JP2010210770A - インクジェット塗布装置 - Google Patents

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宏昭 西窪
Tsuneki Shinozawa
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Abstract

【課題】 シンプルな構成でありながら多数のインクジェットヘッドを好適に洗浄することができ、また、インクジェットヘッドの角度が変更された場合であっても対応が可能なインクジェット塗布装置を提供する。
【解決手段】 インクジェット塗布装置は、インクジェットヘッドユニット12を洗浄する洗浄部22と、この洗浄部22を各インクジェットヘッドユニット12と対向する洗浄位置とインクジェットヘッドユニット12から離隔した待機位置との間で移動させる洗浄部移動機構と、洗浄部22をインクジェットヘッドにおけるスペーサ粒子分散液の吐出口の列設方向と透明基板1の搬送方向との交差角度に対応させて回動させる洗浄部回動機構とを備える。
【選択図】 図2

Description

この発明は、基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を塗布することにより、スペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成するためのインクジェット塗布装置に関する。
液晶表示装置は、2枚の基板の間に、透明電極、カラーフィルターおよびブラックマトリックスが配置され、さらに透明電極間の空間に液晶が封入された構成を有する。このときに、2枚の基板の間隔を規制し、液晶層の厚みを適正にするために、スペーサが形成される。
従来、このスペーサは、フォトリソ法を利用して形成されていたが、マスクを使用した工程が必要となり作業工程が煩雑となるばかりではなく、材料の使用効率が悪いという問題がある。このため、基板にインクジェット方式でスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を吐出することにより、スペーサ粒子でスペーサを形成する液晶表示装置の製造方法が提案されている(特許文献1参照)。
ところで、このような液晶表示装置の製造方法においては、インクジェット塗布装置が使用される。すなわち、多数の吐出口を備えたインクジェットヘッドを複数個列設したインクジェットヘッドユニットを、液晶表示装置用の透明基板に対して相対移動させ、それらのインクジェットヘッドから透明基板にスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を吐出させることにより、透明基板の表面にスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成している。
このようなインクジェット塗布装置においては、微細なスペーサ粒子分散液の液滴を連続して大量に吐出する構成であることから、インクジェットヘッドが汚染されやすい。特に、主液滴とは別に発生する飛沫のような液滴が気流の影響を受け、インクジェットヘッドの下面に付着することにより、インクジェットヘッドの汚染が生ずるものと考えられる。このような汚染が生じたときには、一部の吐出口からスペーサ粒子分散液が吐出しないノズル欠けや、吐出されるスペーサ粒子分散液の液滴の方向が変化する飛翔曲がりといった現象が発生する。このため、インクジェットヘッドユニットを一定時間毎に洗浄する必要が生ずる。
従来のインクジェットプリンターにおいては、インクジェットヘッドの数に対応して、装置に多数の洗浄ユニットを配置し、これらの洗浄ユニットによってインクジェットヘッドユニットを洗浄していた(特許文献2参照)。
特開2005−4094号公報 特開2003−191483号公報
上述したようなスペーサ粒子分散液を塗布するためのインクジェット塗布装置においては、複数のインクジェットヘッドを備えたインクジェットヘッドユニットが複数個搭載される。このため、インクジェットヘッドの数が極めて多数となることから、それに対応させて洗浄ユニットを設置した場合には、装置構成が複雑となり、装置が高価となるばかりではなく、そのメンテナンスも煩雑となる。
また、液晶表示装置を製造するためにスペーサ粒子分散液を塗布するインクジェット塗布装置においては、透明基板におけるブラックマトリックスの領域にスペーサ粒子分散液を塗布するものであるから、スペーサ粒子分散液の塗布ピッチとインクジェットヘッドユニットにおける吐出口の副走査方向のピッチとを一致させる必要がある。このため、スペーサ粒子分散液を塗布するためのインクジェット塗布装置においては、インクジェットヘッドユニットの走査方向に対する角度が一定とはならないことから、従来のような洗浄ユニットではインクジェットヘッドの洗浄を実行することは不可能である。
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、シンプルな構成でありながら多数のインクジェットヘッドを好適に洗浄することができ、また、インクジェットヘッドの角度が変更された場合であっても対応が可能なインクジェット塗布装置を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、液晶表示装置の製造時に、基板間にスペーサ粒子を介在させることにより液晶層封入用のギャップを形成するため、基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を塗布することにより、スペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成するインクジェット塗布装置であって、基板を、インクジェットヘッドユニットに対して、相対的に一方向に移動させる移動機構を備え、前記インクジェットヘッドユニットは、多数のスペーサ粒子分散液の吐出口が、前記移動機構により移動される基板の移動方向に交差する方向に列設されたインクジェットヘッドを、前記基板の移動方向と交差する方向に複数個列設した構成を有し、前記移動機構により移動される基板にスペーサ粒子分散液を吐出して基板の表面にスペーサ粒子分散液を塗布するものであり、前記インクジェットヘッドにおけるスペーサ粒子分散液の吐出口の列設方向と前記基板の移動方向との交差角度を変更するために、前記インクジェットヘッドユニットを回動させるインクジェットヘッドユニット回動機構と、前記インクジェットヘッドユニットを洗浄する洗浄部と、前記洗浄部を前記各インクジェットヘッドユニットと対向する洗浄位置と、前記インクジェットヘッドユニットから離隔した待機位置との間で移動させる洗浄部移動機構と、前記洗浄部を、前記インクジェットヘッドにおけるスペーサ粒子分散液の吐出口の列設方向と前記基板の移動方向との交差角度に対応させて回動させる洗浄部回動機構とを備えたことを特徴とする。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記洗浄部は、前記各インクジェットヘッドユニットに配設された各インクジェットヘッドと対向可能な位置に配置された前記インクジェットヘッドと同数の洗浄ユニットを備え、これらの洗浄ユニットによって各インクジェットヘッドを洗浄する。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記各洗浄ユニットを、一括して前記インクジェットヘッドユニットにおけるスペーサ粒子分散液の吐出口の列設方向に移動する洗浄ユニット移動機構を備え、前記各洗浄ユニットは、前記スペーサ粒子分散液の吐出口の列設方向に移動しながら前記インクジェットヘッドユニットを洗浄する。
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の発明において、前記洗浄部回転機構は、前記洗浄ユニット移動機構による洗浄ユニットの移動方向と前記吐出口の列設方向とが一致するように前記洗浄部を回動させる。
請求項5に記載の発明は、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の発明において、前記洗浄部には、前記インクジェットヘッドユニットと当接した状態で前記インクジェットヘッドユニットにおけるスペーサ粒子分散液の吐出口を減圧することにより、当該吐出口内に残存する液体を吸引除去する吸引キャップ部が、前記複数の洗浄ユニットと同じ数だけ、前記複数の洗浄ユニットの列設方向と平行な方向に列設されており、前記洗浄部回動機構は、前記複数の吸引キャップ部を前記複数の洗浄ユニットとともに回動させる。
請求項6に記載の発明は、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の発明において、前記洗浄部には、前記インクジェットヘッドユニット内に残存する不要なスペーサ粒子分散液を前記吐出口から吐出するときに、そのスペーサ粒子分散液を捕獲するための捕獲部が前記複数の洗浄ユニットに近接して配設されており、前記洗浄部回動機構は、前記捕獲部を前記複数の洗浄ユニットとともに回動させる。
請求項7に記載の発明は、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の発明において、前記洗浄部には、前記インクジェットヘッドユニットを超音波を付与した洗浄液で洗浄するための超音波洗浄ユニットが前記複数の洗浄ユニットに近接して配設されており、前記洗浄部回動機構は、前記超音波洗浄ユニットを前記複数の洗浄ユニットとともに回動させる。
請求項8に記載の発明は、請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の発明において、前記洗浄部が複数個配設されており、前記洗浄部回動機構は前記複数個の洗浄部を一括して回動させる。
請求項1に記載の発明によれば、シンプルな構成でありながら多数のインクジェットヘッドを好適に洗浄することができ、また、インクジェットヘッドの角度が変更された場合であってもこれに対応することが可能となる。
請求項2に記載の発明によれば、各インクジェットヘッドユニットのインクジェットヘッドを一括して洗浄することが可能となる。
請求項3に記載の発明によれば、スペーサ粒子分散液の吐出口を、その列設方向に沿って洗浄することが可能となる。
請求項4に記載の発明によれば、各洗浄ユニットの洗浄方向を、一括して、スペーサ粒子分散液の吐出口の列設方向と一致させることが可能となる。
請求項5に記載の発明によれば、吐出口内に残存する液体を吸引除去して洗浄することができ、また、インクジェットヘッドの角度が変更された場合であっても、複数の吸引キャップを、一括してこれに対応する位置に回動させることが可能となる。
請求項6に記載の発明によれば、吐出口から吐出される不要なスペーサ粒子分散液を捕獲することができ、また、インクジェットヘッドの角度が変更された場合であっても、捕獲部をこれに対応する位置に回動させることが可能となる。
請求項7に記載の発明によれば、インクジェットヘッドユニットを超音波を付与した洗浄液で洗浄することができ、また、インクジェットヘッドの角度が変更された場合であっても、超音波洗浄ユニットをこれに対応する位置に回動させることが可能となる。
請求項8に記載の発明によれば、複数の洗浄部により効率的に洗浄を行うことができ、また、洗浄部回動機構により複数の洗浄部を一括して回動させることが可能となる。
表面にスペーサ粒子分散液が吐出された後の透明基板1の一部を示す部分表面図である。 この発明に係るインクジェット塗布装置の斜視図である。 ガントリー13をその下面から見た斜視図である。 インクジェットヘッドユニット12をその下面から見た斜視図である。 インクジェットヘッド18の一部をその下面から見た斜視図である。 インクジェットヘッドユニット12の移動機構を示す斜視図である。 透明基板1におけるブラックマトリックス7のピッチとインクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の配置との関係を示す説明図である。 洗浄部22の斜視図である。 洗浄部22の斜視図である。 洗浄部22を洗浄部移動機構とともに示す斜視図である。 回転テーブル36を取り外して見た洗浄部22付近の斜視図である。 洗浄ユニットを拡大して示す斜視図である。 基部63に形成された洗浄液吐出口62とインクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19との配置関係を示す説明図である。 基部63上に配設された当接ブロック65の斜視図である。 当接ブロック65とインクジェットヘッド18の下面との当接状態を示す断面図である。 洗浄ユニット31の昇降機構を示す概要図である。 他の実施形態に係る洗浄部77を示す斜視図である。
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。最初に、基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を塗布することにより、スペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成して、液晶層封入用のギャップを形成する、この発明に係るインクジェット塗布装置を利用した液晶表示装置の製造方法について説明する。
図1は、表面にスペーサ粒子分散液が吐出された後の透明基板1の一部を示す部分表面図である。
この液晶表示装置の製造方法は、液晶の封入工程等の前工程として実行されるものであり、透明基板間にスペーサ粒子を介在させることにより液晶層封入用のギャップを形成するためのものである。
この液晶表示装置の製造方法を実行するときには、最初に、スペーサ領域生成工程を実行する。このスペーサ領域生成工程においては、透明基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を吐出することによりスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成する。このときには、多数のインクジェットヘッドを列設したインクジェットヘッドユニットを透明基板1に対して相対的に移動することにより、透明基板の表面にスペーサ粒子分散液を吐出するこの発明に係るインクジェット塗布装置が使用される。
この透明基板1の表面には、それぞれ画素領域であるレッドのカラーフィルターの領域Rと、グリーンのカラーフィルターの領域Gと、ブルーのカラーフィルターの領域Bと、これらの画素領域を区画するブラックマトリックス7とが構成される。そして、スペーサ粒子分散液は、ブラックマトリックス7に向けて吐出され、そこにスペーサ領域5が形成される。
スペーサ領域生成工程に引き続き、乾燥工程を実行する。この乾燥工程は、透明基板1をホットプレートに搬送し、この透明基板1をホットプレート上で加熱することにより、スペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させるとともに、スペーサ領域5のスペーサ粒子を透明基板1に固着させる工程である。
この工程においては、最初にスペーサ粒子分散液から揮発成分が蒸発することから、表面張力によりスペーサ領域5のスペーサ粒子同士が互いに集まって接触する。そして、それらが焼成されて互いに固着するとともに、透明基板1の表面に対しても強い力で固着する。このため、このスペーサ領域5のスペーサ粒子により、液晶層封入用のギャップを形成することができる。
次に、この発明に係るインクジェット塗布装置の構成について説明する。図2は、この発明に係るインクジェット塗布装置の斜視図である。
このインクジェット塗布装置は、透明基板1を支持するテーブル11と、12個のインクジェットヘッドユニット12を支持するガントリー13とを備える。テーブル11は、基台14上に配設されたリニアモータ15の駆動を受け、一対のガイド部材16により案内された状態で、ガントリー13におけるインクジェットヘッドユニット12の列設方向と直交する主走査方向に往復移動する。このため、透明基板1を載置したテーブル11を主走査方向に移動させながら12個のインクジェットヘッドユニット12よりスペーサ粒子分散液を吐出することにより、透明基板1にスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成することができる。
ガントリー13の両端部には、一対のリニアモータ21が配設されており、ガントリー13はこれらのリニアモータ21を介して基台14に支持されている。このため、ガントリー13は、これらのリニアモータ21を個別に駆動することにより、テーブル11による透明基板1の搬送方向との交差角度を変更することができる構成となっている。
基台14の一端には、インクジェットヘッドユニット12を洗浄する洗浄部22が配設されている。この洗浄部22は、テーブル11による透明基板1の搬送方向と直交する方向に往復移動可能となっている。また、この洗浄部22の移動経路に沿って、インクジェットヘッドユニット12の乾燥を防止するための、12個の乾燥防止部23が配設されている。後述する各インクジェットヘッド18は、待機時においては、これらの乾燥防止部23と対向配置される。
図3は、ガントリー13をその下面から見た斜視図である。また、図4は、インクジェットヘッドユニット12をその下面から見た斜視図である。さらに、図5は、インクジェットヘッド18の一部をその下面から見た斜視図である。
これらの図に示すように、ガントリー13に支持された12個のインクジェットヘッドユニット12には、ヘッド支持板17が配設されており、このヘッド支持板17には、5個のインクジェットヘッド18が配設されている。このインクジェットヘッド18には、図5に示すように、多数のスペーサ粒子分散液の吐出口19が一方向に列設されている。
図6は、インクジェットヘッドユニット12の移動機構を示す斜視図である。なお、この図においては、12個のインクジェットヘッドユニット12のうちの1個のみを図示している。
ガントリー13における透明基板1の搬送方向の両端部には、リニアガイド24と、リニアスケール25と、リニアモータ26とが、その長手方向を透明基板1の搬送方向と交差する方向に向けて配設されている。そして、インクジェットヘッドユニット12を支持する支持板27の下面には、図示しないリニアモータ26の可動子が配設されている。
このため、各支持板27は、その両端をリニアガイド24により案内された状態で、リニアモータ26の駆動により透明基板1の搬送方向と交差する方向に移動する。そして、その移動量は、リニアスケール25により測定される。このため、このインクジェットヘッドユニット12の移動機構により、各インクジェットヘッドユニット12を設定された移動量だけ透明基板1の搬送方向と交差する方向に移動させることにより、インクジェットヘッドユニット12のピッチを変更することが可能となる。
上述したように、ガントリー13は、一対のリニアモータ21を個別に駆動することにより、テーブル11による透明基板1の搬送方向との交差角度を変更することができる構成となっている。そして、ガントリー13の角度が変更されることにより、ガントリー13に支持されたインクジェットヘッドユニット12の角度も変更され、これに伴って、インクジェットヘッドユニット12に配設されたインクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向と透明基板1の搬送方向との交差角度が変更されることになる。
なお、上述したように、インクジェットヘッドユニット12のピッチと、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向と透明基板1の搬送方向との交差角度とを変更する構成を採用しているのは、以下のような理由によるものである。
図7は、透明基板1におけるブラックマトリックス7のピッチとインクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の配置との関係を示す説明図である。
ブラックマトリックス7のピッチは、液晶表示装置の種類やその製造メーカ等によって異なっている。このようなブラックマトリックス7のピッチに対応するには、図7に示すように、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向と透明基板1の搬送方向との交差角度を変更すればよい。そして、複数のインクジェットヘッド18間においてスペーサ粒子分散液の吐出口19のピッチを調整するためには、隣り合うインクジェットヘッドユニット12間において、インクジェットヘッドユニット12同士の距離を変更すればよい。このような理由から、このインクジェット塗布装置においては、インクジェットヘッドユニット12のピッチと、ガントリー13と透明基板1の搬送方向との交差角度とを変更する構成を採用している。
以上のような構成を有するインクジェット塗布装置を使用して透明基板1にスペーサ粒子分散液を塗布するときには、最初に、透明基板1をテーブル11上に位置決めして固定する。また、透明基板1におけるブラックマトリックス7のピッチに対応させて、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向と透明基板1の搬送方向との交差角度と、インクジェットヘッドユニット12のピッチとを変更する。
この状態において、テーブル11を透明基板1とともに主走査方向に移動させながら、12個のインクジェットヘッドユニット12における各インクジェットヘッド18からスペーサ粒子分散液を吐出することにより、透明基板1におけるブラックマトリックス7上にスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成することができる。
次に、この発明の特徴部分である洗浄部22の構成について説明する。図8および図9は、洗浄部22を互いに異なる方向から見た斜視図である。また、図10は、洗浄部22を洗浄部移動機構とともに示す斜視図である。さらに、図11は、後述の回転テーブル36を取り外して見た洗浄部22付近の斜視図である。
この洗浄部22は、5個の洗浄ユニット31と、5個の捕獲部32と、5個の吸引キャップ33とを備えた洗浄ボックス34と、超音波洗浄ユニット35とを備える。これらの洗浄ボックス34および超音波洗浄ユニット35は、回転テーブル36上に配設されている。
図8に示すように、洗浄ボックス34の下方には、モータ46の駆動を受け回転するねじ47が配設されており、洗浄ボックス34はこのねじ47に螺合するナット48と連結されている。このため、洗浄ボックス34は、モータ46の駆動により往復移動する。そして、その移動方向は、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向と一致するよう構成されている。また、その往復移動距離は、各インクジェットヘッド18における、そのスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向のサイズに相当する距離となっている。
また、図9に示すように、超音波洗浄ユニット35の下方には、モータ51の駆動を受け回転するねじ52が配設されており、超音波洗浄ユニット35は、このねじ52に螺合する図示しないナットと連結されている。このため、超音波洗浄ユニット35は、モータ51の駆動により往復移動する。そして、その移動方向も、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向と一致するよう構成されている。また、その往復移動距離は、各インクジェットヘッドユニット12における、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向のサイズに相当する距離となっている。
図8および図11に示すように、回転テーブル36の下方には、洗浄部回動機構37が配設されている。この洗浄部回動機構37は、移動テーブル38上に回動可能に配設された回動部材39と、この回動部材39に連結するねじ41と、このねじ41を回転するモータ42とを備える。このため、モータ42の駆動によりねじ41を回転した場合には、回動部材39がその中央部を中心として回動する。そして、回転テーブル36は、この回動部材39に固定されている。このため、回転テーブル36は、モータ42の駆動により、洗浄ボックス34および超音波洗浄ユニット35とともに回動する。
移動テーブル38の下方には、透明基板1の搬送方向と直交する方向に延びる支持架43が配設されている。この支持架43上には、リニアモータ44と、一対のリニアガイド45とが配設されている。このため、移動テーブル38は、リニアモータ44の駆動を受け、一対のリニアガイド45に沿って、透明基板1の搬送方向と直交する方向に往復移動可能となっている。そして、この移動テーブル38の移動に伴い、洗浄ボックス34および超音波洗浄ユニット35も透明基板1の搬送方向と直交する方向に往復移動する構成となっている。
図10に示すように、支持架43の下方には、その両端が一対のガイド部材16により案内される支持部材53が配設されている。そして、この支持部材53の下面には、上述したテーブル11の移動に利用されるリニアモータ15に適合するリニアモータ用コイル54が配設されている。このため、支持架43は、テーブル11の移動用リニアモータ15の駆動をうけ、洗浄部22とともに、透明基板1の搬送方向に往復移動可能となっている。
以上のような構成により、洗浄部22は、透明基板1の搬送方向およびこの搬送方向と直交する方向に往復移動するとともに、その回転角度位置を任意に変更できる。このため、この洗浄装置22は、各インクジェットヘッドユニット12と対向する洗浄位置と、インクジェットヘッドユニット12から離隔した待機位置との間で移動可能な構成となっている。そして、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向と透明基板1の搬送方向との交差角度が変更された場合にも、これに対応することが可能な構成となっている。
次に、上述した洗浄ユニット31の構成について説明する。図12は、洗浄ユニットを拡大して示す斜視図である。
この洗浄ユニット31は、洗浄ボックス34の上面に形成された開口部61内に配置されるものであり、基部63に形成された洗浄液吐出口62と、同じく基部63に形成された洗浄液の回収口64と、基部63上に配設された当接ブロック65とを備える。この当接ブロック65には、洗浄液吸引口66が形成されている。この洗浄ユニット31は、洗浄液としての純水を供給する供給管67と、洗浄に供された純水を回収するための回収管68とに接続されている。
図13は、基部63に形成された洗浄液吐出口62とインクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19との配置関係を示す説明図である。
洗浄液吐出口62は、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19から、スペーサ粒子分散液の吐出方向(図13における上下方向)に第1の距離H1だけ離隔した位置に配置される。また、この洗浄液吐出口62は、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19から、この吐出口19の列設方向と直交する方向(図13における左右方向)に距離D1だけ離隔した位置に配置される。そして、この洗浄液吐出口62は、上方(垂線方向)に向けて洗浄液を吐出することから、この洗浄液吐出口62は、スペーサ粒子分散液の吐出口19から、この吐出口19の列設方向と直交する方向に距離D1だけ離隔した位置に洗浄液を吐出する構成となっている。
図14は、基部63上に配設された当接ブロック65の斜視図であり、図15は、当接ブロック65とインクジェットヘッド18の下面との当接状態を示す断面図である。
この当接ブロック65は、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19から、この吐出口19の列設方向と直交する方向(図15における左右方向)に離隔した両側の位置に当接可能な一対の当接部69を有する。そして、洗浄液吸引口66は、一対の当接部69の間に形成されている。この当接ブロック65に形成された洗浄液吸引口66は、スペーサ粒子分散液の吐出口19から、スペーサ粒子分散液の吐出方向(図15における上下方向)に、上述した第1の距離H1より小さい第2の距離H2だけ離隔した位置に配置されている。すなわち、一対の当接部69の高さは、H2となっている。この洗浄液吸引口66は、洗浄液吐出口62からスペーサ粒子分散液の吐出口19付近に向けて吐出された洗浄液を吸引するためのものである。
図16は、洗浄ユニット31の昇降機構を示す概要図である。
洗浄部22における5個の洗浄ユニット31は、一対のモータ71の駆動で昇降する昇降架72に対して、各々一対のバネ部材73を介して連結されている。昇降架72が下降位置にあるときには、洗浄ユニット31の当接ブロック65は、インクジェットヘッド18の下面から離隔している。この状態で昇降架72が上昇位置に移動すると、当接ブロック65の一対の当接部69がインクジェットヘッド18の下面と当接する。この状態においては、当接ブロック65に形成された洗浄液吸引口66とスペーサ粒子分散液の吐出口19との距離が、正確に上述した第2の距離H2となる。そして、このときには、当接ブロック65の作用により、基部63に形成された洗浄液吐出口62とインクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19との距離が、正確に上述した第1の距離H1となる。
次に、洗浄部22によるインクジェットヘッド18の洗浄動作について説明する。
インクジェットヘッド18を洗浄するときには、洗浄部22を、図2に示す待機位置から、洗浄対象となるインクジェットヘッドユニット12と対向する洗浄位置に移動させる。この洗浄位置は、インクジェットヘッドユニット12における各インクジェットヘッド18が、洗浄部22における各洗浄ユニット31と対向する位置である。この洗浄部22の移動は、リニアモータ15およびリニアモータ44の駆動により実行される。
次に、洗浄部22を、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向と透明基板1の搬送方向との交差角度に対応させて回動させる。すなわち、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向と洗浄ユニット31の列設方向とを一致させる。この洗浄部22の回動は、洗浄部回動機構37のモータ42の駆動により実行される。
インクジェットヘッドユニット12における各インクジェットヘッド18が洗浄部22における各洗浄ユニット31と対向する位置に配置されれば、図16に示す一対のモータ71の駆動により、5個の洗浄ユニット31を同期して上昇させる。これにより、図15に示すように、一対の当接部69がインクジェットヘッド18の下面におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の両側の位置に当接する。このときには、洗浄液吸引口66は、図15に示すように、スペーサ粒子分散液の吐出口19からスペーサ粒子分散液の吐出方向に第2の距離H2だけ離隔した位置に配置されており、洗浄液吐出口62は、図13に示すように、スペーサ粒子分散液の吐出口19からスペーサ粒子分散液の吐出方向に第1の距離H1だけ離隔した位置に配置されている。
また、この状態においては、洗浄ユニット31における洗浄液吐出口62は、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向の一端に対応する位置に配置されており、洗浄ユニット31における洗浄液吸引口66は、スペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向の一端からさらに離隔した位置に配置されている。これにより、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の全領域をその端部から洗浄することが可能となる。
次に、洗浄ユニット31における洗浄液吐出口62から洗浄液としての純水を吐出する。また、洗浄ユニット31の洗浄液吸引口66から吸引を開始する。そして、図8に示すモータ46の駆動で洗浄ボックス34を移動させることにより、5個の洗浄ユニット31を一括して、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向に移動させる。
洗浄液吐出口62から吐出された純水は、図13に示すように、スペーサ粒子分散液の吐出口19から距離Dだけ離隔した位置に衝突した後、横方向に広がる。この純水により、インクジェットヘッド18の下面が洗浄される。このとき、純水はスペーサ粒子分散液の吐出口19から距離Dだけ離隔した位置に衝突し、直接吐出口19に衝突することはないので、純水がスペーサ粒子分散液の吐出口19に浸入することはない。
特に、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19付近の領域は、一般的に超撥水加工がなされていることから、純水をスペーサ粒子分散液の吐出口19から距離Dだけ離隔した位置に衝突させることにより、純水がスペーサ粒子分散液の吐出口19に浸入することを好適に防止することが可能となる。
このような状態で洗浄ユニット31がスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向に移動することにより、インクジェットヘッド18の下面におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19付近の領域が純水により洗浄される。そして、インクジェットヘッド18の下面に付着した純水は、洗浄液吸引口66により吸引除去される。また、インクジェットヘッド18の下面から落下した純水は、回収口64より回収される。そして、洗浄ユニット31がスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向のサイズに相当する距離だけ移動すれば、インクジェットヘッド18の洗浄が終了する。
なお、上述したように、スペーサ粒子分散液の吐出口19内に純水を浸入させることなく好適に洗浄を実行するためには、洗浄液吐出口62とスペーサ粒子分散液の吐出口19との距離H1を3mm乃至7mm程度とすることが好ましく、また、洗浄液吐出口62とスペーサ粒子分散液の吐出口19との吐出口19の列設方向と直交する方向の距離Dは、2mm乃至4.5mmとすることが好ましい。さらに、洗浄液吐出口62の直径を0.1mm乃至1mm程度に設定し、毎分15ミリリットル乃至30ミリリットル程度の純水を吐出することで、スペーサ粒子分散液の吐出口19内に純水を浸入させることなく好適に洗浄を実行することが可能となる。
また、この洗浄ユニット31は、洗浄液吸引口66を、スペーサ粒子分散液の吐出口19から第2の距離H2だけ離隔し、かつ、洗浄液吐出口62からスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向に離隔した位置に配置していることから、インクジェットヘッド18の下面と洗浄ユニット31との間が液密になって純水を吸引するときにスペーサ粒子分散液をも吸引して吐出不良を生ずることを有効に防止することができる。
このとき、洗浄液吸引口66とスペーサ粒子分散液の吐出口19との距離H2を0.2mm乃至1mm程度とすることが好ましく、洗浄液吸引口66と洗浄液吐出口62とのスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向の距離を5mm乃至10mmとすることが好ましい。また、洗浄液吸引口66からの吸引圧力は−0.5kPa乃至−4.5kPaとすることが好ましい。
以上の洗浄ユニット31による洗浄動作は、一定のサイクルで実行される。また、これと同様に、吸引キャップ33によるスペーサ粒子分散液の吐出口19の吸引動作も実行される。この吸引キャップ33は、インクジェットヘッド18の下面との当接部にフッ素ゴム等の弾性シール部材を有し、それをインクジェットヘッド18の下面に当接させて密閉空間を形成する。そして、この密閉空間を吸引することにより、インクジェットヘッド18のスペーサ粒子分散液の吐出口19の閉塞を防止するものである。
吸引キャップ33による吸引動作を実行するときには、洗浄ユニット31の場合と同様、リニアモータ15およびリニアモータ44の駆動により洗浄部22を移動させるとともに、洗浄部回動機構37のモータ42の駆動により洗浄部を回動させることにより、インクジェットヘッドユニット12における各インクジェットヘッド18が、洗浄部22における各吸引キャップ33と対向する位置まで移動させる。
インクジェットヘッド18のスペーサ粒子分散液の吐出口19から不要な洗浄液としての純水やスペーサ粒子分散液を吐出したい場合には、各インクジェットヘッド18が捕獲部32と対向する位置に移動する。この捕獲部32は、不要な純水やスペーサ粒子分散液を、装置を汚染することなく外部に排出するために使用される。
捕獲部32への吐出動作を実行するときには、洗浄ユニット31や吸引キャップ33の場合と同様、リニアモータ15およびリニアモータ44の駆動により洗浄部22を移動させるとともに、洗浄部回動機構37のモータ42の駆動により洗浄部を回動させることにより、インクジェットヘッドユニット12における各インクジェットヘッド18が、洗浄部22における各捕獲部32と対向する位置まで移動させる。
インクジェットヘッド18のスペーサ粒子分散液の吐出口19が閉鎖した場合等においては、超音波洗浄ユニット35による洗浄が実行される。この超音波洗浄ユニット35は、超音波振動が付与された洗浄液を貯留する超音波洗浄槽を備え、この超音波洗浄槽内にインクジェットヘッド18を浸漬することにより洗浄を行うものである。なお、この超音波洗浄動作は、塗布動作を完全に停止した状態で実行される。
超音波洗浄を実行するときには、洗浄ユニット31、吸引キャップ33、捕獲部32の場合と同様、リニアモータ15およびリニアモータ44の駆動により洗浄部22を移動させるとともに、洗浄部回動機構37のモータ42の駆動により洗浄部22を回動させることにより、インクジェットヘッドユニット12の端部に位置するインクジェットヘッド18が、超音波洗浄ユニット35と対向する位置まで移動させる。そして、一つのインクジェットヘッドユニット12を洗浄するたびに、図9に示すモータ51の駆動により、超音波洗浄ユニット35を、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向に移動させる。
次に、この発明の他の実施形態について説明する。図17は、他の実施形態に係る洗浄部77を示す斜視図である。
上述した実施形態は、洗浄ボックス34および超音波洗浄ユニット35を回転テーブル36上に配設した構成を有する。これに対して、この第2実施形態は、各々洗浄ボックス34および超音波洗浄ユニット35を有する一対の洗浄部77を共通するリニアモータステージ78上に載置し、このリニアモータステージ78のモータ軸を駆動することにより、一対の洗浄部77は透明基板1の搬送方向と直交する方向に個別的に移動され、このリニアモータステージ78を単一の洗浄部回動機構79により回動させることで、洗浄部77を、インクジェットヘッド18におけるスペーサ粒子分散液の吐出口19の列設方向と透明基板1の搬送方向との交差角度に対応させて回動させる構成となっている。
このような構成を採用することにより、複数の洗浄部77により効率的に洗浄を行うことができ、また、洗浄部回動機構79により複数の洗浄部77を一括して回動させることが可能となる。
なお、上述した実施形態では、透明基板1を載置したテーブル11を主走査方向に移動させながら、12個のインクジェットヘッドユニット12によりスペーサ粒子分散液を吐出することにより、透明基板1にスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、透明基板1を載置したテーブル11を静止させ、12個のインクジェットヘッドユニット12を支持するガントリー13を主走査方向に移動させながらインクジェットヘッドユニット12によりスペーサ粒子分散液を吐出することにより、透明基板1にスペーサ領域を形成する構成を採用してもよい。
1 透明基板
5 スペーサ領域
7 ブラックマトリックス
11 テーブル
12 インクジェットヘッドユニット
13 ガントリー
14 基台
15 リニアモータ
16 ガイド部材
17 ヘッド支持板
18 インクジェットヘッド
19 吐出口
21 リニアモータ
22 洗浄部
23 乾燥防止部
24 リニアガイド
25 リニアスケール
26 リニアモータ
31 洗浄ユニット
32 捕獲部
33 吸引キャップ
34 洗浄ボックス
35 超音波洗浄ユニット
36 回転テーブル
37 洗浄部回動機構
38 移動テーブル
39 回動部材
43 支持架
44 リニアモータ
45 リニアガイド
54 リニアモータ用コイル
62 洗浄液吐出口
63 基部
64 回収口
65 当接ブロック
66 洗浄液吸引口
69 当接部
72 昇降架
73 バネ部材
77 洗浄部
78 リニアモータステージ
79 洗浄部回動機構

Claims (8)

  1. 液晶表示装置の製造時に、基板間にスペーサ粒子を介在させることにより液晶層封入用のギャップを形成するため、基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を塗布することにより、スペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成するインクジェット塗布装置であって、
    基板を、インクジェットヘッドユニットに対して、相対的に一方向に移動させる移動機構を備え、
    前記インクジェットヘッドユニットは、多数のスペーサ粒子分散液の吐出口が、前記移動機構により移動される基板の移動方向に交差する方向に列設されたインクジェットヘッドを、前記基板の移動方向と交差する方向に複数個列設した構成を有し、前記移動機構により移動される基板にスペーサ粒子分散液を吐出して基板の表面にスペーサ粒子分散液を塗布するものであり、
    前記インクジェットヘッドにおけるスペーサ粒子分散液の吐出口の列設方向と前記基板の移動方向との交差角度を変更するために、前記インクジェットヘッドユニットを回動させるインクジェットヘッドユニット回動機構と、
    前記インクジェットヘッドユニットを洗浄する洗浄部と、
    前記洗浄部を前記各インクジェットヘッドユニットと対向する洗浄位置と、前記インクジェットヘッドユニットから離隔した待機位置との間で移動させる洗浄部移動機構と、
    前記洗浄部を、前記インクジェットヘッドにおけるスペーサ粒子分散液の吐出口の列設方向と前記基板の移動方向との交差角度に対応させて回動させる洗浄部回動機構と、
    を備えたことを特徴とするインクジェット塗布装置。
  2. 請求項1に記載のインクジェット塗布装置において、
    前記洗浄部は、前記各インクジェットヘッドユニットに配設された各インクジェットヘッドと対向可能な位置に配置された前記インクジェットヘッドと同数の洗浄ユニットを備え、これらの洗浄ユニットによって各インクジェットヘッドを洗浄するインクジェット塗布装置。
  3. 請求項2に記載のインクジェット塗布装置において、
    前記各洗浄ユニットを、一括して前記インクジェットヘッドユニットにおけるスペーサ粒子分散液の吐出口の列設方向に移動する洗浄ユニット移動機構を備え、前記各洗浄ユニットは、前記スペーサ粒子分散液の吐出口の列設方向に移動しながら前記インクジェットヘッドユニットを洗浄するインクジェット塗布装置。
  4. 請求項3に記載のインクジェット塗布装置において、
    前記洗浄部回転機構は、前記洗浄ユニット移動機構による洗浄ユニットの移動方向と前記吐出口の列設方向とが一致するように前記洗浄部を回動させるインクジェット塗布装置。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のインクジェット塗布装置において、
    前記洗浄部には、前記インクジェットヘッドユニットと当接した状態で前記インクジェットヘッドユニットにおけるスペーサ粒子分散液の吐出口を減圧することにより、当該吐出口内に残存する液体を吸引除去する吸引キャップ部が、前記複数の洗浄ユニットと同じ数だけ、前記複数の洗浄ユニットの列設方向と平行な方向に列設されており、
    前記洗浄部回動機構は、前記複数の吸引キャップ部を前記複数の洗浄ユニットとともに回動させるインクジェット塗布装置。
  6. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のインクジェット塗布装置において、
    前記洗浄部には、前記インクジェットヘッドユニット内に残存する不要なスペーサ粒子分散液を前記吐出口から吐出するときに、そのスペーサ粒子分散液を捕獲するための捕獲部が前記複数の洗浄ユニットに近接して配設されており、
    前記洗浄部回動機構は、前記捕獲部を前記複数の洗浄ユニットとともに回動させるインクジェット塗布装置。
  7. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のインクジェット塗布装置において、
    前記洗浄部には、前記インクジェットヘッドユニットを超音波を付与した洗浄液で洗浄するための超音波洗浄ユニットが前記複数の洗浄ユニットに近接して配設されており、
    前記洗浄部回動機構は、前記超音波洗浄ユニットを前記複数の洗浄ユニットとともに回動させるインクジェット塗布装置。
  8. 請求項1乃至請求項7のいずれかに記載のインクジェット塗布装置において、
    前記洗浄部が複数個配設されており、前記洗浄部回動機構は前記複数個の洗浄部を一括して回動させるインクジェット塗布装置。
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