CN114545694B - 显示装置 - Google Patents

Abstract

有关一实施方式的显示装置具备：基材；开关元件，被设于所述基材；扫描线，向所述开关元件供给扫描信号；有机绝缘层，覆盖所述开关元件，并且具有接触孔；像素电极，被设于所述有机绝缘层的上方，通过所述接触孔被连接于所述开关元件；以及金属布线，被设于所述有机绝缘层的上方，与所述扫描线平行地延伸。所述扫描线、所述金属布线以及所述接触孔在俯视时重叠。

Description

显示装置

对相关申请的交叉引用

本发明以在2020年11月26日提出申请的第2020-195814号日本专利申请为基础并对其主张优先权，并且该原专利申请的全部内容通过引用被包含于此。

技术领域

本发明的实施方式涉及显示装置。

背景技术

近年来，在液晶显示装置等显示装置中要求进一步的高精细化。为了实现高精细化，需要使连接在显示区域配置的像素电极与开关元件(薄膜晶体管)用的接触孔和各种布线的布局高效化。

发明内容

概括地讲，根据实施方式，显示装置具备：基材；开关元件，被设于所述基材；扫描线，向所述开关元件供给扫描信号；有机绝缘层，覆盖所述开关元件，并且具有接触孔；像素电极，被设于所述有机绝缘层的上方，通过所述接触孔被连接于所述开关元件；以及金属布线，被设于所述有机绝缘层的上方，与所述扫描线平行地延伸。所述扫描线、所述金属布线以及所述接触孔在俯视时重叠。

另外，根据实施方式，显示装置具备：基材；开关元件，被设于所述基材；扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；有机绝缘层，覆盖所述开关元件，并且具有接触孔；像素电极，被设于所述有机绝缘层的上方，通过所述接触孔被连接于所述开关元件；以及遮光层，与所述扫描线及所述接触孔重叠。在所述有机绝缘层与所述遮光层之间设置的层在所述接触孔的内侧凹陷，由此形成有凹部。所述遮光层覆盖在所述凹部的边缘形成的角部。

根据这些构成，能够提供可以实现高精细化的显示装置。

附图说明

图1是概略地表示有关第一实施方式的液晶显示装置的结构例的分解立体图。

图2是有关第一实施方式的显示面板的概略的俯视图。

图3是表示子像素的布局的一个例子的概略的俯视图。

图4是表示构成子像素的要素的一部分的概略的俯视图。

图5是沿着图4中的V-V线的显示面板的概略的剖面图。

图6是第二实施方式中的第一基板的概略的剖面图。

图7是表示第三实施方式中的构成子像素的要素的一部分的概略的俯视图。

图8是沿着图7中的VIII-VIII线的第一基板的概略的剖面图。

图9是第四实施方式中的第一基板的概略的剖面图。

图10是第五实施方式中的第一基板的概略的剖面图。

图11是第六实施方式中的第一基板的概略的剖面图。

图12是表示第七实施方式中的构成子像素的要素的一部分的概略的俯视图。

图13是沿着图12中的XIII-XIII线的第一基板的概略的剖面图。

图14是第八实施方式中的第一基板的概略的剖面图。

图15是第九实施方式中的显示面板的概略的剖面图。

具体实施方式

参照附图对几个实施方式进行说明。

另外，公开毕竟只不过是一个例子，本领域技术人员能够容易想到的保持发明的主旨的适当变更，当然被包含在本发明的范围中。此外，附图是为了使说明更加明确，存在与实际形态相比而示意性地进行表示的情况，但毕竟是一个例子，不能限定本发明的解释。在各附图中，有时对于连续地配置的相同或者相似的要素省略标号。并且，在本说明书和各附图中，对发挥与前面关于已有的附图记述的内容相同或者相似的功能的构成要素赋予相同的参照标号，并省略重复的详细说明。

在各实施方式中，作为一个例子，公开了具有液晶显示元件的液晶显示装置。但是，各实施方式不阻碍在各实施方式中公开的各种技术思想应用于、例如具备有机电致发光显示元件、微型LED或者迷你LED等其他种类的显示元件的显示装置。另外，在各实施方式中公开的技术思想还可以应用于具有静电电容式传感器或光学式传感器等传感器元件的阵列基板或电子设备。

[第一实施方式]

图1是概略地表示有关第一实施方式的液晶显示装置1(以下，称作显示装置1)的结构例的分解立体图。如图示的那样定义X方向、Y方向以及Z方向。这些X、Y、Z方向在本实施方式中是指相互正交的方向，但也可以以垂直以外的角度相交。把与Z方向平行地观察显示装置1和其构成要素称作俯视。另外，把Z方向的箭头所示的方向称作上方，把其相反方向称作下方。

显示装置1具备显示面板2和背光灯3。在图1的例子中，背光灯3是侧缘式，具备与显示面板2对置的导光体LG、和与导光体LG的侧面对置的多个发光元件LS。但是，背光灯3的结构并不限定于图1的例子，只要是供给图像显示所需的光的结构即可。

在图1的例子中，显示面板2以及导光体LG都形成为具有沿着X方向的长边、和沿着Y方向的短边的长方形状。显示面板2以及导光体LG并不限定于长方形状，也可以是其他形状。

显示面板2是透射式的液晶面板，具备第一基板SUB1(阵列基板)、与第一基板SUB1对置的第二基板SUB2(对置基板)、和被封入在这些基板SUB1、SUB2之间的液晶层LC。显示面板2具有例如矩形状的显示区域DA。

而且，显示装置1具备光学片组4、第一偏振板5和第二偏振板6。光学片组4被配置于导光体LG与显示面板2之间。例如，光学片组4包含将从导光体LG出射的光扩散的扩散片DF、和形成有多个棱镜的第一棱镜片PR1以及第二棱镜片PR2。

第一偏振板5被配置于光学片组4与第一基板SUB1之间。第二偏振板6被配置于第二基板SUB2的上方。第一偏振板5的偏振光轴与第二偏振板6的偏振光轴为相互正交的交叉棱镜的关系。

显示装置1例如能够在车载机器、智能手机、平板终端、移动电话终端、个人计算机、电视接收装置、游戏机等各种装置中使用。

图2是显示面板2的概略的俯视图。显示面板2具有显示区域DA和其周围的周边区域SA。在图2的例子中，第一基板SUB1的图中下边比第二基板SUB2向Y方向突出。由此，在第一基板SUB1形成有不与第二基板SUB2重叠的安装区域MA。安装区域MA是周边区域SA的一部分。

在显示区域DA中，多个像素PX被配置为矩阵状。像素PX包含多个子像素。在本实施方式中作为一个例子，像素PX包含红色的子像素SPR、绿色的子像素SPG、蓝色的子像素SPB。但是，像素PX也可以包含白色等其他颜色的子像素。

显示面板2具备多个扫描线G、多个信号线S(视频线)、第一扫描驱动器GD1、第二扫描驱动器GD2和选择器电路ST。多个扫描线G沿X方向延伸，并且沿Y方向排列。多个信号线S沿Y方向延伸，并且沿X方向排列。各扫描线G被连接于第一扫描驱动器GD1或者第二扫描驱动器GD2。各信号线S被连接于选择器电路ST。

在图2的例子中，控制器CT被安装于安装区域MA。另外，在安装区域MA设有端子部T，在该端子部T连接有柔性电路基板F。另外，控制器CT也可以被安装于柔性电路基板F。控制器CT能够由IC、各种电路元件构成。

柔性电路基板F将从安装有显示装置1的电子设备的基板等发送的各种信号输入控制器CT。控制器CT根据所输入的信号，向选择器电路ST供给视频信号，并且控制第一扫描驱动器GD1、第二扫描驱动器GD2以及选择器电路ST。扫描驱动器GD1、GD2向各扫描线G依次供给扫描信号。选择器电路ST将所输入的视频信号依次供给信号线S。

像素PX包含像素电极PE、开关元件SW(薄膜晶体管)、和被供给共用电压的共用电极CE。开关元件SW被连接于像素电极PE、扫描线G以及信号线S，在扫描线G被供给扫描信号时，将信号线S的视频信号供给像素电极PE。共用电极CE形成为跨越多个子像素。在像素电极PE被供给视频信号时，在像素电极PE与共用电极CE之间形成电位差，由此产生的电场作用于液晶层LC。

在本实施方式中，扫描线G、信号线S、第一扫描驱动器GD1、第二扫描驱动器GD2、选择器电路ST、开关元件SW、像素电极PE以及共用电极CE都形成于第一基板SUB1。

图3是表示子像素SPR、SPG、SPB的布局的一个例子的概略的俯视图。在子像素SPR配置有红色的滤色器CFR，在子像素SPG配置有绿色的滤色器CFG，在子像素SPB配置有蓝色的滤色器CFB。在本实施方式中，显示装置1具有滤色器CFR、CFG、CFB都配置于第一基板SUB1的COA(Color Filter on Array，阵列滤色器)方式的构造。

在图3的例子中，子像素SPR、SPG、SPB沿X方向依次排列。另外，子像素SPR、SPB、SPG沿Y方向依次排列。由此，子像素SPR在与X方向以及Y方向交叉的倾斜方向上排列。同样，子像素SPG沿该倾斜方向排列，并且子像素SPB沿该倾斜方向排列。

滤色器CFR、CFG、CFB相对于子像素SPR、SPG、SPB被配置为点状(岛状)。在沿Y方向相邻的滤色器CFR、CFG、CFB之间形成有间隙GP。

另外，子像素SPR、SPG、SPB以及滤色器CFR、CFG、CFB的布局并不限定于这里的示例。例如，也可以是，子像素SPR沿Y方向排列，子像素SPG沿Y方向排列，子像素SPB沿Y方向排列，这些子像素SPR的列、子像素SPG的列、子像素SPB的列沿X方向依次排列。

图4是表示构成子像素的要素的一部分的概略的俯视图。图5是沿着图4中的V-V线的显示面板2的概略的剖面图。在这些图中主要示例了子像素SPR的结构，但子像素SPG、SPB也具有与子像素SPR相同的结构。在图4中，省略了像素电极PE、共用电极CE以及开关元件SW等的图示。

在图4中示出了两条扫描线G、和与这些扫描线G交叉的两条信号线S。在由这些扫描线G以及信号线S包围的区域中形成有子像素SPR的开口AP。

开口AP与滤色器CFR重叠。在与子像素SPR沿X方向相邻的子像素SPB、SPG分别配置有滤色器CFB、CFG。在与子像素SPR沿Y方向相邻的子像素SPG、SPB分别配置有滤色器CFG、CFB。

滤色器CFR、CFG、CFB的X方向上的两端部都与信号线S重叠。在信号线S的上方，相邻的滤色器的端部也可以相接，这些端部还可以重叠。滤色器CFR、CFG、CFB的Y方向上的两端部都与扫描线G重叠。在扫描线G的上方，在相邻的滤色器的端部之间形成有上述的间隙GP。

在扫描线G以及信号线S的上方配置有金属布线ML。金属布线ML具有多个第一线部ML1和多个第二线部ML2。第一线部ML1与扫描线G重叠，并且与扫描线G平行地延伸。第二线部ML2与信号线S重叠，并且与信号线S平行地延伸。第一线部ML1以及第二线部ML2不在各子像素SPR、SPG、SPB的开口AP处溢出。通过这些第一线部ML1以及第二线部ML2，金属布线ML具有整体上为网格状的平面形状。在本实施方式中，金属布线ML具有作为“遮光层”的作用，对子像素的边界和后述的接触孔CH等进行遮光。

子像素SPR在X方向上具有宽度Wx，在Y方向上具有宽度Wy。宽度Wx相当于相邻的信号线S的X方向上的中心间的距离。宽度Wy相当于相邻的扫描线G的Y方向上的中心间的距离。例如，宽度Wx为9μm以下，宽度Wy为12μm以下。优选的是，宽度Wx为6μm以下，宽度Wy为9μm以下。如此宽度Wy、Wx越小，越能够实现高精细的显示装置1。

如图5所示，第一基板SUB1具备上述的扫描线G、开关元件SW、像素电极PE、共用电极CE、金属布线ML和滤色器CFR、CFB。在图5的剖面中未示出，但第一基板SUB1还具备上述的信号线S以及滤色器CFG。

而且，第一基板SUB1具备第一绝缘基材10、第一绝缘层11、第二绝缘层12、第三绝缘层13、第四绝缘层14、有机绝缘层15、第一取向膜16和中继电极17。

第一绝缘基材10例如由玻璃形成，但也可以由聚酰亚胺等树脂材料形成。绝缘层11～14由氮化硅或氧化硅等无机材料形成。有机绝缘层15由丙烯酸树脂等有机材料形成。像素电极PE、共用电极CE以及中继电极17由ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)等透明导电材料形成。扫描线G、信号线S以及金属布线ML由金属材料形成。扫描线G、信号线S以及金属布线ML也可以具有由单一的金属材料形成的单层构造，还可以具有不同种类的金属材料被层叠而成的多层构造。优选的是，金属布线ML由反射率较低的材料形成。作为一个例子，金属布线ML具有MoW(钼钨合金)的单层构造、或钼/铝/钼的层叠构造(MAM)。

第一绝缘层11覆盖第一绝缘基材10的上表面(第二基板SUB2侧的面)。在第一绝缘层11之上配置有开关元件SW所具备的多晶硅等半导体层SC。第二绝缘层12覆盖半导体层SC以及第一绝缘层11。

在第二绝缘层12之上配置有扫描线G。第三绝缘层13覆盖扫描线G以及第二绝缘层12。在第三绝缘层13之上配置有开关元件SW的漏极电极DE。在图5的剖面中未示出，但信号线S也被配置于第三绝缘层13之上。漏极电极DE能够由与信号线S相同的金属材料形成。中继电极17形成于第三绝缘层13之上，与漏极电极DE接触。中继电极17与扫描线G交叉。

漏极电极DE通过贯通第二绝缘层12以及第三绝缘层13的接触孔与半导体层SC接触。信号线S也通过贯通第二绝缘层12以及第三绝缘层13的接触孔与半导体层SC接触。信号线S中的与半导体层SC接触的部分构成开关元件SW的源极电极。半导体层SC与扫描线G交叉。扫描线G中的与半导体层SC对置的部分构成开关元件SW的栅极电极。

在漏极电极DE、中继电极17以及第三绝缘层13之上配置有滤色器CFR、CFG、CFB。有机绝缘层15覆盖开关元件SW以及滤色器CFR、CFG、CFB。滤色器CFR、CFG、CFB以及有机绝缘层15形成为比其他绝缘层11～14厚。有机绝缘层15将由于开关元件SW或滤色器CFR、CFG、CFB产生的凹凸平坦化。

有机绝缘层15具有接触孔CH。接触孔CH位于图4所示的间隙GP中，贯通有机绝缘层15。在有机绝缘层15之上配置有像素电极PE。像素电极PE通过接触孔CH与中继电极17接触。即，像素电极PE通过接触孔CH以及中继电极17被连接于开关元件SW。

第四绝缘层14覆盖像素电极PE以及有机绝缘层15。在第四绝缘层14之上配置有共用电极CE。共用电极CE在开口AP中具有狭缝，与像素电极PE对置。金属布线ML被配置于共用电极CE之上，与共用电极CE接触。即，金属布线ML与共用电极CE相同，被施加共用电压。金属布线ML将由透明导电材料形成的共用电极CE低电阻化。另外，金属布线ML也可以配置于共用电极CE之下。第一取向膜16覆盖共用电极CE以及金属布线ML。

第二基板SUB2具备由与第一绝缘基材10同样的材料形成的第二绝缘基材20、和覆盖第二绝缘基材20的下表面(第一基板SUB1侧的面)的第二取向膜21。第一基板SUB1与第二基板SUB2在周边区域SA中通过环状的密封材料被贴合。液晶层LC被封入在第一基板SUB1与第二基板SUB2之间。

如图4以及图5所示，扫描线G、金属布线ML(第一线部ML1)以及接触孔CH在俯视时重叠。例如，扫描线G、金属布线ML(第一线部ML1)以及接触孔CH的Y方向上的中心相互一致。

扫描线G在Y方向上具有第一线宽WL1。金属布线ML的第一线部ML1在Y方向上具有第二线宽WL2。接触孔CH在开关元件SW侧的下端部O1中具有第一开口宽度WO1，在下端部O1的相反的一侧的上端部O2中具有第二开口宽度WO2。

在图4的例子中，扫描线G的宽度整体上恒定为第一线宽WL1，第一线部ML1的宽度整体上恒定为第二线宽WL2。即，在与接触孔CH重叠的位置，扫描线G的宽度为第一线宽WL1，第一线部ML1的宽度为第二线宽WL2。另外，扫描线G和第一线部ML1的宽度也可以局部地不同。

在本实施方式中，第二线宽WL2小于第一线宽WL1(WL1>WL2)。另外，第二线宽WL2大于第一开口宽度WO1以及第二开口宽度WO2(WL2>WO1、WO2)。第一线部ML1在俯视时与扫描线G完全重叠，不从扫描线G溢出。另外，接触孔CH在俯视时与第一线部ML1完全重叠，不从第一线部ML1溢出。

在第一线部ML1从扫描线G溢出时，开口AP变小。为了抑制此情况，优选的是，第二线宽WL2比第一线宽WL1小1μm以上。作为一个例子，第一线宽WL1为5μm，第二线宽WL2为4μm，第二开口宽度WO2为3μm。

如图5所示，在形成有接触孔CH的位置，在有机绝缘层15与金属布线ML之间设置的层(在本实施方式中为像素电极PE、第四绝缘层14以及共用电极CE)向接触孔CH的内侧凹陷。由此，在这些层形成有与接触孔CH的形状相应的凹部R。通过该凹部R，金属布线ML也在与接触孔重叠的位置向接触孔CH的内侧凹陷。

在与接触孔CH重叠的位置，金属布线ML具有整体覆盖凹部R中的共用电极CE的内表面的第一部分P1、和在凹部R的周围覆盖共用电极CE的表面的第二部分P2。第二部分P2的至少一部分比共用电极CE中的不与接触孔CH重叠的区域的表面(例如开口AP中的共用电极CE的表面)向上方突出。

在图5的例子中，接触孔CH的内侧，更具体而言是凹部R中的第一部分P1的内侧，被填充部件18填满。填充部件18例如由与有机绝缘层15同样的有机材料形成。填充部件18的上表面被第一取向膜16覆盖。

通过设置填充部件18，第一取向膜16在与接触孔CH重叠的位置被平坦化。由此，在接触孔CH的附近，能够抑制液晶层LC所含的液晶分子的取向紊乱。

在以上说明的本实施方式的结构中，接触孔CH被设于与金属布线ML以及扫描线G重叠的位置。在假设接触孔CH位于开口AP的情况下，为了抑制因接触孔CH所引起的显示的紊乱，需要对该区域进行遮光。与此相对，在本实施方式的结构中，接触孔CH通过扫描线G以及金属布线ML被遮光，因此能够将开口AP的大部分用于显示。如此通过使在显示区域DA配置的要素的布局高效化，即使是在高精细的显示装置中，也能够提高显示质量。

在第一基板SUB1具备滤色器CFR、CFG、CFB的COA方式的显示装置1中，与第二基板SUB2具备滤色器的情况相比，接触孔CH深且大。如果在这种COA方式的显示装置1中应用有关本实施方式的金属布线ML、接触孔CH以及扫描线G的布局，则上述的效果更加显著。

在本实施方式中，金属布线ML覆盖通过接触孔CH而产生的凹部R的内表面。在此情况下，能够更适当地对接触孔CH进行遮光。

在高精细的显示装置中，如果在第二基板SUB2配置网格状的遮光层(黑色矩阵)，则在产生第一基板SUB1与第二基板SUB2的对准偏差时，子像素的开口率显著降低。与此相对，如果如本实施方式那样将金属布线ML配置为网格状，则即使不在第二基板SUB2配置遮光层，也能够对子像素的边界进行遮光。当不在第二基板SUB2配置遮光层的情况下，也不会产生因第一基板SUB1与第二基板SUB2的对准偏差所引起的开口率的降低。

这里，如图5所示，在凹部R的边缘，在有机绝缘层15和被设于有机绝缘层15与金属布线ML之间的层(在本实施方式中为像素电极PE、第四绝缘层14以及共用电极CE)形成有角部C。从背光灯3放出并通过了第一偏振板5的光的大部分，被扫描线G遮光，所以未到达角部C。另一方面，如图5所示相对于Z方向大幅倾斜的光L，不被扫描线G遮光而到达角部C。这种光L在角部C中有时偏振光被消除，在产生偏振光消除时，光L的一部分的子像素即使是黑色显示，也能够通过第二偏振板6。这种光泄漏导致显示装置的对比度降低。

与此相对，在本实施方式中，金属布线ML除覆盖凹部R的内侧的第一部分P1之外，还具有覆盖凹部R的周围的第二部分P2。在此情况下，角部C通过金属布线ML被遮光。因而，接触孔CH的周围中的光泄漏被抑制，能够实现高对比度并且高精细的显示装置1。

另外，在本实施方式中，示例了金属布线ML的第二线宽WL2大于接触孔CH的第一开口宽度WO1以及第二开口宽度WO2的情况。然而，第二线宽WL2在能够对角部C进行遮光的情况下，也可以是第一开口宽度WO1以上且第二开口宽度WO2以下，还可以小于第一开口宽度WO1。

以下，对第二至第九实施方式进行说明。在这些实施方式中没有被特别提及的结构以及效果，与第一实施方式相同。

[第二实施方式]

图6是第二实施方式中的第一基板SUB1的概略的剖面图。本实施方式的第一基板SUB1还具备第五绝缘层19，并且像素电极PE包含第一电极E1以及第二电极E2，这一点与第一实施方式不同。

第一电极E1与图5所示的像素电极PE相同，被配置于有机绝缘层15之上，通过接触孔CH与中继电极17接触。第一电极E1被第四绝缘层14覆盖。

第五绝缘层19例如由氮化硅或氧化硅等无机材料形成，覆盖共用电极CE、金属布线ML以及填充部件18。第二电极E2被配置于第五绝缘层19之上，通过在第四绝缘层14以及第五绝缘层19设置的接触孔CH1与第一电极E1接触。第二电极E2例如在开口AP中具有长尺寸的一个或者多个电极部，与共用电极CE对置。第一取向膜16覆盖第二电极E2以及第五绝缘层19。

如本实施方式那样，即使是像素电极PE(第二电极E2)位于比共用电极CE靠上方的位置的情况下，如果对接触孔CH和金属布线ML应用与第一实施方式相同的构造，则也能够获得与第一实施方式相同的效果。

[第三实施方式]

图7是表示第三实施方式中的构成子像素的要素的一部分的概略的俯视图。这里主要示例了子像素SPR的结构，但子像素SPG、SPB也具有与子像素SPR相同的结构。在图7中，省略了像素电极PE、共用电极CE以及开关元件SW等的图示。

本实施方式在金属布线ML的形状上与第一实施方式不同。即，金属布线ML整体上与扫描线G重叠，并且与扫描线G平行地延伸，不具有与图4所示的第二线部ML2相当的部分。另外，金属布线ML的宽度整体上恒定为第二线宽WL2。但是，金属布线ML的宽度也可以局部地不同。在图7的例子中，第二线宽WL2小于接触孔CH的下端部O1的第一开口宽度WO1以及上端部O2的第二开口宽度WO2。

图8是沿着图7中的VIII-VIII线的第一基板SUB1的概略的剖面图。在接触孔CH的内侧，金属布线ML位于凹部R的底部，其上表面整体上被填充部件18覆盖。即，金属布线ML不具有与图5所示的第二部分P2相当的部分。另外，在接触孔CH的与X方向平行的剖面中，金属布线ML整体覆盖凹部R的内表面。

在本实施方式中，也由于接触孔CH、金属布线ML以及扫描线G也重叠，因此能够实现在显示区域DA配置的要素的高效的布局。另外，能够通过金属布线ML对接触孔CH的一部分进行遮光。

[第四实施方式]

图9是第四实施方式中的第一基板SUB1的概略的剖面图。该第一基板SUB1具备与第二实施方式中的图6相同的第五绝缘层19，并且像素电极PE包含第一电极E1以及第二电极E2。而且，金属布线ML具有与第三实施方式中的图5相同的形状。即使是这种结构，也能够获得与第三实施方式相同的效果。

[第五实施方式]

图10是第五实施方式中的第一基板SUB1的概略的剖面图。该第一基板SUB1的金属布线ML位于填充部件18的上方，这一点与第一实施方式不同。具体而言，金属布线ML的Y方向上的中央部与填充部件18的上表面接触，金属布线ML的Y方向上的两端部与共用电极CE接触。例如，金属布线ML具有与图4相同的平面形状。

如果如本实施方式那样将金属布线ML配置在填充部件18的上方，则在接触孔CH的位置，也能够将金属布线ML维持为平坦的形状。因此，能够抑制金属布线ML的断线。

另外，金属布线ML与凹部R的周围的角部C重叠。由此，与第一实施方式相同地，能够抑制因到达角部C的光所引起的光泄漏。

[第六实施方式]

图11是第六实施方式中的第一基板SUB1的概略的剖面图。该第一基板SUB1具备与第二实施方式中的图6相同的第五绝缘层19，并且像素电极PE包含第一电极E1以及第二电极E2。而且，金属布线ML具有与第五实施方式中的图10相同的形状。即使是这种结构，也能够获得与第五实施方式相同的效果。

[第七实施方式]

图12是表示第七实施方式中的构成子像素的要素的一部分的概略的俯视图。这里主要示例了子像素SPR的结构，但子像素SPG、SPB也具有与子像素SPR相同的结构。在图12中，省略了像素电极PE、共用电极CE以及开关元件SW等的图示。

本实施方式在与接触孔CH重叠的位置配置有树脂层7，这一点与第一实施方式不同。另外，在本实施方式中，金属布线ML(第一线部ML1)的第二线宽WL2小于接触孔CH的第一开口宽度WO1。树脂层7例如由遮光性的黑色树脂形成，具有作为对接触孔CH进行遮光的“遮光层”的作用。

树脂层7与接触孔CH整体重叠。即，树脂层7的Y方向上的宽度W7大于第二开口宽度WO2。树脂层7的X方向上的宽度例如与宽度W7相同。

如果树脂层7从扫描线G溢出，则开口AP变小。为了抑制这种情况，优选的是，宽度W7比扫描线G的第一线宽WL1小1μm以上。作为一个例子，第一线宽WL1为5μm，宽度W7为4μm，第二开口宽度WO2为3μm。

图13是沿着图12中的XIII-XIII线的第一基板的概略的剖面图。金属布线ML与第三实施方式的图8相同地位于凹部R的底部。树脂层7填满凹部R，并且在凹部R的周围溢出。

即，树脂层7具有：第一部分71，整体地覆盖金属布线ML的上表面以及凹部R中的共用电极CE的内表面；第二部分72，在凹部R的周围覆盖共用电极CE的表面。第二部分72的至少一部分比共用电极CE中不与接触孔CH重叠的区域的表面(例如开口AP中的共用电极CE的表面)向上方突出。

如果设置如本实施方式那样的遮光性的树脂层7，则上述的角部C被树脂层7遮光。由此，与第一实施方式相同地，能够抑制因到达角部C的光所引起的光泄漏。

另外，在本实施方式中，示例了树脂层7的宽度W7大于接触孔CH的第一开口宽度WO1以及第二开口宽度WO2的情况。然而，宽度W7在能够对角部C进行遮光的情况下，也可以是第一开口宽度WO1以上且第二开口宽度WO2以下，还可以是小于第一开口宽度WO1。

[第八实施方式]

图14是第八实施方式中的第一基板SUB1的概略的剖面图。该第一基板SUB1具备与第二实施方式中的图6相同的第五绝缘层19，并且像素电极PE包含第一电极E1以及第二电极E2。树脂层30通过第五绝缘层19被覆盖。其他结构与第七实施方式相同。即使是本实施方式的结构，也能够获得与第七实施方式相同的效果。

[第九实施方式]

图15是第九实施方式中的显示面板2的概略的剖面图。在该显示面板2中，滤色器CFR、CFB被设于第二基板SUB2而非第一基板SUB1。在图15的剖面中未示出，但滤色器CFG也被设于第二基板SUB2。第一基板SUB1的结构除没有配置滤色器CFR、CFG、CFB以外，与第一实施方式中的图5相同。

滤色器CFR、CFG、CFB位于第二绝缘基材20与第二取向膜21之间。也可以是，在第二绝缘基材20与滤色器CFR、CFG、CFB之间、第二取向膜21与滤色器CFR、CFG、CFB之间配置有绝缘层。滤色器CFR、CFG、CFB中在Y方向上相邻的两个边界，与金属布线ML、扫描线G以及接触孔CH重叠。

在本实施方式中，接触孔CH的内侧和上述的角部C也被金属布线ML遮光。由此，与第一实施方式相同地，能够抑制因到达角部C的光所引起的光泄漏。

另外，在本实施方式中，在有关第一实施方式的显示面板2的结构中，示出了将滤色器CFR、CFG、CFB设于第二基板SUB2的例子，但在有关第二至第八实施方式的显示面板2的结构中，也可以同样将滤色器CFR、CFG、CFB设于第二基板SUB2。

以以上作为本发明的实施方式所说明的显示装置为基础，本领域技术人员适当变更设计并能够实施的所有的显示装置、阵列基板以及电子设备等，只要包含本发明的主旨，则都属于本发明的范围。

在本发明的思想范畴中，本领域技术人员能够想到各种变形例，这些变形例都应理解为属于本发明的范围。例如，针对上述的实施方式，本领域技术人员适当进行构成要素的追加、删除或者设计变更得到的方式、或者进行工序的追加、省略或者条件变更得到的方式，只要具备本发明的主旨，则都被包含在本发明的范围中。

另外，关于根据在上述的实施方式中叙述的方式所带来的其他的作用效果，对于根据本说明书的记载显而易见的作用效果、或者本领域技术人员能够适当想到的作用效果，当然应理解为是由本发明所带来的作用效果。

Claims (18)

1.一种显示装置，其特征在于，具备：

基材；

开关元件，被设于所述基材；

扫描线，向所述开关元件供给扫描信号；

有机绝缘层，覆盖所述开关元件，并且具有接触孔；

像素电极，被设于所述有机绝缘层的上方，通过所述接触孔被连接于所述开关元件；

共用电极，被施加共用电压；以及

金属布线，被设于所述有机绝缘层的上方，与所述扫描线平行地延伸，

所述扫描线、所述金属布线以及所述接触孔在俯视时重叠，

所述金属布线在与所述接触孔重叠的位置，向所述接触孔的内侧凹陷，

所述共用电极具有向所述接触孔的内侧凹陷的凹部，

所述金属布线覆盖在所述凹部的边缘形成的角部。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

所述扫描线在与所述接触孔重叠的位置具有第一线宽，

所述金属布线在与所述接触孔重叠的位置具有小于所述第一线宽的第二线宽。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，

所述接触孔在所述开关元件侧的下端部具有第一开口宽度，

所述第二线宽大于所述第一开口宽度，并且小于所述第一线宽。

4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，

所述接触孔在所述下端部的相反侧的上端部具有第二开口宽度，

所述第二线宽大于所述第二开口宽度。

5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

所述金属布线具有：

第一部分，覆盖所述凹部中的所述共用电极的内表面；以及

第二部分，在所述凹部的周围覆盖所述共用电极的表面。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，

所述显示装置还具备将所述第一部分的内侧填满的填充部件。

7.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

所述显示装置还具备将所述接触孔的内侧填满的填充部件，

所述金属布线位于所述填充部件的上方。

8.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

所述显示装置还具备被所述有机绝缘层覆盖的滤色器。

9.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

所述显示装置还具备针对多个子像素中的各个子像素配置的多个滤色器，

所述接触孔位于在相邻的两个所述滤色器之间形成的间隙中。

10.一种显示装置，其特征在于，具备：

基材；

开关元件，被设于所述基材；

扫描线，向所述开关元件供给扫描信号；

有机绝缘层，覆盖所述开关元件，并且具有接触孔；

像素电极，被设于所述有机绝缘层的上方，通过所述接触孔被连接于所述开关元件；

共用电极，被施加共用电压；以及

遮光层，与所述扫描线及所述接触孔重叠，

在所述有机绝缘层与所述遮光层之间设置有所述共用电极，

所述共用电极向所述接触孔的内侧凹陷，由此形成有凹部，

所述遮光层覆盖在所述凹部的边缘形成的角部。

11.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，

所述遮光层是与所述扫描线平行地延伸并且在俯视时与所述接触孔重叠的金属布线。

12.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，

所述遮光层是填满所述凹部并且在所述凹部的周围溢出的遮光性的树脂。

13.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，

所述扫描线在与所述接触孔重叠的位置具有第一线宽，

所述遮光层在与所述接触孔重叠的位置具有小于所述第一线宽的第二线宽。

14.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于，

所述接触孔在所述开关元件侧的下端部具有第一开口宽度，

所述第二线宽大于所述第一开口宽度，并且小于所述第一线宽。

15.根据权利要求14所述的显示装置，其特征在于，

所述接触孔在所述下端部的相反侧的上端部具有第二开口宽度，

所述第二线宽大于所述第二开口宽度。

16.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，

所述遮光层在与所述接触孔重叠的位置向所述接触孔的内侧凹陷。

17.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，

所述显示装置还具备被所述有机绝缘层覆盖的滤色器。

18.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，

所述显示装置还具备针对多个子像素中的各个子像素配置的多个滤色器，

所述接触孔位于在相邻的两个所述滤色器之间形成的间隙中。