JP2010147445A - 発光装置 - Google Patents

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洋二 浦野
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Abstract

【課題】発光効率の向上を図れるとともに輝度むらを小さくできる発光装置を提供する。
【解決手段】実装基板20との間にLEDチップ10を囲む形で実装基板20に固着されLEDチップ10から放射された光を実装基板20側へ反射するドーム状のリフレクタ40と、蛍光体を含有した透光性材料により形成された色変換部50と備える。LEDチップ10は、LED薄膜部12、カソード電極18およびアノード電極17が六角錘状の透明基体11の下面11a側に形成され、当該透明基体11よりもLED薄膜部12が実装基板20に近くなる形で実装されている。実装基板20は、透光性基板21の一表面側にLEDチップ10のカソード電極18およびアノード電極17それぞれとバンプ30,30を介して接合される導体パターン23,23が形成され、色変換部50は、透光性基板21の他表面に設けられている。
【選択図】図1

Description

本発明は、LEDチップ(発光ダイオードチップ)を備えた発光装置に関するものである。
従来から、図3に示すように、平板状のLEDチップ10’と、LEDチップ10’が搭載される平面視十字状の放熱部材120’と、放熱部材120’におけるLEDチップ10’の搭載面側に配置された一対のリード端子24’,24’と、LEDチップ10’の光取り出し面10a’側に形成されたアノード電極(図示せず)およびカソード電極(図示せず)それぞれとリード端子24’,24’とを電気的に接続したボンディングワイヤ35’,35’と、LEDチップ10’および各ボンディングワイヤ35’,35’を封止した透光性材料からなる封止部(図示せず)と、放熱部材120’におけるLEDチップ10’の搭載面側に配置されLEDチップ10’から放射される光を反射するリフレクタ40’とを備えた発光装置A’が提案されている(特許文献1参照)。ここにおいて、図3に示した構成の発光装置A’におけるリフレクタ40’の反射面は、LEDチップ10’を焦点とする回転放物面状に形成されている(図3中の一点鎖線の矢印は、LEDチップ10’の光取り出し面10a’から放射されリフレクタ40’の反射面で反射された光の進行経路を模式的に示している)。なお、上述の発光装置A’は、各リード端子24’,24’が金属により形成され、放熱部材120’は、熱伝導性材料(例えば、Cu、Alなどの金属、アルミナやサーメットなどのセラミック)により形成されている。
また、従来から、発光層が窒化物半導体材料(GaN、InGaN、AlGaInNなど)により形成されたLEDチップと、LEDチップから放射された光によって励起されてLEDチップよりも長波長の光を放射する波長変換材料である蛍光体とを組み合わせてLEDチップの発光色とは異なる色合いの混色光を出す発光装置の研究開発が各所で行われている。なお、この種の発光装置としては、例えば、青色光あるいは紫外光を放射するLEDチップと蛍光体とを組み合わせて白色の光(白色光の発光スペクトル)を得る白色発光装置が広く知られている。
そこで、図3に示す構成の発光装置A’においても、封止部に蛍光体を分散させておくことにより、所望の混色光を得ることが考えられる。
特開2006−179777号公報
しかしながら、図3に示した構成の発光装置A’において封止部に蛍光体を分散させた場合、LEDチップ10’および蛍光体それぞれから放射されリフレクタ40’の反射面で反射された光がLEDチップ10’、各リード端子24’,24’、および各ボンディングワイヤ35’,35’により遮られるので、LEDチップ10’、各リード端子24’,24’、および各ボンディングワイヤ35’,35’が影になってしまい、発光効率が低下してしまうとともに輝度むらが大きくなってしまう。また、蛍光体がLEDチップ10’を封止している封止部に分散されているので、蛍光体で発生した熱を効率良く放熱することができず、蛍光体の温度消光によって量子効率が低下し、発光効率低下の原因となってしまう。
本発明は上記事由に鑑みて為されたものであり、その目的は、発光効率の向上を図れるとともに輝度むらを小さくできる発光装置を提供することにある。
請求項1の発明は、LEDチップと、当該LEDチップが実装された実装基板と、実装基板との間にLEDチップを囲む形で実装基板に固着されLEDチップから放射された光を実装基板側へ反射するドーム状のリフレクタと、LEDチップから放射される光によって励起されてLEDチップよりも長波長の光を放射する蛍光体を含有した透光性材料により形成された色変換部と備え、LEDチップは、n形半導体層とp形半導体層とを有するLED薄膜部、n形半導体層に電気的に接続されたカソード電極およびp形半導体層に電気的に接続されたアノード電極が六角錘状の透明基体の下面側に形成され、当該透明基体よりもLED薄膜部が実装基板に近くなる形で実装基板に実装されてなり、実装基板は、透光性基板の一表面側にLEDチップのカソード電極およびアノード電極それぞれとバンプを介して接合される導体パターンが形成され、色変換部は、透光性基板の他表面に設けられてなることを特徴とする。
この発明によれば、LEDチップの透明基体が六角錘状に形成されているので、従来の平板状のLEDチップに比べてLEDチップの光取り出し効率を高めることができ、また、LEDチップは、透明基体よりもLED薄膜部が実装基板に近くなる形で実装基板に実装され、実装基板は、透光性基板の一表面側にLEDチップのカソード電極およびアノード電極それぞれとバンプを介して接合される導体パターンが形成され、色変換部は、透光性基板の他表面に設けられているので、蛍光体の温度消光による量子効率の低下を抑制でき、しかも、LEDチップにおいてLED薄膜部を保持している六角錘状の透明基体が透明であること、LED薄膜部と色変換部との距離を比較的長くすることができること、および蛍光体の光拡散効果により、LEDチップやバンプの影が発生するのを抑制でき、且つ、光取り出し効率の向上による発光効率の向上を図れるとともに輝度むらを小さくできる。
請求項2の発明は、請求項1の発明において、前記実装基板は、前記導体パターンが透明導電膜により構成されてなることを特徴とする。
この発明によれば、前記導体パターンが金属層により構成されている場合に比べて、前記導体パターンによる光の反射や減衰を抑制できるので、光取り出し効率を向上できる。
請求項3の発明は、請求項1または請求項2の発明において、前記LEDチップと前記実装基板との間の隙間に透光性樹脂からなるアンダーフィル部が設けられてなることを特徴とする。
この発明によれば、前記LEDチップと前記実装基板との間の隙間に透光性樹脂からなるアンダーフィル部が設けられていることにより、前記LEDチップにおいて前記LED薄膜部から前記透明基体側とは反対側に放射される光が前記LED薄膜部の表面で反射されるのを抑制して効率良く取り出すことができ、光取り出し効率の向上を図れる。
請求項1の発明では、発光効率の向上を図れるとともに輝度むらを小さくできるという効果がある。
(実施形態1)
以下、本実施形態の発光装置について図1を参照しながら説明する。
本実施形態の発光装置Aは、図1に示すように、LEDチップ10と、当該LEDチップ10が一表面側に実装された矩形板状の実装基板20と、実装基板20との間にLEDチップ10を囲む形で実装基板20に固着されLEDチップ10から放射された光を実装基板20側へ反射するドーム状のリフレクタ40と、LEDチップ10から放射される光によって励起されてLEDチップ10よりも長波長の光を放射する蛍光体を含有した透光性材料により形成された色変換部50と備えている。
LEDチップ10は、青色光を放射するGaN系の青色LEDチップであり、それぞれ窒化物半導体材料により形成されたn形半導体層14と発光層15とp形半導体層16との積層構造を有するLED薄膜部12、n形半導体層14に電気的に接続されたカソード電極18およびp形半導体層16に電気的に接続されたアノード電極17がn形のZnO結晶からなる六角錘状の透明基体11の下面11a側に形成されている。
LEDチップ10のLED薄膜部12は、n形半導体層14をn形GaN層により構成し、発光層15をInGaN層により構成し、p形半導体層16を発光層15側のp形AlGaN層と当該p形AlGaN層における発光層15側とは反対側のp形GaN層とで構成してあるが、LED薄膜部12の積層構造は特に限定するものではなく、発光層15は単層構造に限らず、多重量子井戸構造ないし単一量子井戸構造でもよい。
また、LEDチップ10は、LED薄膜部12の平面視形状を透明基体11の下面11aよりもやや小さな正六角形状の形状に形成してあり、カソード電極18が、LED薄膜部12のn形半導体層14に接する形で形成されて当該n形半導体層14と電気的に接続され、アノード電極17が透明基体11の下面11aに接する形で形成され当該透明基体11を介してp形半導体層16と電気的に接続されている。したがって、n形半導体層14と発光層15とp形半導体層16との平面サイズを同じにすることができる。ここで、LEDチップ10のアノード電極17およびカソード電極18は、下層側のTi膜と上層側のAu膜との積層膜により構成されている。ただし、アノード電極17およびカソード電極18それぞれの形状、サイズ、個数および配置は特に限定するものではない。
上述のLEDチップ10は、主表面がc面のサファイアウェハの主表面側に上記積層構造を有するLED薄膜部12をエピタキシャル成長法(例えば、MOVPE法など)により成長し、その後、LED薄膜部12を透明基体11の基礎となるn形ZnOウェハに接合してから、サファイアウェハを除去し、続いて、塩酸系のエッチング液(例えば、塩酸水溶液など)を用いてエッチング速度の結晶方位依存性を利用した異方性エッチングを行うことによりn形ZnOウェハの一部からなる六角錘状の透明基体11を形成している。なお、n形ZnOウェハとしては、水熱合成法を利用して製造したものを用いている。六角錘状の透明基体11の高さは、n形ZnOウェハの厚さで規定することができ、本実施形態では、n形ZnOウェハとして厚さが500μmのものを用いているので、透明基体11の高さは500μmとなっているが、n形ZnOウェハの厚さは特に限定するものではない。また、透明基体11の下面11aに対する各斜面11bそれぞれの傾斜角は、n形ZnOウェハの結晶軸方向で規定され、n形ZnOウェハにおいて透明基体11の下面11aとなるZn極性面である(0001)面とは反対側のO極性面である(000−1)面に適宜パターニングされたマスクを設けてn形ZnOウェハをO極性面側から異方性エッチングすることにより透明基体11を形成しているので、下面11aに対する各斜面11bそれぞれの傾斜角が60°となっている。なお、上記マスクのサイズを適宜設定すれば、透明基体11を、六角錘の頂部を切り欠いた六角錘状の形状(六角錘台状の形状)とすることもできる。
また、LEDチップ10は、LED薄膜部12における透明基体11側とは反対側の表面(ここでは、n形半導体層14の表面)に光取り出し効率向上用の微細凹凸構造14aが形成されている。
上述のLEDチップ10は、アノード電極17とカソード電極18との間に順方向バイアス電圧を印加することにより、トンネル電流注入によりアノード電極17からp形半導体層16へホールが注入されるとともに、カソード電極18からn形半導体層14へ電子が注入され、発光層15に注入された電子とホールとが再結合することで発光し、透明基体11の各斜面11bおよびLED薄膜部12におけるn形半導体層14の透明基体11側とは反対側の表面から光が放射される。なお、波長が450nmの光に対するZnOの屈折率は2.1、GaNの屈折率は2.4である。
ところで、実装基板20は、透光性基板21の一表面側にLEDチップ10のカソード電極18およびアノード電極17それぞれとバンプ30,30を介して接合される導体パターン23,23が形成されている。
要するに、LEDチップ10は、透明基体11よりもLED薄膜部12が実装基板20に近くなる形で実装基板20の上記一表面側に実装されている。なお、実装基板20の平面視形状は、矩形状(本実施形態では、正方形状)となっているが、正方形状に限らず、例えば、長方形状、円形状、六角形状でもよい。
ここにおいて、透光性基板21の材料としては、例えば、パイレックス(登録商標)や硼珪酸ガラス(BK7)などのガラスを採用すればよいが、ガラスに限らず、LEDチップ10から放射される光に対して透光性を有する材料であればよく、例えば、6H−SiC、GaN、GaP、サファイアなどを採用してもよい。ただし、LEDチップ10と実装基板20とのバンプ30,30を介した電気的接続の長期的な信頼性を高めるとともに、LEDチップ10および色変換部50で発生した熱を伝熱させて効率的に放熱させるために、LEDチップ10との線膨張係数差が小さく熱伝導率が大きな材料が好ましい。これらの材料の線膨張係数および熱伝導率を下記表1に示す。
Figure 2010147445
また、各導体パターン23は、ITO膜からなる透明導電膜により構成されているが、透明導電膜は、ITO膜に限らず、例えば、GZO(GaをドープしたZnO)膜、AZO(AlをドープしたZnO)膜、IZO(InをドープしたZnO)膜などにより構成してもよい。
また、上述のリフレクタ40の材料としては、例えば、LEDチップ10や色変換部50の蛍光体から放射される光の反射率が高い(例えば、Al、Cu)などを採用すればよく、本実施形態では、Alを採用している。なお、リフレクタ40の材料としてCuを採用する場合には、内面にNi/Ag、Ni/Alなどの反射層をメタライズすることが望ましい。なお、リフレクタ40の材料は金属に限らず、樹脂やセラミックを採用してもよく、例えば樹脂を採用する場合には、例えば内面にNi/Ag、Ni/Alなどの反射層をメタライズすればよい。
また、リフレクタ40は、実装基板20側の端縁(開口部の周縁)を実装基板20に対して、接着剤(例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂など)を用いて固着してある。ここにおいて、リフレクタ40と実装基板20とで囲まれる空間は、ドライエア雰囲気としてあるが、N雰囲気や真空雰囲気としてもよい。ここにおいて、リフレクタ40は、内面が半球面状の形状に形成されており、LEDチップ10の光軸と光軸が一致するように配置されているが、リフレクタ40の内面の形状は所望の配光特性に応じて適宜設計すればよい。なお、図1中の一点鎖線の矢印は、LEDチップ10から放射された光の進行経路を模式的に示している。
また、上述の色変換部50は、LEDチップ10から放射された青色光によって励起されてブロードな黄色系の光を放射する粒子状の黄色蛍光体を含有した透光性材料(例えば、シリコーン樹脂など)により形成されている。したがって、本実施形態の発光装置Aは、LEDチップ10から放射された青色光と黄色蛍光体から放射された光とが色変換部50における透光性基板21側とは反対側の表面から出射されることとなり、白色光を得ることができる。なお、色変換部50の材料として用いる透光性材料は、シリコーン樹脂に限らず、例えば、アクリル樹脂、ガラス、有機成分と無機成分とがnmレベルもしくは分子レベルで混合、結合した有機・無機ハイブリッド材料などを採用してもよい。ここで、色変換部50の透光性材料としてガラスを採用すれば、シリコーン樹脂を採用している場合に比べて、色変換部50の熱伝導性が向上するので、蛍光体の温度上昇をより抑制できて量子効率を向上させることができ、しかも、水蒸気やNOなど対するガスバリア性や耐透湿性が向上するとともに、蛍光体の吸湿劣化を抑制でき、信頼性および耐久性が向上する。また、色変換部50の材料として用いる透光性材料に混合する蛍光体も黄色蛍光体に限らず、例えば、赤色蛍光体と緑色蛍光体とを混合しても白色光を得ることができる。
以上説明した本実施形態の発光装置Aによれば、LEDチップ10の透明基体11が六角錘状に形成されているので、従来の平板状のLEDチップ10’(図3参照)に比べてLEDチップ10の光取り出し効率を高めることができ、また、LEDチップ10は、透明基体11よりもLED薄膜部12が実装基板20に近くなる形で実装基板20に実装され、実装基板20は、透光性基板21の上記一表面側にLEDチップ10のカソード電極18およびアノード電極17それぞれとバンプ30,30を介して接合される導体パターン23,23が形成され、色変換部50は、透光性基板21の上記他表面に設けられているので、色変換部50で発生した熱を外部への輻射に加えて透光性基板21への伝熱により放熱させることができるとともにLEDチップ10からの熱の影響を受けにくくなって蛍光体の温度消光による量子効率の低下を抑制でき、しかも、LEDチップ10においてLED薄膜部12を保持している六角錘状の透明基体11が透明であること、LED薄膜部12と色変換部50との距離を比較的長くすることができること、および蛍光体の光拡散効果により、LEDチップ10やバンプ30の影が発生するのを抑制でき、且つ、光取り出し効率の向上による発光効率の向上を図れるとともに輝度むらを小さくできる。
また、本実施形態の発光装置Aでは、実装基板20の各導体パターン23,23が透明導電膜により構成されているので、各導体パターン23,23が金属層により構成されている場合に比べて、各導体パターン23,23による光の反射や減衰を抑制できるので、光取り出し効率を向上でき、また、図3に示した従来構成のようにLEDチップ10’が電気的に接続されるリード端子24’,24’を金属により形成してある場合に比べても、光の反射や減衰を抑制できるので、光取り出し効率を向上できる。
(実施形態2)
図2に示す本実施形態の発光装置Aの基本構成は実施形態1と略同じであり、LEDチップ10と実装基板20との間の隙間に透光性樹脂(例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂など)からなるアンダーフィル部60が設けられている点が相違するだけである。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態の発光装置Aでは、LEDチップ10と実装基板20との間の隙間に透光性樹脂からなるアンダーフィル部60が設けられているので、LEDチップ10のアノード電極17およびカソード電極18と透光性基板21の上記一表面側の導体パターン23,23との接続信頼性を高めることができ、しかも、LEDチップ10においてLED薄膜部12から透明基体11側とは反対側に放射される光(発光層14から透明基体11側とは反対側に放射される光)がLED薄膜部12の表面で反射されるのを抑制して効率良く取り出すことができ、光取り出し効率の向上を図れる。
なお、上述の各実施形態では、LEDチップ10の発光色を青色光としてあるが、LEDチップ10の発光色は青色光に限らず、緑色光、赤色光、紫色光、紫外光などでもよい。また、n形半導体層14、発光層15、およびp形半導体層16の材料は窒化物半導体材料に限定するものではなく、他の化合物半導体材料でもよい。また、LED薄膜部12は、少なくともn形半導体層14とp形半導体層16とを備えていればよく、発光層15は必ずしも備えている必要はない。
実施形態1の発光装置を示す概略断面図である。 実施形態2の発光装置を示す概略断面図である。 従来例の発光装置を示し、(a)は概略斜視図、(b)は概略断面図である。
符号の説明
10 LEDチップ
11 透明基体
11a 下面
12 LED薄膜部
14 n形半導体層
16 p形半導体層
17 アノード電極
18 カソード電極
20 実装基板
21 透光性基板
23 導体パターン
40 リフレクタ
50 色変換部
60 アンダーフィル部

Claims (3)

  1. LEDチップと、当該LEDチップが実装された実装基板と、実装基板との間にLEDチップを囲む形で実装基板に固着されLEDチップから放射された光を実装基板側へ反射するドーム状のリフレクタと、LEDチップから放射される光によって励起されてLEDチップよりも長波長の光を放射する蛍光体を含有した透光性材料により形成された色変換部と備え、LEDチップは、n形半導体層とp形半導体層とを有するLED薄膜部、n形半導体層に電気的に接続されたカソード電極およびp形半導体層に電気的に接続されたアノード電極が六角錘状の透明基体の下面側に形成され、当該透明基体よりもLED薄膜部が実装基板に近くなる形で実装基板に実装されてなり、実装基板は、透光性基板の一表面側にLEDチップのカソード電極およびアノード電極それぞれとバンプを介して接合される導体パターンが形成され、色変換部は、透光性基板の他表面に設けられてなることを特徴とする発光装置。
  2. 前記実装基板は、前記導体パターンが透明導電膜により構成されてなることを特徴とする請求項1記載の発光装置。
  3. 前記LEDチップと前記実装基板との間の隙間に透光性樹脂からなるアンダーフィル部が設けられてなることを特徴とする請求項1または請求項2記載の発光装置。
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