JP2010201588A - 研磨加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】片面研磨機70の保持定盤71に保持パッド10を装着するときは、保持定盤71に保護シート30aを粘着剤で貼着しておく。保護シート30aの露出した平坦表面Qに保持パッド10を貼着する。研磨定盤72に研磨パッド20を装着するときは、研磨定盤72に保護シート30bを粘着剤で貼着しておく。保護シート30bの露出した平坦表面Qに研磨パッド20を貼着する。保持パッド10の保持面Sに適量の水を含ませ被研磨物78を押し付けることで、保持定盤71に被研磨物78を保持させる。被研磨物78および研磨パッド20間に研磨液を供給し、保持定盤71、研磨定盤72で被研磨物78に圧力をかけながら被研磨物78を研磨加工する。
【選択図】図1
Description
本実施形態では、図1に示すように、被研磨物78の研磨加工に片面研磨機70が使用される。片面研磨機70は、上側に被研磨物78を保持する保持定盤71、下側に研磨定盤72を備えている。保持定盤71は、研磨定盤72と対向するように配置されている。保持定盤71の下面および研磨定盤72の上面は、いずれも略平坦に形成されている。保持定盤71の下面には被研磨物78を保持するための保持パッド10が保護シート30aを介して装着されており、研磨定盤72の上面には被研磨物78を研磨加工するための研磨パッド20が保護シート30bを介して装着されている。
図2に示すように、保持パッド10は、湿式成膜法で作製されたポリウレタン樹脂製のウレタンシート(樹脂製シート)2を有している。ウレタンシート2は、緻密な微多孔が形成されたスキン層(表面層)2aを有している。保持パッド10では、スキン層2aの表面が被研磨物78を保持するための保持面Sを形成する。ウレタンシート2のスキン層2aより内側には、厚さ方向(図2の縦方向)に沿って丸みを帯びた断面三角状のセル3が略均等に分散した状態で形成されている。セル3は、保持面S側の孔径が保持面Sと反対の面(背面)側より小さく形成されている。すなわち、セル3は保持面S側で縮径されている。セル3の間のポリウレタン樹脂中には、スキン層2aに形成された微多孔より孔径が大きくセル3より孔径が小さな図示しない発泡が形成されている。セル3および図示しない発泡は不図示の連通孔で網目状につながっている。換言すれば、ウレタンシート2は連続発泡構造を有している。ウレタンシート2の保持面Sの背面側には、厚さが一様となるようにバフ処理が施されている。
図3に示すように、研磨パッド20は、被研磨物を研磨加工するための研磨面Pを有するウレタンシート(樹脂製シート)12を有している。ウレタンシート12は、湿式成膜法によりポリウレタン樹脂でシート状に形成されている。ウレタンシート12は、湿式成膜時に形成されたスキン層(緻密な微多孔が形成された表面層)側に、厚さが一様となるようにバフ処理が施されている。ウレタンシート12には、厚さ方向に沿って丸みを帯びた断面三角状のセル13が略均等に分散した状態で形成されている。セル13は、研磨面P側の孔径が研磨面Pと反対の面(背面)側より小さく形成されている。すなわち、セル13は研磨面P側で縮径されている。ウレタンシート12では、バフ処理によりスキン層が除去されており、セル13が開孔することで、研磨面Pに開孔15が形成されている。セル13の間のポリウレタン樹脂中には、セル13より小さい孔径の図示しない発泡が形成されている。セル13および図示しない発泡は、不図示の連通孔で網目状に連通されている。換言すれば、ウレタンシート12は連続発泡構造を有している。
保護シート30a、30bは、図4に示すように、可撓性を有するPET樹脂で形成された樹脂製保護部材としてのフィルム32を備えている。フィルム32は、一面側に平坦表面Qを有している。平坦表面Qは、表面粗さRaが0.4μm以下に設定されている。フィルム32の他面側には、片面研磨機70の保持定盤71および研磨定盤72にそれぞれフィルム32を貼着するための両面テープ27が貼り合わされている。両面テープ27は、例えば、PET製等の可撓性フィルムの基材を有しており、基材の両面にアクリル系粘着剤等の感圧型粘着剤層が形成されている。両面テープ27では、保持パッド10、研磨パッド20の両面テープ7に用いられる粘着剤と比べて粘着力の大きい粘着剤が用いられている。両面テープ27は、基材の一面側の粘着剤層でフィルム32と貼り合わされており、他面側(フィルム32と反対側)の粘着剤層が剥離紙28で覆われている。
次に、本実施形態の作用等について、保護シート30a、30bの作用を中心に説明する。
7 両面テープ
10 保持パッド
12 ウレタンシート(樹脂製シート)
20 研磨パッド
27 両面テープ
30a 保護シート
30b 保護シート
32 フィルム(樹脂製保護部材)
70 片面研磨機(研磨装置)
71 保持定盤(定盤)
72 研磨定盤(定盤)
Claims (7)
- 対向配置された2つの定盤を備えた研磨装置により被研磨物を研磨加工する研磨加工方法であって、
一面側に平坦な表面を有する樹脂製保護部材の他面側を前記研磨装置の2つの定盤にそれぞれ貼付しておき、
前記各保護部材の一面側に樹脂製シートをそれぞれ交換可能に装着し、
前記シートの少なくとも一方で前記被研磨物の片面側または両面側を研磨加工する、
ステップを含むことを特徴とする研磨加工方法。 - 前記シートは、一方が前記被研磨物の片面側を研磨加工するための研磨シートであり、他方が前記被研磨物を保持するための保持シートであることを特徴とする請求項1に記載の研磨加工方法。
- 前記シートは、いずれも、前記被研磨物のそれぞれ片面側を研磨加工するための研磨シートであることを特徴とする請求項1に記載の研磨加工方法。
- 前記貼付ステップにおいて前記保護部材を前記定盤にそれぞれ交換可能に貼付しておき、前記保護部材の交換間隔が前記装着するステップにおける前記シートの交換間隔より長いことを特徴とする請求項2または請求項3に記載の研磨加工方法。
- 前記シートの前記保護部材からの剥離強度は、前記保護部材の前記定盤からの剥離強度より小さいことを特徴とする請求項4に記載の研磨加工方法。
- 前記保護部材は、前記平坦な表面の表面粗さRaが0.4μm以下であることを特徴とする請求項5に記載の研磨加工方法。
- 前記シートは、ポリウレタン樹脂製であることを特徴とする請求項6に記載の研磨加工方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012071366A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Fujibo Holdings Inc | 保持材 |
JP2014151410A (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-25 | Fujibo Holdings Inc | 保護シート |
CN106078493A (zh) * | 2016-06-23 | 2016-11-09 | 上海汉虹精密机械有限公司 | 陶瓷盘砂轮片双面研磨加工蓝宝石晶片的方法 |
WO2018225658A1 (ja) * | 2017-06-06 | 2018-12-13 | 丸石産業株式会社 | 吸着層を備える研磨パッドを使用する研磨方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007083337A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Speedfam Co Ltd | 平面研磨装置 |
JP2007266068A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Sumco Techxiv株式会社 | 研磨方法及び研磨装置 |
JP2008109064A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-05-08 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Cmp装置における定盤保護装置 |
-
2009
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007083337A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Speedfam Co Ltd | 平面研磨装置 |
JP2007266068A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Sumco Techxiv株式会社 | 研磨方法及び研磨装置 |
JP2008109064A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-05-08 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Cmp装置における定盤保護装置 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012071366A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Fujibo Holdings Inc | 保持材 |
JP2014151410A (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-25 | Fujibo Holdings Inc | 保護シート |
CN106078493A (zh) * | 2016-06-23 | 2016-11-09 | 上海汉虹精密机械有限公司 | 陶瓷盘砂轮片双面研磨加工蓝宝石晶片的方法 |
WO2018225658A1 (ja) * | 2017-06-06 | 2018-12-13 | 丸石産業株式会社 | 吸着層を備える研磨パッドを使用する研磨方法 |
JP2018202558A (ja) * | 2017-06-06 | 2018-12-27 | 丸石産業株式会社 | 吸着層を備える研磨パッドを使用する研磨方法 |
CN110573300A (zh) * | 2017-06-06 | 2019-12-13 | 丸石产业株式会社 | 使用具备吸附层的研磨垫的研磨方法 |
KR20200015465A (ko) * | 2017-06-06 | 2020-02-12 | 마루이시 산교 가부시키가이샤 | 흡착층을 구비하는 연마 패드를 사용하는 연마방법 |
TWI740042B (zh) * | 2017-06-06 | 2021-09-21 | 日商丸石產業股份有限公司 | 使用具備吸附層之研磨墊的研磨方法 |
KR102478853B1 (ko) * | 2017-06-06 | 2022-12-16 | 마루이시 산교 가부시키가이샤 | 흡착층을 구비하는 연마 패드를 사용하는 연마방법 |
US11602819B2 (en) | 2017-06-06 | 2023-03-14 | Maruishi Sangyo Co., Ltd. | Method for polishing using polishing pad provided with adsorption layer |
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