させる回折光学面を有することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
前記投影光学系は、前記第１の光を前記第１方向、前記第２方向、および前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ順次偏向する第１群の偏向部材と、前記第２の光を前記第１方向、前記第２方向、および前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ順次偏向する第２群の偏向部材と、を有することを特徴とする請求項６〜１３のいずれか１項に記載の露光装置。
前記投影光学系は、前記中間結像光学系と前記第１結像光学系との間の光路中に配置された第１群の偏向部材と、前記中間結像光学系と前記第２結像光学系との間の光路中に配置された第２群の偏向部材と、を有することを特徴とする請求項６〜１３のいずれか１項に記載の露光装置。
前記第１群の偏向部材は、前記第１の光を前記第２方向へ偏向する第１偏向部材と、該第１偏向部材からの前記第１の光を前記第１方向へ偏向する第２偏向部材と、該第２偏向部材からの前記第１の光を前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ偏向する第３偏向部材と、を有することを特徴とする請求項１４または１５に記載の露光装置。
前記第１群の偏向部材は、前記第１の光を前記第１方向へ偏向する第１偏向部材と、該第１偏向部材からの前記第１の光を前記第２方向へ偏向する第２偏向部材と、該第２偏向部材からの前記第１の光を前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ偏向する第３偏向部材と、を有することを特徴とする請求項１４または１５に記載の露光装置。
前記第２群の偏向部材は、前記第２の光を前記第２方向へ偏向する第４偏向部材と、該第４偏向部材からの前記第２の光を前記第１方向へ偏向する第５偏向部材と、該第５偏向部材からの前記第２の光を前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ偏向する第６偏向部材と、を有することを特徴とする請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の露光装置。
前記第２群の偏向部材は、前記第２の光を前記第１方向へ偏向する第４偏向部材と、該第４偏向部材からの前記第２の光を前記第２方向へ偏向する第５偏向部材と、該第５偏向部材からの前記第２の光を前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ偏向する第６偏向部材と、を有することを特徴とする請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の露光装置。
前記第２群の偏向部材は、前記第１偏向部材による前記第１の光の偏向方向と逆向きに前記第２の光を偏向する第４偏向部材と、前記第２偏向部材による前記第１の光の偏向方向と同じ向きに前記第４偏向部材からの前記第２の光を偏向する第５偏向部材と、前記第３偏向部材による前記第１の光の偏向方向と同じ向きに前記第５偏向部材からの前記第２の光を偏向する第６偏向部材と、を有することを特徴とする請求項１６または１７に記載の露光装置。
前記第１偏向部材は、前記中間結像光学系と前記第１中間像の形成位置との間の光路中に配置され、前記第２偏向部材は、前記第１中間像の形成位置と前記第１結像光学系との間の光路中に配置され、前記第３偏向部材は、前記第２偏向部材と前記第１結像光学系との間の光路中に配置されることを特徴とする請求項１６または１７に記載の露光装置。
前記第４偏向部材は、前記中間結像光学系と前記第２中間像の形成位置との間の光路中に配置され、前記第５偏向部材は、前記第２中間像の形成位置と前記第２結像光学系との間の光路中に配置され、前記第６偏向部材は、前記第５偏向部材と前記第２結像光学系との間の光路中に配置されることを特徴とする請求項１８〜２０のいずれか１項に記載の露光装置。
感光性を有する第１基板を第１方向に沿って第１の向きに移動させ、且つ感光性を有する第２基板を前記第１方向に沿って前記第１の向きとは反対の第２の向きに移動させる工程と、
前記第１基板および前記第２基板の前記第１方向への移動に同期して、パターンを有するマスクを第２方向に沿って第３の向きに移動させる工程と、
前記パターンからの光を受光し、前記マスク上の前記第３の向きと前記第１基板上の前記第１の向きとが光学的に対応するように前記パターンの第１投影像を前記第１基板上に形成し、前記マスク上の前記第３の向きと前記第２基板上の前記第２の向きとが光学的に対応するように前記パターンの第２投影像を前記第２基板上に形成する工程と、を含むことを特徴とする露光方法。
感光性を有する帯状の基板の第１部分を第１方向に沿って第１の向きに移動させ、且つ前記基板の第２部分を前記第１方向に沿って前記第１の向きと反対の第２の向きに移動させる工程と、
前記第１部分および前記第２部分の前記第１方向への移動に同期して、パターンを有するマスクを第２方向に沿って第３の向きに移動させる工程と、
前記パターンからの光を受光し、前記マスク上の前記第３の向きと前記第１部分上の前記第１の向きとが光学的に対応するように前記パターンの第１投影像を前記第１部分上に形成する工程と、
前記パターンからの光を受光し、前記マスク上の前記第３の向きと前記第２部分上の前記第２の向きとが光学的に対応するように前記パターンの第２投影像を前記第２部分上に形成する工程と、を含むことを特徴とする露光方法。
前記第１投影像を形成する工程および前記第２投影像を形成する工程は、前記マスクが前記第３の向きに移動される期間にそれぞれ前記第１投影像および前記第２投影像を形成することを特徴とする請求項２４に記載の露光方法。
前記第２投影像を形成する工程は、前記基板の前記第２部分のうち前記第１投影像が形成されていない領域に前記第２投影像を形成することを特徴とする請求項２４または２５に記載の露光方法。
前記第１部分および前記第２部分を移動させる工程は、前記第１部分および前記第２部分を継続的に前記第１方向に沿って移動させ、
前記マスクを移動させる工程は、前記マスクを前記第２方向に沿って複数回往復移動させることを特徴とする請求項２４〜２６のいずれか１項に記載の露光方法。
前記第１方向と前記第２方向とは直交していることを特徴とする請求項２３〜２７のいずれか１項に記載の露光方法。
請求項１〜２２のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、前記パターンを基板に転写する工程と、
前記パターンが転写された前記基板を現像し、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を前記基板に形成する工程と、
前記転写パターン層を介して前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
第１方向に沿って移動する感光性の第１基板と第２基板とを、前記第１方向と直交した第２方向に並べて配置した状態で、デバイス用のパターンからの光束を前記第１基板と第２基板の各々に投影露光する露光装置であって、
前記パターンからの光束を入射して前記パターンの中間像を空間的に離れた２ヶ所の各々に形成する中間結像光学系と、前記中間像の一方を第１結像領域に投影する第１結像光学系と、前記第１結像領域を前記第１基板上に設定するように光路を折り曲げる第１反射部材と、前記中間像の他方を第２結像領域に投影する第２結像光学系と、前記第２結像領域を前記第２基板上に設定するように光路を折り曲げる第２反射部材と、を有する投影光学系を備え、
前記投影光学系は、前記２ヶ所に中間像を形成する為に、前記中間結像光学系の瞳位置またはその近傍の位置に配置されて、前記パターンからの光束を異なる２方向に反射させる分割反射部を含むことを特徴とする露光装置。
前記中間結像光学系は前記パターンからの光束を入射するレンズ群を有し、前記分割反射部は、前記レンズ群からの光を該レンズ群の光軸を挟んで互いに異なる方向に進む第１の光束と第２の光束とに分割し、且つ前記第１の光束および前記第２の光束を前記レンズ群に向けて反射することを特徴とする請求項３０に記載の露光装置。
前記分割反射部は、前記レンズ群の後側焦点位置またはその近傍の位置に配置され、前記パターンから前記レンズ群に入射した光束のほぼ半分を、前記第１の光束として前記レンズ群に向けて反射させる複数の第１反射面と、前記パターンから前記レンズ群に入射した光束の残りの半分を、前記第２の光束として前記レンズ群に向けて反射させる複数の第２反射面とを有することを特徴とする請求項３１に記載の露光装置。
前記分割反射部は、前記レンズ群の後側焦点位置と前記レンズ群との間に配置されて、前記パターンから前記レンズ群に入射した光束を２方向に分割するビームスプリッターと、該２方向に分割された光束の一方を前記第１の光束として前記ビームスプリッターを介して前記レンズ群に向けて反射させる第３反射部材と、前記２方向に分割された光束の他方を前記第２の光束として前記ビームスプリッターを介して前記レンズ群に向けて反射させる第４反射部材とを有することを特徴とする請求項３１に記載の露光装置。
請求項３０〜３３のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、前記第１基板と第２基板の各々に前記パターンを転写した後に、前記第１基板と第２基板を処理して、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を前記第１基板と第２基板の各々に形成する工程、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。