JP2010145457A - 液晶表示装置および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】表示に寄与する画素電極または共通電極の部分を大きくすることが可能な液晶表
示装置を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置１００は、コンタクトホール１８ａの形状を反映した凹部
１９ａを含む画素電極１９と、画素電極１９に対向するように配置されるとともに、複数
のスリット２１ａおよび電極部２１ｂを有する共通電極２１と、画素電極１９と共通電極
２１との間に形成されるとともに、画素電極１９の凹部１９ａを埋めるように形成される
層間絶縁膜２０とを備え、層間絶縁膜２０のうちの画素電極１９の凹部１９ａに対応する
領域の表面上には、共通電極２１の電極部２１ｂが形成されている。
【選択図】図４

Description

本発明は、液晶表示装置および電子機器に関し、特に、一対の電極が層間絶縁膜を挟ん
で対向するように設けられる液晶表示装置および電子機器に関する。

従来、一対の電極（画素電極および共通電極）が層間絶縁膜を挟んで対向するように設
けられる液晶表示装置が知られている（たとえば、特許文献１参照）。上記特許文献１に
記載の液晶表示装置は、ＴＦＴ素子（薄膜トランジスタ）と、薄膜トランジスタの表面上
に形成される平坦化膜と、平坦化膜に設けられるコンタクトホールを介して薄膜トランジ
スタのソース／ドレインの一方に接続される画素電極と、画素電極と対向するように設け
られる共通電極と、画素電極と共通電極との間に設けられる誘電膜（層間絶縁膜）とを備
えている。そして、画素電極および共通電極は、薄膜トランジスタが設けられる側に設け
られ、画素電極と共通電極との間に発生する横方向の電界により液晶を駆動するＦＦＳ（
Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式により液晶表示装置が駆動されて
いる。

特開２００７−２４８７３６号公報

しかしながら、上記特許文献１に記載の液晶表示装置では、画素電極と共通電極との間
に設けられる層間絶縁膜をＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ）法などで形成した場合に、薄膜トランジスタのソース／ドレインの一方と画素電極と
のコンタクト部分ではステップカバレジ（段差部の被覆率）が悪くなることに起因して、
層間絶縁膜の厚みが小さくなることが考えられる。このため、画素電極と共通電極との短
絡を防ぐためコンタクトホール近傍の共通電極が大きくくり抜かれている。その結果、表
示に寄与できる領域が小さくなるという問題点がある。また、層間絶縁膜上に画素電極が
形成される構成の液晶表示装置においても、上記層間絶縁膜上に共通電極が形成される場
合と同様に、画素電極と共通電極との短絡を防ぐためコンタクトホール近傍の画素電極が
大きくくり抜かれている。このため、表示に寄与できる領域が小さくなるという問題点が
ある。

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つ
の目的は、表示に寄与する画素電極または共通電極の部分を大きくすることが可能な液晶
表示装置を提供することである。

上記目的を達成するために、この発明の第１の局面における液晶表示装置は、画素電位
または共通電位の一方を供給する第１導電層と、画素電位または共通電位の他方を供給す
る第２導電層と、第１導電層および第２導電層の表面上に形成され、第１導電層に対応す
る領域に形成されるコンタクトホールを有する平坦化膜と、第１導電層にコンタクトホー
ルを介して接続され、コンタクトホールの形状を反映した凹状の部分を含み、画素電極お
よび共通電極の一方からなる第１電極と、第１電極に対向するように配置されるとともに
、所定の方向に沿って延びるように形成される複数のスリットを有し、画素電極および共
通電極の他方からなる第２電極と、第１電極と第２電極との間に形成されるとともに、第
１電極の凹状の部分を埋めるように形成される層間絶縁膜とを備え、層間絶縁膜のうちの
第１電極の凹状の部分に対応する領域の表面上には、第２電極の電極部が形成されている
。

この第１の局面による液晶表示装置では、上記のように、第１電極の凹状の部分を埋め
るように層間絶縁膜を形成するとともに、層間絶縁膜のうちの第１電極の凹状の部分に対
応する領域の表面上に第２電極の電極部を形成することによって、層間絶縁膜のうちの第
１電極の凹状の部分に対応する領域の表面上の第２電極の電極部と、第１電極との間に発
生する電界によって液晶を駆動することができるので、層間絶縁膜のうちの第１電極の凹
状の部分に対応する領域の表面上に第２電極の電極部を形成しない場合と異なり、表示に
寄与できる領域を大きくすることができる。

上記第１の局面による液晶表示装置において、好ましくは、層間絶縁膜は、有機膜から
なる。このように構成すれば、たとえば塗布法により、容易に、第１電極の凹状の部分を
埋めるように層間絶縁膜を形成することができる。

上記第１の局面による液晶表示装置において、好ましくは、第２電極の電極部の端部の
少なくとも一部は、平面的に見て、コンタクトホールの上端部の近傍に配置されている。
このように構成すれば、コンタクトホールの上端部の近傍に配置される第２電極の電極部
と画素電極との間の層間絶縁膜の厚みが、コンタクトホールよりも外側の領域に位置する
層間絶縁膜の厚みと略同じになるので、コンタクトホールの上端部の近傍上の第２電極と
第１電極との間に発生する電界の強さと、コンタクトホールの外側上の第２電極と第１電
極との間に発生する電界の強さとを略等しくすることができる。

この場合、好ましくは、平面的に見て、コンタクトホールの上端部の少なくとも一部と
、第２電極の電極部の端部とが略一致している。このように構成すれば、第２電極の電極
部の端部が平面的に見て、コンタクトホールの上端部よりもコンタクトホールの内側に配
置されている場合と異なり、コンタクトホールの上端部の近傍上の第２電極と第１電極と
の間の距離と、コンタクトホールの外側上の第２電極と第１電極との間の距離とを略等し
くすることができる。

上記コンタクトホールの上端部の少なくとも一部と、第２電極の電極部の端部とが略一
致している液晶表示装置において、好ましくは、平面的に見て、所定の方向と交差する方
向のコンタクトホールの上端部と、スリットの長辺とが略一致している。このように構成
すれば、コンタクトホールの上端部上のスリットの長辺上に配置される液晶を、表示に寄
与させることができる。

上記電極部の端部の少なくとも一部がコンタクトホールの上端部の近傍に配置されてい
る液晶表示装置において、好ましくは、所定の方向と交差する方向の第１導電層の幅は、
所定の方向と交差する方向のコンタクトホールの２つの上端部の間隔より小さく形成され
ている。このように構成すれば、第１電極の凹状の部分に対応する第２電極の電極部を第
１導電層によって遮光される領域を小さくでき、表示に寄与できる領域を大きくできる。

上記第１の局面による液晶表示装置において、好ましくは、層間絶縁膜の第１電極の凹
状の部分に対応する領域の表面上に形成される第２電極の電極部と、第１電極との間に発
生する電界により、液晶が駆動されるように構成されている。このように構成すれば、層
間絶縁膜のうちの第１電極の凹状の部分に対応する領域の表面上に形成される第２電極が
表示に寄与するので、表示に寄与する第２電極の部分を大きくすることができる。

この場合、好ましくは、層間絶縁膜のうちの第１電極の凹状の部分に対応する領域の表
面上に形成される第２電極の電極部と第１電極との間に発生する電界の強さと、層間絶縁
膜のうちの第１電極の凹状の部分以外に対応する領域の表面上に形成される第２電極の電
極部と第１電極との間に発生する電界の強さとが略同じになるように構成されている。こ
のように構成すれば、層間絶縁膜のうちの第１電極の凹状の部分に対応する領域の表面上
に形成される第２電極の電極部による液晶の駆動と、層間絶縁膜のうちの第１電極の凹状
の部分以外に対応する領域の表面上に形成される第２電極の電極部による駆動とを同じに
することができる。

上記第１の局面による液晶表示装置において、好ましくは、画素電極からなる第１電極
の凹状の部分を埋めるように、層間絶縁膜が形成されるとともに、層間絶縁膜の画素電極
の凹状の部分に対応する領域の表面上に共通電極からなる第２電極の電極部が形成されて
いる。このように構成すれば、層間絶縁膜のうちの画素電極の凹状の部分に対応する領域
の表面上の共通電極の電極部と、画素電極との間に発生する電界によって液晶を駆動する
ことができるので、表示に寄与する共通電極の部分を大きくすることができる。

この発明の第２の局面による電子機器は、上記のいずれかの構成を有する液晶表示装置
を備える。このように構成すれば、表示に寄与する画素電極または共通電極の部分を大き
くすることが可能な電子機器を得ることができる。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。

（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態による液晶表示装置の平面図である。図２は、本発明の
第１実施形態による液晶表示装置の表示部の画素の平面図である。図３は、図２の２００
−２００線に沿った断面図および周辺回路形成領域の断面図である。図４は、図２の２５
０−２５０線に沿った断面図である。図５は、本発明の第１実施形態における画素の拡大
断面図である。図１〜図５を参照して、本発明の第１実施形態による液晶表示装置１００
の構成について説明する。

第１実施形態による液晶表示装置１００は、図１に示すように、ガラスからなる基板１
上に、表示部２、Ｖドライバ３、Ｈドライバ４が設けられている。Ｖドライバ３およびＨ
ドライバ４には、それぞれ、複数のゲート線５および複数のデータ線６が接続されている
。ゲート線５とデータ線６とが交差する位置に画素７（図２参照）が配置されている。基
板１には、駆動ＩＣ８が設けられており、Ｖドライバ３およびＨドライバ４は、駆動ＩＣ
８に接続されている。表示部２は、駆動ＩＣ８に接続されており、後述する共通電極２１
に共通電位（ＣＯＭ）を供給するように構成されている。

次に、画素７の断面構造について説明する。図３に示すように、基板１の表面上には、
バッファ膜１１が形成されている。このバッファ膜１１は、ＳｉＯ_２やＳｉＮなどからな
る。また、バッファ膜１１の表面上の画素選択用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１２が形
成される領域には、能動層１２ａが形成されている。この能動層１２ａは、ポリシリコン
などからなる。また、バッファ膜１１の表面上には、能動層１２ａを覆うようにＳｉＯ_２
やＳｉＮからなる絶縁膜１３が形成されている。なお、絶縁膜１３のゲート電極１４に対
応する部分は、後述のゲート絶縁膜として機能する。

また、ゲート絶縁膜として機能する絶縁膜１３の表面上には、ゲート電極１４が形成さ
れている。このゲート電極１４は、クロムやモリブデンを含む金属などからなる。また、
ゲート電極１４は、図２に示すように、平面的に見てＵ字形状に形成されている。また、
絶縁膜１３およびゲート電極１４の表面上には、ＳｉＯ_２やＳｉＮからなる絶縁膜１５が
形成されている。

絶縁膜１３および絶縁膜１５には、能動層１２ａのソース領域１２ｂを露出するための
コンタクトホール１３ａおよび１５ａと、ドレイン領域１２ｃを露出するためのコンタク
トホール１３ｂおよび１５ｂとが形成されている。また、コンタクトホール１３ａおよび
１５ａを介してソース領域１２ｂに接続するとともに、絶縁膜１５の表面上に延びるよう
にデータ線６が形成されている。このデータ線６は、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏがこの順で下層か
ら上層に積層された金属などからなる。

また、コンタクトホール１３ｂおよび１５ｂを介してドレイン領域１２ｃに接続すると
ともに、絶縁膜１５の表面上に延びるようにドレイン電極１６が形成されている。なお、
ドレイン電極１６は、本発明の「第１導電層」の一例である。このドレイン電極１６は、
Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏがこの順で下層から上層に積層された金属などからなる。

図３に示すように、周辺回路（Ｖドライバ３やＨドライバ４など：図１参照）に対応す
る領域の絶縁膜１５の表面上には、共通電極２１に共通電位（ＣＯＭ）を供給するための
共通電位配線１７が形成されている。なお、共通電位配線１７は、本発明の「第２導電層
」の一例である。

また、データ線６、ドレイン電極１６、共通電位配線１７および絶縁膜１５の表面上に
は、アクリルやポリイミドなどの感光性を有する有機膜からなる平坦化膜１８が形成され
ている。平坦化膜１８には、ドレイン電極１６を露出するためのコンタクトホール１８ａ
と、共通電位配線１７を露出するためのコンタクトホール１８ｂとが形成されている。

平坦化膜１８の表面上には、コンタクトホール１８ａを介してドレイン電極１６と電気
的に接続される画素電極１９が形成されている。なお、画素電極１９は、本発明の「第１
電極」の一例である。この画素電極１９は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）などの透明電
極からなり、下層の平坦化膜１８の形状を反映して平坦な形状に形成されるとともに、コ
ンタクトホール１８ａの形状を反映した凹部１９ａを有する。また、画素電極１９は、表
示信号に応じた電圧がＴＦＴを介して印加されるように構成されている。

ここで、第１実施形態では、画素電極１９および平坦化膜１８の表面上には、画素電極
１９の凹部１９ａを埋め込むように塗布法により形成され、アクリルやポリイミドなどの
感光性を有する有機膜からなる層間絶縁膜２０が形成されている。なお、平坦化膜１８と
層間絶縁膜２０とのエッチングレートは、略等しくなるように構成されている。なお、層
間絶縁膜２０は、画素電極１９の凹部１９ａを埋め込むように形成され、下層の膜に影響
を与えない方法で形成できれば、塗布法や有機膜に限らない。また、周辺回路に対応する
領域において、コンタクトホール１８ｂ（共通電位配線１７）に対応する層間絶縁膜２０
の領域には、コンタクトホール２０ａが形成されている。

層間絶縁膜２０の表面を覆うように、ＩＴＯなどの透明電極からなる共通電極２１が形
成されている。なお、共通電極２１は、本発明の「第２電極」の一例である。共通電極２
１は、コンタクトホール２０ａを介して共通電位配線１７と接続されている。

図２に示すように、共通電極２１は、複数の画素７に跨るように形成されているととも
に、矢印Ｙ方向に沿うように複数の電極部２１ｂおよびスリット２１ａが設けられている
。また、コンタクトホール１８ａは、円形形状に形成されている。そして、図２および図
５に示すように、平坦化膜１８に形成されたコンタクトホール１８ａは、断面的に見て、
底部より上部が大きい凹状に形成され、コンタクトホール１８ａの上端部１８１ａにおけ
る層間絶縁膜２０の厚みｔ１が、コンタクトホール１８ａの外側の領域に対応する層間絶
縁膜２０の厚みｔ２とは、略等しくなる。第１実施形態では、コンタクトホール１８ａの
上端部１８１ａは、平面的に見て、共通電極２１の電極部２１ｂの端部（スリット２１ａ
の長辺）と略一致するようにＣ１線上（図５参照）に形成されている。なお、コンタクト
ホール１８ａの上端部１８１ａのうち、スリット２１ａが延びる方向と交差するＸ方向側
の上端部１８１ａが、平面的に見て、スリット２１ａの長辺と略一致するように形成され
ている。なお、コンタクトホール１８ａは、円形形状に限らず楕円形状または長方形状に
形成されてもよい。

図３および図４に示すように、共通電極２１と対向するように、ガラスからなる基板３
１が設けられている。基板３１の共通電極２１に対向する側の表面上には、ブラックマト
リクス３２（遮光膜）が設けられている。なお、図５に示すように、画素電極１９の凹部
１９ａ上のブラックマトリクス３２の端部は、共通電極２１の電極部２１ｂの端部と略一
致するようにＣ１線上に形成されている。また、ドレイン電極１６の端部も、共通電極２
１の電極部２１ｂの端部と略一致するようにＣ１線上に形成されている。なお、ブラック
マトリクス３２の端部、または、ドレイン電極１６の端部のうちの一方を、共通電極２１
の電極部２１ｂの端部と略一致するようにＣ１線上に形成し、他方を共通電極２１の電極
部２１ｂの端部より電極部２１ｂの内部に形成してもよい。また、共通電極２１、層間絶
縁膜２０、画素電極１９および平坦化膜１８の屈折率がほぼ等しければ、ブラックマトリ
クス３２の端部、およびドレイン電極１６の端部の両方を、共通電極２１の電極部２１ｂ
の端部より電極部２１ｂの内部に形成してもよい。

また、図３に示すように、共通電極２１と基板３１との間には、液晶層３３が挟持され
ている。また、基板１に対向するようにバックライト３４が設けられている。バックライ
ト３４は、基板１側から基板３１側に向けて光が出射されるように構成されている。

図６は、本発明の第１実施形態における画素の拡大平面図である。図５および図６を参
照して、本発明の第１実施形態における画素電極１９と共通電極２１との間に発生する電
界について説明する。

図５に示すように、画素電極１９と共通電極２１とに、それぞれ、大きさの異なる電圧
が印加されたとき、共通電極２１から画素電極１９に向かって、または、画素電極１９か
ら共通電極２１に向かって略水平方向（斜め方向）の電界が発生する。このとき、第１実
施形態では、層間絶縁膜２０のうち画素電極１９の凹部１９ａ上に形成される共通電極２
１の電極部２１ｂと画素電極１９との間に発生する電界Ａの大きさと、層間絶縁膜２０の
うち凹部１９ａ上の表面上に形成される共通電極２１の電極部２１ｃと画素電極１９との
間に発生する電界Ｂの大きさとは、略等しい。

また、図６に示すように、電界Ａと電界Ｂとは、それぞれ、共通電極２１のスリット２
１ａの長辺に沿った方向に交差する方向（Ｘ方向）に発生する。なお、電界Ａは、コンタ
クトホール１８ａの上端部１８１ａ上の電極部２１ｂ上にも発生している。

第１実施形態では、上記のように、画素電極１９の凹部１９ａを埋めるように層間絶縁
膜２０を形成するとともに、層間絶縁膜２０のうちの画素電極１９の凹部１９ａに対応す
る領域の表面上に共通電極２１の電極部２１ｂを形成することによって、層間絶縁膜２０
のうちの画素電極１９の凹部１９ａに対応する領域の表面上の共通電極２１の電極部２１
ｂと、画素電極１９との間に発生する電界によって液晶を駆動することができるので、表
示に寄与できる領域を大きくすることが可能となる。従来の画素電極１９の凹部１９ａに
対応する領域の層間絶縁膜２０の表面上に共通電極２１の電極部２１ｂを形成しない場合
、画素電極１９の凹部１９ａに対応する領域およびその近傍の液晶には電界が印加されな
いか不適切な電界が印加されるため、表示に寄与できる領域が小さくなっていた。そして
、通常、遮光性の材料で形成されるドレイン電極１６よりも大きい領域をブラックマトリ
クス３２で遮光していた。

また、第１実施形態では、上記のように、層間絶縁膜２０を有機膜から形成することに
よって、塗布法により、容易に、画素電極１９の凹部１９ａを埋めるように層間絶縁膜２
０を形成することができる。

また、第１実施形態では、上記のように、円形形状のコンタクトホール１８ａの上端部
１８１ａの少なくとも一部と、共通電極２１の電極部２１ｂの端部とが、平面的に見て、
略一致するように構成することによって、共通電極２１の電極部２１ｂの端部が平面的に
見て、コンタクトホール１８ａの上端部１８１ａよりもコンタクトホール１８ａの内側に
配置されている場合と異なり、コンタクトホール１８ａの上端部１８１ａの近傍上の共通
電極２１と画素電極１９との間の距離（層間絶縁膜２０の厚みｔ１）と、コンタクトホー
ル１８ａの外側上の共通電極２１と画素電極１９との間の距離（層間絶縁膜２０の厚みｔ
２）とを略等しくすることができる。

また、第１実施形態では、上記のように、平面的に見て、スリット２１ａが形成される
所定の方向（Ｙ方向）と交差するＸ方向のコンタクトホール１８ａの上端部１８１ａと、
スリット２１ａの長辺とが略一致するように構成することによって、コンタクトホール１
８ａの上端部１８１ａ上のスリット２１ａの長辺上に配置される液晶を、表示に寄与させ
ることができる。

また、第１実施形態では、上記のように、画素電極１９の凹部１９ａに対応する領域の
層間絶縁膜２０の高さと、画素電極１９の凹部１９ａ以外の部分に対応する領域の層間絶
縁膜２０の高さとを略同じになるように形成して、コンタクトホール１８ａの上端部１８
１ａ近傍に対応する領域の層間絶縁膜２０の厚みと、コンタクトホール１８ａよりも外側
の領域の層間絶縁膜２０の厚みとが略等しくなるように形成することによって、容易に、
コンタクトホール１８ａの上端部１８１ａ近傍上の共通電極２１と画素電極１９との間に
発生する電界の強さと、コンタクトホール１８ａの外側上の共通電極２１と画素電極１９
との間に発生する電界の強さとを略等しくすることができる。

また、第１実施形態では、上記のように、層間絶縁膜２０のうちの画素電極１９の凹部
１９ａに対応する領域の表面上に形成される共通電極２１のスリット２１ａ以外の電極部
２１ｂと、画素電極１９との間に発生する電界により、液晶を駆動するように構成するこ
とによって、層間絶縁膜２０のうちの画素電極１９の凹部１９ａに対応する領域の表面上
に形成される共通電極２１が表示に寄与するので、表示に寄与できる領域を大きくするこ
とができる。

また、第１実施形態では、上記のように、層間絶縁膜２０のうちの画素電極１９の凹部
１９ａに対応する領域の表面上に形成される共通電極２１の電極部２１ｂと画素電極１９
との間に発生する電界の強さと、層間絶縁膜２０のうちの画素電極１９の凹部１９ａ以外
に対応する領域の表面上に形成される共通電極２１の電極部２１ｃと画素電極１９との間
に発生する電界の強さとが略同じになるように構成することによって、層間絶縁膜２０の
うちの画素電極１９の凹部１９ａに対応する領域の表面上に形成される共通電極２１の電
極部２１ｂによる液晶の駆動と、層間絶縁膜２０のうちの画素電極１９の凹部１９ａ以外
に対応する領域の表面上に形成される共通電極２１の電極部２１ｃによる駆動とを同じに
することができる。

（第２実施形態）
図７は、本発明の第２実施形態による液晶表示装置の画素の平面図である。図８は、図
７の３００−３００線に沿った断面図である。この第２実施形態では、上記した第１実施
形態とは異なり、層間絶縁膜２０を挟んで共通電極１２１上に画素電極１１９が配置され
ている。

第２実施形態による液晶表示装置１０１では、図８に示すように、データ線６、ドレイ
ン電極１１６、共通電位配線１１７および絶縁膜１５の表面上には、アクリルやポリイミ
ドなどの感光性を有する有機膜からなる平坦化膜１８が形成されている。なお、ドレイン
電極１１６および共通電位配線１１７は、それぞれ、本発明の「第２導電層」および「第
１導電層」の一例である。平坦化膜１８には、共通電位配線１１７を露出するためのコン
タクトホール１８ｃと、ドレイン電極１１６を露出するためのコンタクトホール１８ｄと
が形成されている。

平坦化膜１８の表面上には、コンタクトホール１８ｃを介して共通電位配線１１７と電
気的に接続される共通電極１２１が形成されている。共通電位配線１１７は、図７に示す
ように、Ｘ方向に沿った方向に延びるように形成されており、画素７ごとに共通電極１２
１と電気的に接続されている。また、共通電極１２１は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）
などの透明電極からなり、下層の平坦化膜１８の形状を反映して平坦な形状に形成される
。なお、共通電極１２１は、コンタクトホール１８ｃの形状を反映した凹部１２１ａを有
する。また、共通電極１２１は、本発明の「第１電極」の一例である。

共通電極１２１および平坦化膜１８の表面上には、アクリルやポリイミドなどの感光性
を有する有機膜からなる層間絶縁膜２０が形成されている。また、コンタクトホール１８
ｄ（ドレイン電極１１６）に対応する層間絶縁膜２０の領域には、コンタクトホール２０
ｂが形成されている。

層間絶縁膜２０の表面を覆うように、ＩＴＯなどの透明電極からなる画素電極１１９が
形成されている。なお、画素電極１１９は、本発明の「第２電極」の一例である。画素電
極１１９は、コンタクトホール２０ｂを介してドレイン電極１１６と接続されている。ま
た、画素電極１１９は、図７に示すように、Ｙ方向に沿った方向に複数のスリット１１９
ａが設けられている。ここで、第２実施形態では、共通電極１２１の凹部１２１ａに対応
する層間絶縁膜２０の表面上には、画素電極１１９の電極部１１９ｂが形成されている。
なお、第２実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。

なお、第２実施形態の効果は、上記第１実施形態と同様である。

図９および図１０は、それぞれ、本発明の第１および第２実施形態による液晶表示装置
を用いた電子機器の一例を説明するための図である。次に、図９および図１０を参照して
、本発明の第１（第２）実施形態による液晶表示装置１００（１０１）を用いた電子機器
について説明する。

本発明の第１（第２）実施形態による液晶表示装置１００（１０１）は、図９および図
１０に示すように、携帯電話４００およびＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）
５００などに用いることが可能である。図９の携帯電話４００においては、表示画面４０
０ａに本発明の第１（第２）実施形態による液晶表示装置１００（１０１）が用いられる
。また、図１０のＰＣ５００においては、表示画面５００ｂなどに用いることが可能であ
る。

なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと
考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範
囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が
含まれる。

たとえば、上記第１実施形態では、平坦化膜１８に形成されるコンタクトホール１８ａ
の上端部１８１ａが角張った形状に形成されている例を示したが、本発明はこれに限らず
、図１１に示すように、コンタクトホール１８ａの上端部１８１ａが丸形形状に形成され
ていてもよい。この場合、画素電極１９の凹部１９ａ上に形成される共通電極２１の電極
部２１ｂのスリット２１ａ側の端部は、平面的に見て、コンタクトホール１８ａの丸形形
状の上端部の丸みがなくなる領域Ｃ２と略一致するように形成される。

また、上記第１実施形態では、平坦化膜１８に形成されるコンタクトホール１８ａのＸ
方向の２つの上端部１８１ａと、共通電極２１の電極部２１ｂのＸ方向の２つのスリット
２１ａ側の端部とが平面的に見て略一致するように形成されている例を示したが、本発明
はこれに限らず、図１２に示すように、コンタクトホール１８ａのＸ方向の２つの上端部
１８１ａのうちの一方と、共通電極２１のスリット２１ａ以外の電極部２１ｂのＸ方向の
２つのスリット２１ａ側の端部のうちの一方とが平面的に見て略一致するように形成して
もよい。

また、上記第１実施形態では、平坦化膜１８に形成されるコンタクトホール１８ａの上
端部１８１ａと、共通電極２１の電極部２１ｂのスリット２１ａ側の端部とが平面的に見
て略一致するように形成されている例を示したが、本発明はこれに限らず、図１３に示す
ように、コンタクトホール１８ａの上端部１８１ａの近傍（内側）に、共通電極２１のス
リット２１ａ以外の電極部２１ｂのスリット２１ａ側の端部を形成してもよい。

本発明の第１実施形態による液晶表示装置の平面図である。 本発明の第１実施形態による液晶表示装置の表示部の画素の平面図である。 図２の２００−２００線に沿った断面図および周辺回路形成領域の断面図である。 図２の２５０−２５０線に沿った断面図である。 本発明の第１実施形態における画素の拡大断面図である。 本発明の第１実施形態における画素の拡大平面図である。 本発明の第２実施形態による液晶表示装置の画素の平面図である。 図７の３００−３００線に沿った断面図である。 本発明の第１および第２実施形態による液晶表示装置を用いた電子機器の一例を説明するための図である。 本発明の第１および第２実施形態による液晶表示装置を用いた電子機器の一例を説明するための図である。 本発明の第１実施形態の第１変形例による画素の断面図である。 本発明の第１実施形態の第２変形例による画素の断面図である。 本発明の第１実施形態の第３変形例による画素の断面図である。

符号の説明

１６ ドレイン電極（第１導電層）
１７ 共通電位配線（第２導電層）
１８ 平坦化膜
１８ａ、１８ｃ コンタクトホール
１９ 画素電極（第１電極）
１９ａ 凹部（凹状の部分）
２０ 層間絶縁膜
２１ 共通電極（第２電極）
２１ａ スリット
２１ｂ 電極部
１１６ ドレイン電極（第２導電層）
１１７ 共通電位配線（第１導電層）
１８１ａ 上端部
１１９ 画素電極（第２電極）
１１９ａ スリット
１２１ 共通電極（第１電極）

Claims (10)

1. 画素電位または共通電位の一方を供給する第１導電層と、
   前記画素電位または共通電位の他方を供給する第２導電層と、
   前記第１導電層および前記第２導電層の表面上に形成され、前記第１導電層に対応する
   領域に形成されるコンタクトホールを有する平坦化膜と、
   前記第１導電層に前記コンタクトホールを介して接続され、前記コンタクトホールの形
   状を反映した凹状の部分を含み、画素電極および共通電極の一方からなる第１電極と、
   前記第１電極に対向するように配置されるとともに、所定の方向に沿って延びるように
   形成される複数の電極部およびスリットを有し、前記画素電極および共通電極の他方から
   なる第２電極と、
   前記第１電極と前記第２電極との間に形成されるとともに、前記第１電極の凹状の部分
   を埋めるように形成される層間絶縁膜とを備え、
   前記層間絶縁膜の前記第１電極の凹状の部分に対応する領域の表面上には、前記第２電
   極の前記電極部が形成されている、液晶表示装置。
2. 前記層間絶縁膜は、有機膜からなる、請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 平面的に見て、前記第２電極の前記スリット端部の少なくとも一部は、前記コンタクト
   ホールの上端部の近傍に配置されている、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
4. 前記コンタクトホールは、平面的に見て、円形形状に形成されており、
   平面的に見て、前記円形形状のコンタクトホールの上端部の少なくとも一部と、前記第
   ２電極の前記スリットの端部とが略一致している、請求項３に記載の液晶表示装置。
5. 平面的に見て、前記所定の方向と交差する方向の前記コンタクトホールの上端部と、前
   記スリットの長辺とが略一致している、請求項３または４に記載の液晶表示装置。
6. 前記所定の方向と交差する方向の前記第１導電層の幅は、前記所定の方向と交差する方
   向の前記コンタクトホールの２つの上端部の間隔より小さく形成されている、請求項３〜
   ５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
7. 前記層間絶縁膜の前記第１電極の凹状の部分に対応する領域の表面上に形成される前記
   第２電極の前記電極部と、前記第１電極との間に発生する電界により、液晶が駆動される
   ように構成されている、請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
8. 前記層間絶縁膜のうちの前記第１電極の凹状の部分に対応する領域の表面上に形成され
   る前記第２電極の前記電極部と前記第１電極との間に発生する電界の強さと、前記層間絶
   縁膜のうちの前記第１電極の凹状の部分以外に対応する領域の表面上に形成される前記第
   ２電極の前記電極部と前記第１電極との間に発生する電界の強さとが略同じになるように
   構成されている、請求項７に記載の液晶表示装置。
9. 画素電極からなる前記第１電極の凹状の部分を埋めるように、前記層間絶縁膜が形成さ
   れるとともに、前記層間絶縁膜の前記画素電極の凹状の部分に対応する領域の表面上に共
   通電極からなる前記第２電極の電極部が形成されている、請求項１〜８のいずれか１項に
   記載の液晶表示装置。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の液晶表示装置を備える、電子機器。

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