JP2010208246A - インクジェットプリンタヘッドのインク溜めの加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 インクジェットプリンタヘッドのインク溜めの加工方法であって、基板に対して透過性を有する波長のレーザビームの集光点を該基板の内部に位置づけると共に、形成すべきインク溜めの輪郭に沿ってレーザビームを照射して該基板の内部に形成すべきインク溜めの輪郭に沿った変質層を形成する変質層形成工程と、該変質層形成工程を実施した後、基板に対して吸収性を有する波長のレーザビームを前記輪郭の内部に照射してアブレーション加工によってインク溜め用の窪みを形成する窪み形成工程と、を具備したことを特徴とする。
【選択図】図3
Description
波長:1064nm
平均出力:1W
パルス幅:40ns
集光スポット径:φ1μm
繰り返し周波数:100kHz
波長:355nm(YAGレーザの第3高調波)
平均出力:4W
パルス幅:40ns
集光スポット径:φ10μm
繰り返し周波数:100kHz
20 チャックテーブル
46 変質層形成用レーザ照射ユニット
48 アブレーション加工用レーザ照射ユニット
50,52 レーザヘッド(集光器)
60 シリコンウエーハ
62 シリコンチップ(シリコン基板)
64 変質層
68a〜68d インク溜め用の窪み
Claims (2)
- インクジェットプリンタヘッドのインク溜めの加工方法であって、
基板に対して透過性を有する波長のレーザビームの集光点を該基板の内部に位置づけると共に、形成すべきインク溜めの輪郭に沿ってレーザビームを照射して該基板の内部に形成すべきインク溜めの輪郭に沿った変質層を形成する変質層形成工程と、
該変質層形成工程を実施した後、基板に対して吸収性を有する波長のレーザビームを前記輪郭の内部に照射してアブレーション加工によってインク溜め用の窪みを形成する窪み形成工程と、
を具備したことを特徴とするインクジェットプリンタヘッドのインク溜めの加工方法。 - 前記基板はシリコン基板から構成される請求項1記載のインクジェットプリンタヘッドのインク溜めの加工方法。
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