JP2010106319A - 耐食性部材 - Google Patents
耐食性部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010106319A JP2010106319A JP2008279492A JP2008279492A JP2010106319A JP 2010106319 A JP2010106319 A JP 2010106319A JP 2008279492 A JP2008279492 A JP 2008279492A JP 2008279492 A JP2008279492 A JP 2008279492A JP 2010106319 A JP2010106319 A JP 2010106319A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- corrosion
- resistant member
- oxide film
- gadolinium oxide
- member according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】耐食性部材は、基材と、基材上に形成された純度99.9%以上の酸化ガドリニウム皮膜と、を備える。酸化イットリウム(Y2O3)より高耐プラズマ材料の酸化ガドリニウム(Gd2O3)で形成された皮膜を備えていることで、プラズマ環境で使用されても、パーティクルの発生を抑制することができ、長期間の使用が可能となる。また、純度99.9%以上の酸化ガドリニウム皮膜により基材が被覆されているため、プラズマ環境で使用されたときに発生するパーティクルがさらに低減される。
【選択図】図1
Description
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。本発明の耐食性部材は、半導体製造装置内やフラットパネルディスプレイ装置内で使用するのに適しており、基材と基材上に形成された酸化ガドリニウム皮膜を有している。
本発明の耐食性部材の製造方法を説明する。まず、基材を準備する。必要に応じて表面にブラスト処理を施す。基材の表面を粗くしてからその上に酸化ガドリニウム皮膜を形成する。基材と溶射皮膜との密着強度を高めることにより、耐食性部材の使用中や洗浄中に発生しがちな皮膜の剥離や剥離による基材の露出を防止することができる。その結果、基材からのパーティクルの発生を低減することができる。酸化ガドリニウム皮膜の原料となるガドリニウムを酸化させて粉末化するとともに、鉄族金属化合物を酸化させて粉末化し、これらを混合させた後に基材表面に溶射し、酸化ガドリニウム皮膜を形成する。
酸化ガドリニウム皮膜が含むFe2O3量を変えて、耐食性部材の実施例および比較例を作製し、エッチング試験および気孔率の測定を行った。
Fe2O3をそれぞれ1ppm、3ppm、4ppm、8ppm、10ppm、20ppm、30ppm、40ppm、70ppm、80ppm含むGd2O3の純度99.9%以上の溶射粉末を用意した。Fe2O3の含有量は、ICP発光分析装置を用い測定した。溶射粉末の平均粒径は、30μm〜40μmであった。溶射粉末の平均粒径は、レーザー回折・散乱式の粒度測定機を用い測定した。一方、100×100×5t(mm)のアルミニウム基材を用意し、表面にブラスト処理を施した。そして、エアロプラズマ社製ASP7100プラズマ溶射機を使用し、電圧275V、電流110A、アルゴンガス流量25L/min、酸素ガス40L/minの溶射条件にて、アルミニウム基材上に200μm〜300μmの酸化ガドリニウム皮膜を形成した。
上記の実施例の作製手順と同様に、Fe2O3を10ppm含むY2O3の純度99.9%以上の溶射粉末を用意した。溶射粉末の平均粒径は、30μm〜40μmであった。実施例と同様の条件で、アルミニウム基材上に200μm〜300μmの酸化物皮膜を形成した。
次に、同等の条件で試料を作成し、酸化ガドリニウム皮膜と基板との密着強度の試験を行った。上記のエッチング試験と同様の試料作製手順に従って、棒状のアルミニウム基材の先端面(表面粗さ5.11μm)上に厚さ200μm〜300μmで純度99.9%以上のGd2O3皮膜を形成し、実施例B1の試料を作製した。また、表面粗さ5.02μmの棒状のアルミニウム基材の先端面上に、厚さ200μm〜300μmで純度99.9%以上のY2O3皮膜を形成し、比較例B1の試料を作製した。そして、実施例B1および比較例B2をそれぞれ別の棒状部材の先端面に接着剤で接合し、引っ張りにより剥離する強度、すなわち密着強度を測定した(JISH8666に準じた試験方法)。
Claims (7)
- 基材と、
前記基材上に形成された純度99.9%以上の酸化ガドリニウム皮膜と、を備えることを特徴とする耐食性部材。 - 前記酸化ガドリニウム皮膜は、鉄族金属化合物を含むことを特徴とする請求項1記載の耐食性部材。
- 前記酸化ガドリニウム皮膜は、50μm以上1000μm以下の厚さを有することを特徴とする請求項1または請求項2記載の耐食性部材。
- 前記酸化ガドリニウム皮膜は、溶射法により形成されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の耐食性部材。
- 前記酸化ガドリニウム皮膜は、20MPa以上の強度で前記基材に密着して形成されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の耐食性部材。
- 半導体製造装置内、フラットパネルディスプレイ製造装置内または太陽電池製造装置内で使用されることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の耐食性部材。
- 静電チャック、ヒーター、ガス分散プレート、バッフルプレート、バッフルリング、シャワーリング、高周波透過窓、赤外線透過窓、監視窓、サセプター、クランプリング、フォーカスリング、シャドーリング、絶縁リング、ダミーウエハ、半導体ウエハを支持するためのリフトピン、ベローズカバー、クーリングプレート、上部電極、下部電極、ならびに、チャンバー、ベルジャー、ドームおよびそれらの内壁材のいずれかであることを特徴とする請求項6記載の耐食性部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008279492A JP5390167B2 (ja) | 2008-10-30 | 2008-10-30 | 耐食性部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008279492A JP5390167B2 (ja) | 2008-10-30 | 2008-10-30 | 耐食性部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010106319A true JP2010106319A (ja) | 2010-05-13 |
JP5390167B2 JP5390167B2 (ja) | 2014-01-15 |
Family
ID=42296057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008279492A Active JP5390167B2 (ja) | 2008-10-30 | 2008-10-30 | 耐食性部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5390167B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010106328A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Nihon Ceratec Co Ltd | 耐食性部材 |
JP2010106327A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Nihon Ceratec Co Ltd | 耐食性部材 |
JP2019148010A (ja) * | 2019-04-05 | 2019-09-05 | 日本イットリウム株式会社 | 溶射膜 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001164354A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-19 | Tocalo Co Ltd | プラズマ処理容器内部材およびその製造方法 |
JP2001179080A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-03 | Nihon Ceratec Co Ltd | 低金属汚染の基板処理用部材 |
JP2002080954A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-03-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 溶射粉及び溶射被膜 |
JP2002249864A (ja) * | 2000-04-18 | 2002-09-06 | Ngk Insulators Ltd | 耐ハロゲンガスプラズマ用部材およびその製造方法 |
JP2004332081A (ja) * | 2003-05-12 | 2004-11-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 耐プラズマ部材及びその製造方法 |
JP2005531157A (ja) * | 2002-06-27 | 2005-10-13 | ラム リサーチ コーポレーション | 生産性を向上するプラズマ反応器用溶射イットリア含有被膜 |
JP2007227443A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマエッチング装置及びプラズマ処理室内壁の形成方法 |
JP2008133528A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-06-12 | Fujimi Inc | 溶射用粉末、溶射皮膜の形成方法、及び耐プラズマ性部材 |
WO2009069650A1 (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-04 | Nihon Ceratec Co., Ltd. | 耐食性部材 |
-
2008
- 2008-10-30 JP JP2008279492A patent/JP5390167B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001164354A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-19 | Tocalo Co Ltd | プラズマ処理容器内部材およびその製造方法 |
JP2001179080A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-03 | Nihon Ceratec Co Ltd | 低金属汚染の基板処理用部材 |
JP2002249864A (ja) * | 2000-04-18 | 2002-09-06 | Ngk Insulators Ltd | 耐ハロゲンガスプラズマ用部材およびその製造方法 |
JP2002080954A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-03-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 溶射粉及び溶射被膜 |
JP2005531157A (ja) * | 2002-06-27 | 2005-10-13 | ラム リサーチ コーポレーション | 生産性を向上するプラズマ反応器用溶射イットリア含有被膜 |
JP2004332081A (ja) * | 2003-05-12 | 2004-11-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 耐プラズマ部材及びその製造方法 |
JP2007227443A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマエッチング装置及びプラズマ処理室内壁の形成方法 |
JP2008133528A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-06-12 | Fujimi Inc | 溶射用粉末、溶射皮膜の形成方法、及び耐プラズマ性部材 |
WO2009069650A1 (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-04 | Nihon Ceratec Co., Ltd. | 耐食性部材 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010106328A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Nihon Ceratec Co Ltd | 耐食性部材 |
JP2010106327A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Nihon Ceratec Co Ltd | 耐食性部材 |
JP2019148010A (ja) * | 2019-04-05 | 2019-09-05 | 日本イットリウム株式会社 | 溶射膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5390167B2 (ja) | 2014-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5390166B2 (ja) | 耐食性部材 | |
TWI795981B (zh) | 稀土氧化物系抗電漿腐蝕薄膜塗層 | |
JP4643478B2 (ja) | 半導体加工装置用セラミック被覆部材の製造方法 | |
US8053058B2 (en) | Spray-coated member having an excellent resistance to plasma erosion and method of producing the same | |
JP5324029B2 (ja) | 半導体加工装置用セラミック被覆部材 | |
JP5545792B2 (ja) | 耐食性部材 | |
TW200412827A (en) | Productivity enhancing thermal sprayed yttria-containing coating for plasma reactor | |
TW201033407A (en) | Thermal spray coatings for semiconductor applications | |
TW201940455A (zh) | 耐電漿陶瓷塗層的漿料電漿噴塗 | |
JP2004010981A (ja) | 耐食性部材およびその製造方法 | |
JP2016089241A (ja) | 皮膜付き基材、その製造方法、その皮膜付き基材を含む半導体製造装置部材 | |
JP5551353B2 (ja) | 耐食性部材 | |
JP6005314B1 (ja) | 皮膜付き基材、プラズマエッチング装置用部品およびそれらの製造方法 | |
JP2007258634A (ja) | プラズマ処理装置用部材およびその製造方法 | |
JP5390167B2 (ja) | 耐食性部材 | |
JP5412290B2 (ja) | 耐食性部材 | |
JP2004003022A (ja) | プラズマ処理容器内部材 | |
TW200416294A (en) | Corrosion-resistant member and method for producing same | |
JP2006082474A (ja) | 樹脂部材 | |
JP2007081218A (ja) | 真空装置用部材 | |
JP2004002101A (ja) | 耐プラズマ性部材及びその製造方法 | |
JP5527821B2 (ja) | 耐蝕性部材 | |
JP5452905B2 (ja) | 耐食性部材 | |
WO2006043429A1 (ja) | 耐食性部材およびその製造方法 | |
JP2003335589A (ja) | 耐食性複合部材およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110928 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130718 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130723 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130826 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131008 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131010 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5390167 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |