JP2010199607A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2010199607A5
JP2010199607A5 JP2010101431A JP2010101431A JP2010199607A5 JP 2010199607 A5 JP2010199607 A5 JP 2010199607A5 JP 2010101431 A JP2010101431 A JP 2010101431A JP 2010101431 A JP2010101431 A JP 2010101431A JP 2010199607 A5 JP2010199607 A5 JP 2010199607A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
substrate
exposure apparatus
functional
liquid supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010101431A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2010199607A (ja
JP5299347B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2010101431A priority Critical patent/JP5299347B2/ja
Priority claimed from JP2010101431A external-priority patent/JP5299347B2/ja
Publication of JP2010199607A publication Critical patent/JP2010199607A/ja
Publication of JP2010199607A5 publication Critical patent/JP2010199607A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5299347B2 publication Critical patent/JP5299347B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2010101431A 2010-04-26 2010-04-26 露光装置、液体供給方法、及びデバイス製造方法 Expired - Fee Related JP5299347B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010101431A JP5299347B2 (ja) 2010-04-26 2010-04-26 露光装置、液体供給方法、及びデバイス製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010101431A JP5299347B2 (ja) 2010-04-26 2010-04-26 露光装置、液体供給方法、及びデバイス製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004226583A Division JP4534651B2 (ja) 2004-08-03 2004-08-03 露光装置、デバイス製造方法及び液体回収方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010199607A JP2010199607A (ja) 2010-09-09
JP2010199607A5 true JP2010199607A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2011-08-18
JP5299347B2 JP5299347B2 (ja) 2013-09-25

Family

ID=42823933

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010101431A Expired - Fee Related JP5299347B2 (ja) 2010-04-26 2010-04-26 露光装置、液体供給方法、及びデバイス製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5299347B2 (enrdf_load_stackoverflow)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999049504A1 (fr) * 1998-03-26 1999-09-30 Nikon Corporation Procede et systeme d'exposition par projection
AU2003284672A1 (en) * 2002-12-03 2004-06-23 Nikon Corporation Contaminant removing method and device, and exposure method and apparatus
CN101872135B (zh) * 2002-12-10 2013-07-31 株式会社尼康 曝光设备和器件制造法
JP4029064B2 (ja) * 2003-06-23 2008-01-09 松下電器産業株式会社 パターン形成方法
US20050231695A1 (en) * 2004-04-15 2005-10-20 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method and system for immersion lithography using high PH immersion fluid
JP2006005122A (ja) * 2004-06-17 2006-01-05 Sony Corp 露光方法および露光装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010109391A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2012138624A5 (ja) 液浸リソグラフィ装置、及び洗浄方法
JP2012248902A5 (ja) 洗浄方法、液浸露光装置、及びデバイス製造方法
JP2012134512A5 (ja) 露光装置、露光装置のメンテナンス方法、露光方法、及びデバイス製造方法
JP2012044204A5 (ja) メンテナンス方法、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2016053721A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2014197716A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2010093302A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2011171757A5 (ja) 露光装置、及び液体除去方法
JP2010093298A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2012044223A5 (ja) ノズル部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP2012164992A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2010103579A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2012164996A5 (ja) 露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法
ATE467902T1 (de) Belichtungsvorrichtung, belichtungsverfahren und bauelementeherstellungsverfahren
JP2010087531A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2010103576A5 (ja) 露光装置、及び液体検出方法
JP2012142605A5 (ja) 液浸部材、液浸露光装置、及びデバイス製造方法。
JP2011023764A5 (ja) 流路形成部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP2012142604A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2012134553A5 (ja) 露光装置、液体検出方法、及びデバイス製造方法
JP2012169641A5 (ja) 液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法
JP2012129563A5 (ja) 露光装置及び露光方法
JP2010251808A5 (ja) 流路形成部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP2011109147A5 (ja) 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法