JP2010188584A - 耐擦傷性撥水構造及び耐擦傷性撥水構造体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】微細凹凸構造を備えた基材1の凹凸表面上に、密着層3を介して撥水層4を備えた撥水性構造において、基材1と密着層3の間に緩衝層2を形成する。
【選択図】図1
Description
また、自動車や鉄道車両、船舶、航空機などの各種ウインドウパネルに用いることにより、ワイパーの要らないウインドウパネルの実現が期待でき、部品数の削減や生産工数削減によるコスト削減が期待できる。さらに、ボディパネルに用いることによって、水しみ等の汚れを防ぐことができるものと期待されている。
ところが、SiO2等の無機酸化物から成る上記密着層は、一般的に延性に乏しく、外力によって破壊された場合には、この亀裂が基材の微細凹凸部分にまで伝播する結果、微細凹凸構造が破損し易くなるという問題がある。
また、本発明の耐擦傷性撥水構造体は、上記耐擦傷性撥水構造を基板の少なくとも一方の面に備えていることを特徴としている。
また、ディスプレイのカバーやウインドウパネルとして用いるべく、透明性を確保するためには、間隔Pを μm以下とすることが望ましい。また、外の景色や照明の映り込みを防止することを目的として、可視光の反射防止機能を得るためには400nm以下とすることが望ましい。ピッチPが400nmを超えると、回折光が発生し、反射率が大きくなる傾向がある。好ましくは380nm以下であり、更に好ましくは250nm以下である。250nm以下であれば、回折光はほとんど観測できなくなる。
また、錐体状突起1aの形状としては、正確な円錐(母線が直線)や角錐(稜が直線、側面が平面)のみならず、底面から先端側に向かって断面積が順次小さくなるような形状である限り、母線が曲線である円錐状のものや、側面が曲面をなす角錐状であってもよい。
加えて、錐体状突起1aの底面の中心と頂点を結ぶ直線は、必ずしも底面に対して垂直である必要もない。
なお、上記の図においては、平面上に無数の突起1aを所定間隔に配列した例を示したが、例えば正弦波曲線のような波状や、鋸形断面を有し、凸部と凹部が三次元的に連続するような凹凸構造を採用することも可能である。
特に、光の波長以下の微細凹凸を容易に成形するための方法としては、ナノインプリントが好適に用いられる。このナノインプリントによる成形方法としては、熱や活性エネルギー線のいずれを用いる方法であってもよい。
なお、本発明において、ナノインプリントとは、数nmから数10μm程度の範囲の転写を言う。
また、スタンパの材料としては、シリコンウエハ、各種金属材料、ガラス、セラミック、プラスチック、炭素材料等、強度と要求される精度の加工性を有するものであればよく、 具体的には、Si、SiC、SiN、多結晶Si、ガラス、Ni、Cr、Cu、C、さらにはこれらを1種以上含むものを例示することができる。
また、ここで用いられる活性エネルギー線としては、一般に紫外線やX線、その他電子線、電磁波などが挙げられるが、特に限定されるものではない。
この緩衝層2は、緩衝作用を発揮して凹凸構造に加わる外力を緩和し、後述する密着層3が破壊されたとしてもその亀裂が基材1の凹凸構造部分にまで到達しないようにする機能を有する。
これにより、緩衝層2が基材1よりも柔軟かつ靭性に優れたものとなり、外力による負荷応力を分散して、当該緩衝層2が基材1の凹凸と同時に破壊されてしまうような事態を回避することができる。
なお、当該緩衝層2の厚さとしては、十分な緩衝作用を発揮させる観点から、5〜100nm程度かつ微細構造が埋没しない範囲とすることが好ましい。
この密着層3の形成方法としては、特に限定されないが、例えば、LB法、PVD法、CVD法、スパッタ法等を用いることができる。
当該撥水層4を構成する撥水材料としては、例えばオクタン、デカン、ペンタデカン、ヘキサデカンなどの長鎖アルキル基を持つ長鎖アルコキシシラン、パーフルオロエーテル系やヒドロキシフルオロエーテル系、パーフルオロカーボン系、ハイドロキシフルオロカーボン系のフルオロアルコキシシラン、ポリジメチルシロキサン等を挙げることができる。
なお、上記撥水層3の形成方法としては、基材1の微細凹凸構造を埋めてしまうことのない方法であれば特に限定されず、例えば、LB法、PVD法、CVD法、自己組織化法、スパッタ法、単分子を溶剤で希釈したものを塗布する方法などが挙げられる。
すなわち、例えば接着剤などを用いて、上記微細凹凸構造を備えた基材1の凹凸表面上に緩衝層2、密着層4及び撥水層4を形成したものをガラスや他の樹脂材料などから成る基板上に貼り付けることによって、耐擦傷性撥水構造体が得られる。
市販の電子線描画装置を用いて、開口径100nm、深さ200nmの円錐状凹部が100nmの間隔に六方最密配列した金型を作製した。この金型に紫外線硬化アクリル樹脂を流し込み、基材であるアクリルを押し当てた状態で紫外線を照射することによって、底面径D=100nm、高さH=200nmの円錐状微細突起1aが頂点間距離P=100nmに六方最密配列された微細凹凸構造をその両面に備えた基材1を得た。
次いで、この緩衝層2の表面にスパッタリングによってSiO2から成る密着層3を5nmの膜厚に成膜した。
市販の電子線描画装置を用いて、開口径300nm、深さ500nmの円錐状凹部が300nmの間隔に六方最密配列した金型を作製し、この金型によって、基材1(底面径D=300nm、高さH=500nm、頂点間距離P=300nm)を同様に作製した。
これ以外は、上記実施例と同様の操作を繰り返すことによって、本例の耐擦傷性撥水構造体を得た。
上記実施例2と同じ金型により作製した基材1の凹凸表面上に、0.1%シリコーンエラストマーのアセトン溶液を乾燥状態で20nmの厚さになるように塗布し、シリコーンエラストマーから成る緩衝層2を形成したこと以外は、上記実施例と同様の操作を繰り返すことによって、本例の耐擦傷性撥水構造体を得た。
そして、このようにして得られた耐擦傷性撥水構造体について、上記実施例と同様の性能評価を行い、その結果を表1に併せて示す。
市販の電子線描画装置を用いて、開口径200nm、深さ500nmの円錐状凹部が200nmの間隔に六方最密配列した金型を作製し、この金型によって、基材1(底面径D=200nm、高さH=500nm、頂点間距離P=200nm)を同様に作製した。
これ以外は、上記実施例3と同様の操作を繰り返すことによって、本例の耐擦傷性撥水構造体を得た。
上記実施例1と同様の金型を用いて、同様の凹凸構造(底面径D=100nm、高さH=200nm、頂点間距離P=100nm)を両面に備えた基材1を作製し、この凹凸面上に、緩衝層2を形成することなく、密着層3及び撥水層4を実施例1と同様に形成した。
そして、このようにして得られた構造体について、同様の性能評価を行い、その結果を表1に併せて示す。
(1)撥水性能
上記各実施例及び比較例によって得られた各構造体について、まず、トラバース式摩耗試験機を用い、キャンバス布(JIS L 3102)から成る摩擦布によって、荷重9.8kPa、ストローク長100mm、摩擦速度30往復/分の条件のもとに、200回往復払拭作動させた。
そして、このような乾拭き試験後、JIS L 1092に規定された方法に基づき、スプレーテスタ(東洋精器製)を用いて、以下の基準によって撥水度を5段階評価した。
1:表面全体に濡れ広がるもの
2:水滴が球状を保持することなく、表面に濡れ広がるもの
3:表面に球状の水滴が付着するもの
4:表面に微小な球状の水滴がわずかに付着するもの
5:表面に水滴が付着しないもの
上記の乾拭き試験及び撥水性評価試験を終えた後の各構造体について、各構造体の払拭表面を目視にて観察し、傷付きがない場合を「○」、傷付きが認められたものを「×」とした。
これに対して、緩衝層のない比較例1による撥水構造体においては、図4(a)に示す試験開始前に較べて、試験終了後においては、4(b)に示すように凹凸構造がほとんど完全に消失していることが判明した。
1a 錐体状突起
2 緩衝層
3 密着層
4 撥水層
Claims (6)
- 微細凹凸構造を備えた基材の凹凸表面上に、緩衝層と密着層と撥水層をこの順に備えていることを特徴とする耐擦傷性撥水構造。
- 上記緩衝層を構成する材料の破断伸び率が5%以上であることを特徴とする請求項1に記載の耐擦傷性撥水構造。
- 上記微細凹凸が400nm以下のピッチで配列された無数の錐体状突起から成ることを特徴とする請求項1又は2に記載の耐擦傷性撥水構造。
- 請求項1〜3のいずれか1つの項に記載の耐擦傷性撥水構造を基板の少なくとも一方の面に備えていることを特徴とする耐擦傷性撥水構造体。
- 透明材料から構成されていることを特徴とする請求項4に記載の耐擦傷性撥水構造体。
- 請求項1〜3のいずれか1つの項に記載の耐擦傷性撥水構造を備えていることを特徴とする自動車部品。
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