JP2010142972A5 - - Google Patents
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Description
本発明は、インクを吐出するインク吐出口及び前記インク吐出口に連通するインク流路を有する樹脂層と、前記インクを吐出するエネルギーを発生するための吐出エネルギー発生素子と、前記インク流路に連通したインク供給口を有するシリコン基板と、前記シリコン基板で構成され、かつ前記インク供給口の相対する長辺間をつなぐように形成された梁と、を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
(1)少なくとも前記シリコン基板の表面であって前記インク供給口の形成部の上側に、アルカリ溶液にて等方的にエッチングされる犠牲層を形成する工程と、ここで、該犠牲層は、前記梁の伸方向に直交する方向における梁の幅の中央部に相当する位置を除いて、前記梁の形成部の上方の領域まで延在して形成され、
(2)少なくとも前記シリコン基板の裏面であって前記梁の形成部の下側にエッチングマスクを形成する工程と、
(3)前記エッチングマスクをマスクとして前記シリコン基板を前記アルカリ溶液により異方性エッチングし、前記犠牲層を露出させる工程と、
(4)前記犠牲層を前記アルカリ溶液によりエッチングして除去し、前記犠牲層の除去された表面側から前記シリコン基板を異方性エッチングする工程と、
を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法である。
(1)少なくとも前記シリコン基板の表面であって前記インク供給口の形成部の上側に、アルカリ溶液にて等方的にエッチングされる犠牲層を形成する工程と、ここで、該犠牲層は、前記梁の伸方向に直交する方向における梁の幅の中央部に相当する位置を除いて、前記梁の形成部の上方の領域まで延在して形成され、
(2)少なくとも前記シリコン基板の裏面であって前記梁の形成部の下側にエッチングマスクを形成する工程と、
(3)前記エッチングマスクをマスクとして前記シリコン基板を前記アルカリ溶液により異方性エッチングし、前記犠牲層を露出させる工程と、
(4)前記犠牲層を前記アルカリ溶液によりエッチングして除去し、前記犠牲層の除去された表面側から前記シリコン基板を異方性エッチングする工程と、
を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法である。
Claims (5)
- インクを吐出するインク吐出口及び前記インク吐出口に連通するインク流路を有する樹脂層と、前記インクを吐出するエネルギーを発生するための吐出エネルギー発生素子と、前記インク流路に連通したインク供給口を有するシリコン基板と、前記シリコン基板で構成され、かつ前記インク供給口の相対する長辺間をつなぐように形成された梁と、を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
(1)少なくとも前記シリコン基板の表面であって前記インク供給口の形成部の上側に、アルカリ溶液にて等方的にエッチングされる犠牲層を形成する工程と、ここで、該犠牲層は、前記梁の伸方向に直交する方向における梁の幅の中央部に相当する位置を除いて、前記梁の形成部の上方の領域まで延在して形成され、
(2)少なくとも前記シリコン基板の裏面であって前記梁の形成部の下側にエッチングマスクを形成する工程と、
(3)前記エッチングマスクをマスクとして前記シリコン基板を前記アルカリ溶液により異方性エッチングし、前記犠牲層を露出させる工程と、
(4)前記犠牲層を前記アルカリ溶液によりエッチングして除去し、前記犠牲層の除去された表面側から前記シリコン基板を異方性エッチングする工程と、
を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 前記梁は前記インク供給口の開口上面と開口下面との中間に形成され、4つの結晶方位面<111>から構成される請求項1に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記梁の伸方向に直交する面による断面が菱形である請求項1又は2に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記工程(1)で犠牲層を形成した後、該犠牲層を覆うエッチングストップ層を形成する工程を有する請求項1至3のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記シリコン基板のエッチング開始面の結晶方位が(100)であることを特徴とする請求項1至4のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008319720A JP5335396B2 (ja) | 2008-12-16 | 2008-12-16 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
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