JP6137182B2 - 基板処理装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本願は、2012年7月13日に出願された日本国特願2012−157810号および2012年7月13日に出願された日本国特願2012−157811号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
図1は、本実施形態のデバイス製造システムSYS(フレキシブル・ディスプレー製造ライン)の一例による構成を示す図である。ここでは、供給ロールFR1から引き出された可撓性の基板P(シート、フィルム等)が、順次、n台の処理装置U1,U2,U3,U4,U5,・・・Unを経て、回収ロールFR2に巻き上げられるまでの例を示している。
次に、第2実施形態について説明する。本実施形態において、上記の実施形態と同様の構成要素については、同じ符号を付してその説明を簡略化あるいは省略する。
次に、第3実施形態について説明する。本実施形態において、上記の実施形態と同様の構成要素については、同じ符号を付してその説明を簡略化あるいは省略する。
次に、第4実施形態について説明する。本実施形態において、上記の実施形態と同様の構成要素については、同じ符号を付してその説明を簡略化あるいは省略する。
次に、上記の実施形態のデバイス製造方法について説明する。図34は、上記の実施形態のデバイス製造方法を示すフローチャートである。このフローチャート中の一部の工程は、先の図1や図16に示したデバイス製造システムSYS、SYS2(フレキシブル・ディスプレー製造ライン)で実施される。しかし、図34のフローチャートの全ての工程を実施する為には、さらに複数の製造処理装置を用意する必要がある。
Claims (41)
- 所定の中心線の回りに所定半径で湾曲した円筒面に沿って配置される反射性のマスクパターンの像を、感応性の基板上に投影露光する基板処理装置であって、
前記円筒面に沿って前記マスクパターンを保持して、前記中心線の回りに回転可能なマスク保持部材と、
前記マスクパターン上の一部分に設定される照明領域から発生する反射光束を前記感応性基板に向けて投射することにより、前記マスクパターンの一部分の像を前記感応性基板に結像する投影光学系と、
前記照明領域を落射照明する為に、前記投影光学系の光路内に配置されて、前記照明領域に向かう前記照明光と前記照明領域から発生する反射光束とのうち、一方を通過させて他方を反射させる光分離部と、
前記照明光の源となる一次光源像を形成し、前記光分離部と前記投影光学系の一部の光路を介して、前記一次光源像からの前記照明光を前記照明領域に照射すると共に、前記一次光源像と光学的に共役な第1共役面を前記中心線と前記円筒面の間に形成する照明光学系と、
を備えた基板処理装置。 - 前記照明領域に達する前記照明光の主光線のうち、前記円筒面の周方向に分布する各主光線の延長線は、前記中心線と平行な前記第1共役面上の線と交わるように設定される
請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記第1共役面は、前記中心線と前記照明領域との中央の位置又はその近傍に配置される
請求項1又は2に記載の基板処理装置。 - 前記投影光学系は、前記照明光学系により形成される二次光源像が形成される瞳面を有し、
前記光分離部は前記瞳面の位置又はその近傍に配置されている
請求項1から3のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記光分離部は、前記照明領域に向かう前記照明光を通過させる通過部と、前記照明領域から発生する反射光束を反射させる反射部と、を備え、
前記投影光学系は、前記光分離部と前記照明領域との間の光路に配置された光学系を含み、
前記光分離部の反射部の少なくとも一部は、前記光学系の光軸と前記光分離部との交点に関して前記通過部と対称な位置に配置されている
請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記投影光学系の瞳面に形成される前記二次光源像は、前記円筒面の周方向に沿った寸法が前記中心線の方向に沿った寸法よりも大きく設定される
請求項4又は5に記載の基板処理装置。 - 前記光分離部は、前記通過部を介して前記照明領域に向かう前記照明光の通過範囲を規定する規定部をさらに備える
請求項6に記載の基板処理装置。 - 前記規定部は、前記反射部の少なくとも一部分を利用する
請求項7に記載の基板処理装置。 - 前記照明光学系は、前記照明領域と光学的に共役な位置又はその近傍に配置された絞り部材と、
前記一次光源像から前記絞り部材に至る光路に配置され、前記円筒面の周方向に沿ったパワーが、前記中心線の方向に沿ったパワーよりも大きい光学部材と、
を備える
請求項6から8のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記光学部材は、前記照明領域に達する前記照明光の主光線のうち、前記中心線の方向に並ぶ各主光線を互いに平行にしつつ、前記円筒面の周方向に並ぶ各主光線をその延長線が前記中心線と平行な前記第1共役面上の線と交わるように偏向する
請求項9に記載の基板処理装置。 - 前記照明光学系は、前記一次光源像から前記絞り部材に至る光路の少なくとも一部に配置され、前記一次光源像を源とする前記照明光の光強度分布を前記絞り部材の位置又はその近傍において均一にする均一化光学系を含む、
請求項9又は10に記載の基板処理装置。 - 前記均一化光学系は、前記第1共役面と光学的に共役であって、前記二次光源像が形成される第2共役面を含み、
前記第2共役面に形成される前記二次光源像の分布範囲は、前記中心線の方向に沿った寸法が前記円筒面の周方向に沿った寸法よりも小さくなるように、設定されている
請求項11に記載の基板処理装置。 - 前記照明光学系は、前記照明領域と光学的に共役な位置又はその近傍に配置された絞り部材と、
前記照明光を発する光源から前記光学系に至る光路に配置され、前記照明領域に向かう前記照明光の前記光分離部における分布範囲を規定する規定部と、をさらに備える
請求項6に記載の基板処理装置。 - 請求項1から13のいずれか一項に記載に基板処理装置によって、前記マスク保持部材を回転させつつ前記感応性基板を所定方向に搬送しながら、前記感応性基板に前記マスクパターンを露光することと、
前記露光された感応性基板の感応層の変化を利用して後続の処理を実施することと、を含むデバイス製造方法。 - 所定の中心線の回りに所定半径で湾曲した円筒面に沿って配置される反射性のマスクパターンの像を、感応性の基板上に投影露光する基板処理装置であって、
前記円筒面に沿って前記マスクパターンを保持して、前記中心線の回りに回転可能なマスク保持部材と、
前記マスクパターン上の一部分に設定される照明領域から発生する反射光束を前記感応性基板に向けて投射することにより、前記マスクパターンの一部分の像を前記感応性基板に結像する投影光学系と、
前記照明領域を落射照明する為に、前記投影光学系の光路内に配置されて、前記照明領域に向かう前記照明光と前記照明領域から発生する反射光束とのうち、一方を通過させて他方を反射させる光分離部と、
光源から発生した前記照明光を、前記光分離部を介して前記照明領域に照射すると共に、前記照明光の主光線を、前記中心線と前記円筒面との間の所定位置に向かうように、前記円筒面の周方向に関して傾ける照明光学系と、
を備えた基板処理装置。 - 所定の中心線の回りに所定半径で湾曲した円筒面に沿って配置される反射性のマスクパターンの像を、感応性の基板上に投影露光する基板処理装置であって、
前記円筒面に沿って前記マスクパターンを保持して、前記中心線の回りに回転可能なマスク保持部材と、
前記マスクパターン上の一部分に設定される照明領域に向う照明光の源となる一次光源像を形成し、前記一次光源像からの前記照明光を前記照明領域に照射すると共に、前記一次光源像と光学的に共役な第1共役面を前記中心線と前記円筒面の間に形成する照明光学系と、
前記照明光が照射されている前記照明領域から発生する反射光束を中間像面に導くと共に、前記マスクパターンの一部分の像を前記中間像面に形成する第1投影光学系と、
前記中間像面の位置又はその近傍に配置された凹面鏡と、
前記凹面鏡で反射した前記反射光束を前記感応性基板に向けて投射することにより、前記第1投影光学系が前記中間像面に形成した像を前記感応性基板に投影する第2投影光学系と、
を備えた基板処理装置。 - 前記凹面鏡は、前記第2投影光学系の瞳面に達する前記反射光束の主光線が互いに平行になるように、設けられている
請求項16に記載の基板処理装置。 - 前記凹面鏡は、前記第2投影光学系の像面と前記投影領域との距離が焦点深度以下となる範囲において、前記中間像面からずれて配置されている
請求項16又は17に記載の基板処理装置。 - 前記凹面鏡から前記第2投影光学系の瞳面に至る光路に配置され、前記凹面鏡で反射した前記反射光束を偏向する偏向部材をさらに備える
請求項16から18のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記偏向部材は、前記第2投影光学系の瞳面に達する前記反射光束の主光線が互いに平行になるように、設けられている
請求項19に記載の基板処理装置。 - 前記第1投影光学系は、前記中間像面に前記マスクパターンの一部分の像を縮小倍率で形成する
請求項16から20のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第1投影光学系及び前記第2投影光学系を含む投影光学系は、前記マスクパターンの一部分の像を等倍率で前記投影領域に形成する
請求項21記載の基板処理装置。 - 前記照明領域に達する前記照明光の主光線のうち、前記円筒面の周方向に分布する各主光線の延長線は、前記中心線と平行な前記第1共役面上の線と交わるように設定される
請求項16から22のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第1共役面は、前記中心線と前記照明領域との中央の位置又はその近傍に配置される
請求項16から23のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記一次光源像から前記照明領域に至る光路と前記照明領域から前記中間像面に至る光路とにまたがって配置され、前記照明領域に向かう前記照明光と前記中間像面に向う前記反射光束とのうち、一方を通過させて他方を反射させる光分離部をさらに備え、
前記照明光学系は、前記光分離部を介して前記照明光を前記照明領域に照射し、
前記第1投影光学系は、前記光分離部を介して前記反射光束を前記中間像面に導く
請求項16から24のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第1投影光学系は、前記照明光学系により形成される二次光源像が形成される瞳面を有し、
前記光分離部は、前記第1投影光学系の瞳面の位置又はその近傍に配置されている
請求項25に記載の基板処理装置。 - 前記第1投影光学系は、前記光分離部と前記照明領域との間の光路に配置された光学系を含み、
前記光分離部は、前記照明領域に向かう前記照明光を通過させる通過部材と、前記照明領域からの前記反射光束を反射させる反射部材と、を備え、
前記光分離部の反射部材の少なくとも一部は、前記光学系の光軸と前記光分離部との交点に関して前記通過部材と対称な位置に配置されている
請求項26に記載の基板処理装置。 - 前記第1投影光学系の瞳面に形成される前記二次光源像は、前記円筒面の周方向に沿った寸法が前記中心線の方向に沿った寸法よりも大きく設定される
請求項26又は27に記載の基板処理装置。 - 前記光分離部は、前記照明領域に向かう前記照明光の通過範囲を規定する規定部をさらに備える
請求項28に記載の基板処理装置。 - 前記規定部は、前記反射部材の少なくとも一部分を利用する
請求項29に記載の基板処理装置。 - 前記光分離部は、前記一次光源像から前記第1投影光学系の瞳面に至る光路に配置された反射部材をさらに備え、
前記反射部材の少なくとも一部は、前記第1投影光学系の瞳面から前記中間像面に至る光路において、前記反射光束を遮らないように配置されている
請求項25に記載の基板処理装置。 - 前記照明光学系は、前記照明領域と光学的に共役な位置又はその近傍に配置された絞り部材と、
前記一次光源像から前記絞り部材に至る光路に配置され、前記円筒面の周方向に沿ったパワーが、前記中心線の方向に沿ったパワーよりも大きい光学部材と、
をさらに備える
請求項16から31のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記光学部材は、前記照明領域に達する前記照明光の主光線のうち、前記中心線の方向に並ぶ各主光線を互いに平行にしつつ、前記円筒面の周方向に並ぶ各主光線をその延長線が前記中心線と平行な前記第1共役面上の線と交わるように偏向する
請求項32に記載の基板処理装置。 - 前記照明光学系は、前記一次光源像から前記絞り部材に至る光路の少なくとも一部に配置され、前記一次光源像を源とする照明光の光強度分布を前記絞り部材の位置又はその近傍において均一にする均一化光学系を含む、
請求項32又は33に記載の基板処理装置。 - 前記均一化光学系は、前記第1共役面と光学的に共役であって、前記二次光源像が形成される第2共役面を有し、
前記第2共役面に形成される前記二次光源像の分布範囲は、前記中心線の方向に沿った寸法が前記円筒面の周方向に沿った寸法よりも小さくなるように、設定されている
請求項34に記載の基板処理装置。 - 前記照明光学系は、前記照明領域と光学的に共役な位置又はその近傍に配置された絞り部材と、
前記照明光を発する光源から光学系に至る光路に配置され、前記照明領域に向かう前記照明光の前記光分離部における分布範囲を規定する規定部と、
をさらに備える
請求項16から31のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 請求項16から36のいずれか一項に記載に基板処理装置によって、前記マスク保持部材を回転させつつ前記感応性基板を所定方向に搬送して、前記感応性基板に前記マスクパターンを連続的に露光することと、
前記露光された感応性基板の感応層の変化を利用して後続の処理を実施することと、を含むデバイス製造方法。 - 所定の中心線の回りに所定半径で湾曲した円筒面に沿って配置される反射性のマスクパターンの像を、感応性基板上に投影露光する基板処理装置であって、
前記円筒面に沿って前記マスクパターンを保持して、前記中心線の回りに回転可能なマスク保持部材と、
前記マスクパターン上の一部分に設定される照明領域に向けて、光源からの照明光を照射すると共に、前記円筒面の周方向に分布する前記照明光の主光線を、前記中心線と前記円筒面との間の所定位置に向かうように傾ける照明光学系と、
前記照明光の照射によって前記照明領域から発生する反射光束を中間像面に導くと共に、前記マスクパターンの一部分の像を前記中間像面に形成する第1投影光学系と、
前記中間像面の位置又はその近傍に配置された凹面鏡と、
前記凹面鏡で反射した前記反射光束を入射し、前記第1投影光学系によって前記中間像面に形成された像を前記感応性基板に投影する第2投影光学系と、
を備えた基板処理装置。 - 前記感応性基板は、前記第2投影光学系から投影される前記マスクパターンの像が前記マスク保持部材の回転に伴って走査される方向を長尺方向とする可撓性のシート状基板である、
請求項38に記載の基板処理装置。 - 前記マスク保持部材の前記中心軸とほぼ平行に配置される回転中心軸の回りに回転可能であって、一定半径の円筒面状の外周面で前記シート状基板の長尺方向の一部分を支持する回転ドラムを、さらに備える、
請求項39に記載の基板処理装置。 - 前記凹面鏡は、前記マスクパターン上に設定される前記照明領域の円筒状に湾曲した面とほぼ同じ曲率半径に設定された凹の円筒面状の反射面を有する、
請求項38から40のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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