JP2008094018A5 - - Google Patents
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Claims (3)
- Ｓｉ層から成る活性層とＳｉ層から成る支持体との間に、ＳｉＯ2層から成る誘電体層が接合された構成のＳＯＩ基板の前記活性層側の表面にエッチングマスクを形成する工程と、
前記活性層に、同一方向からドライエッチングを複数回繰り返すことにより、径が異なる複数の孔を同一軸上に有する構成のノズル孔を、吐出方向の先端が前記誘電体層側となるように形成する工程と、
前記ＳＯＩ基板の前記支持体を研削及びエッチングにより除去する工程と、
前記ＳＯＩ基板の前記誘電体層を除去する工程と
を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 前記ドライエッチングは、ＩＣＰ放電によるドライエッチングであることを特徴とする請求項１記載のノズルプレートの製造方法。
- 請求項１又は請求項２に記載のノズルプレートの製造方法を用いて液滴吐出ヘッドを製造することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
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| JP2006279701A JP2008094018A (ja) | 2006-10-13 | 2006-10-13 | ノズルプレートの製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2006279701A JP2008094018A (ja) | 2006-10-13 | 2006-10-13 | ノズルプレートの製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法 |
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| JP2008094018A JP2008094018A (ja) | 2008-04-24 |
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Family Applications (1)
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| JP2006279701A Withdrawn JP2008094018A (ja) | 2006-10-13 | 2006-10-13 | ノズルプレートの製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法 |
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