JP2010177284A - 蓄電デバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の蓄電デバイスは、負極と、面間隔が0.340nm以上0.354nm以下である層状グラファイト構造を有する炭素材料を備えた正極と、負極と正極との間に介在する電解質と、を備えている。この炭素材料は、ヘキサベンゾコロネンを基本骨格とするものであることがより好ましい。面間隔が0.340nm以上0.354nm以下の範囲では、正極側でアニオンが層間に入り込みやすいことが考えられ、比較的低い電圧(例えば4.0V)に充放電曲線の屈曲点が現れ、比較的低い電圧域に電圧変化が緩やかな領域であるプラトー域を示し、容量が向上する。
【選択図】なし
Description
負極と、
面間隔が0.340nm以上0.354nm以下である層状グラファイト構造を有する炭素材料を備えた正極と、
前記負極と前記正極との間に介在する電解質と、
とを備えたものである。
(ヘキサベンゾコロネンの合成)
ヘキサフェニルベンゼン1.10gをジクロロメタン500mLに溶解し、窒素を5分間吹き込んだ。この溶液に、窒素雰囲気下で無水塩化鉄(FeCl3)6.30gをニトロメタン72mLに溶解した溶液を滴下し、室温で30分撹拌した。メタノール500mLを添加し、生成した沈殿をろ過した。沈殿物を10重量%アンモニア水50mL中で撹拌し、ろ過した。更に水50mL、ジクロロメタン50mLで洗浄し、真空乾燥することにより橙色粉末としてヘキサベンゾコロネン470mgを得た。この構造は以下のようにして確認した。すなわち、マトリックス支援レーザ脱離イオン化法(MALDI:Matrix Assisted Laser Desorption Ionization)と質量分析計(MS)とを組み合わせたMALDI−MS測定により分子イオンを確認し(M+=522)、構造を確定した。また、得られたヘキサベンゾコロネンのX線回折測定を、X線回折装置(リガク製RINT2200)によりCuKα線を用いて2θが10°〜60°の範囲で行った。得られた回折ピークの2θ値(°)から、このヘキサベンゾコロネンの面間距離を求めたところ、0.342nmであった。
活物質として上記ヘキサベンゾコロネンと、導電助剤としてカーボン(ECP600JD、ライオン社製)と、バインダーとしてポリテトラフルオロエチレン(PTFE)とを、餅状になるまで混練した後乾燥し、正極材を作製した。HBC:カーボン:PTFEの混合比は重量比で70:20:10とした。負極を厚さ0.4mm、直径18mmのリチウム金属板とし、セパレータを多孔質ポリエチレン(東燃機能膜製)とした。また、エチレンカーボネート及びジエチルカーボネートを体積比で(3:7)となるように混合した溶媒に1MのLiPF6を溶解させたものを作製し、これを非水電解液とした。そして、この正極、負極、セパレータ及び非水電解液を用い、図1のセルを作製した。正極材の重量が3mg、電極面積が1.3cm2、電圧域2.5V−4.7V、1mAの定電流駆動で充放電挙動を評価した。
ヘキサベンゾコロネンをジヘキシルヘキサベンゾコロネン(HBCC62)とした以外は実施例1と同様の工程を経て得られた評価セルを実施例2とした。なお、ジヘキシルヘキサベンゾコロネンは、上述した一般式(1)のR2及びR11がヘキシル基(炭素数6)であり、その他が水素である化合物である。実施例1と同様にX線回折測定を行ったところ、このジヘキシルヘキサベンゾコロネンの面間距離は、0.353nmであった。
ヘキサベンゾコロネンをグラファイト(TIMREX製KS6)とした以外は実施例1と同様の工程を経て得られた評価セルを比較例1とした。実施例1と同様にX線回折測定を行ったところ、このグラファイトの面間距離は、0.335nmであった。この比較例1では、電圧域を3V−5Vとし、充放電挙動を評価した。
ヘキサベンゾコロネンをグラフェンオキサイドとした以外は実施例1と同様の工程を経て得られた評価セルを比較例2とした。このグラフェンオキサイドは、H.Jeong,et.al.,J.Amer.Chem.Soc.,130,1362(2008).に記述された方法に従い合成した。具体的には、グラファイト1gに発煙硝酸20ml、塩素酸カリウム10gを室温で混ぜ、24時間攪拌した。これを洗浄、濾過し、グラフェンオキサイドを得た。この乾燥品のX線回折による面間隔は、0.58nmであった。この比較例2では、電圧域を2.5V−4.5Vとし、充放電挙動を評価した。
各サンプルの測定結果を表1、図2,3に示す。表1には、各サンプルのX線回折による面間隔(nm)、充電時の屈曲電圧(V)及び第5サイクル目の充放電容量(mAh/g)を示した。図2は、各評価セルの5サイクル目の充放電曲線である。また、図3は、面間隔(nm)に対する充電電圧の屈曲点(V)の関係を示す説明図である。図2に示すように、比較例1では、非水電解液の分解開始電圧(例えば5.0V)に近い4.6Vに屈曲点を有し、4.6V以上の電圧域にプラトー域があることがわかった。この結果は、特開2005−294780(特許文献1)と同じ実験結果を支持するものである。また、比較例2では、面間隔が0.58nmと大きく、明確なプラトー域は示さず、低い容量であった。これに対し、実施例1,2は、5サイクル目においても充電時及び放電時において4.0V近傍に屈曲点を有し、比較例1よりも低い電圧域にプラトー域があり、非水電解液の分解開始電圧を考慮してもより有効にプラトー域を利用し、比較例1よりも電圧を低下させているにもかかわらずに、より大きな容量を得ることができることがわかった。また、図3に示すように、例えば充電時での屈曲点が4.0V以下となるには、その面間隔が0.340nm以上であることが必要であることがわかった。一方、面間隔が0.354nm以上であると充放電曲線の屈曲点が明確でなくなることもわかった。このように、層状グラファイト構造を有する炭素材料は、その面間隔が0.340nm以上0.354nm以下であることが好ましく、0.342nm以上0.353nm以下であることがより好ましいことがわかった。
Claims (3)
- 負極と、
面間隔が0.340nm以上0.354nm以下である層状グラファイト構造を有する炭素材料を備えた正極と、
前記負極と前記正極との間に介在する電解質と、
を備えた蓄電デバイス。 - 前記正極は、ヘキサベンゾコロネンを基本骨格とする前記炭素材料を有する、請求項1に記載の蓄電デバイス。
- 前記正極は、ヘキサベンゾコロネン及びジヘキシルヘキサベンゾコロネンのうち少なくとも一方を含む前記炭素材料を有する、請求項2に記載の蓄電デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009015843A JP5245864B2 (ja) | 2009-01-27 | 2009-01-27 | 蓄電デバイス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009015843A JP5245864B2 (ja) | 2009-01-27 | 2009-01-27 | 蓄電デバイス |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2010177284A true JP2010177284A (ja) | 2010-08-12 |
JP5245864B2 JP5245864B2 (ja) | 2013-07-24 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009015843A Expired - Fee Related JP5245864B2 (ja) | 2009-01-27 | 2009-01-27 | 蓄電デバイス |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5245864B2 (ja) |
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CN102431990A (zh) * | 2011-09-22 | 2012-05-02 | 上海大学 | 水溶性荧光碳纳米盘的制备方法 |
US9831521B2 (en) | 2012-12-28 | 2017-11-28 | Ricoh Company, Ltd. | Nonaqueous electrolytic storage element |
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US9831521B2 (en) | 2012-12-28 | 2017-11-28 | Ricoh Company, Ltd. | Nonaqueous electrolytic storage element |
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