JP2010106288A - 処理液槽 - Google Patents

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Abstract

【課題】ワーク通過口を有する処理液槽において、ワーク通過口の開口面積を必要最小限に止めると共に、短時間で、かつ、確実にワーク通過口の全体を開閉する装置を提供する。
【解決手段】給液機構及び排液機構を備えると共に、ワーク通過口88を有するゲート装置85を備えている処理液槽である。ワーク通過口88は、垂直姿勢の板状ワークが通過可能で上下方向に細長いスリット状開口部88bと、該スリット状開口部88bの上端に形成された拡張開口部88aとを有し、前記ゲート装置85は、スリット状開口部88bを開閉するゲート部材と、該ゲート部材とは別に、前記拡張開口部88aを開閉するシャッター板150と、を備えている。前記シャッター板150には、処理液槽15内に配置された浮子151を連動連結し、処理液槽15内の処理液の増減に伴う浮子の昇降により、シャッター板150を開位置と閉位置との間で位置変更する。
【選択図】図7

Description

本発明は、めっき液等の各種処理液を給排可能な処理液槽に関し、特に、短時間に処理液の給排を行い、かつ、垂直状態の板状ワークを昇降させることなく通過させることができるワーク通過口を有するゲート装置を備えた処理液槽に関する。
めっき処理装置等の処理液槽において、ワーク通過口を有するゲート装置を備えている場合、該ゲート装置は、ワークが通過しないときにはワーク通過口を閉じ、処理液槽内への処理液の充填を可能とし、ワークが通過する時にはワーク通過口を開くようになっている。上記ゲート装置の構造は、たとえば、板状のゲート部材を水平方向にスライド自在に備えたり、一対の板状ゲート部材を観音開き形式に垂直軸回り回動自在に備えたりしており、モータ及び減速ギヤ機構を有する機械的な駆動機構により、ゲート部材を開閉駆動するようになっている(特許文献1)。
また、別の開閉方式のゲート装置として、板状のゲート部材を上下方向スライド自在に備えると共に、前記ゲート部材に浮子(フロート)を取り付け、処理液槽内の処理液の増加により、浮子と共にゲート部材を上昇させ、ワーク通過口を閉じるように構成されたものもある(特許文献2)。
上記各ゲート装置は、いずれも、矩形状の幅広いワーク通過口を有し、そのワーク通過口全体を、駆動機構により、一つあるいは一対のゲート部材を駆動して、開閉する構造であるので、ワーク通過口を開閉するのに時間がかかり、多数のワークを連続的に処理する場合に、短時間で処理液の給排を行うことができず、作業能率が良くなかった。
上記のようなワーク通過口及びゲート装置を有する処理液槽に対し、ワーク通過口の形状を、ワーク及びワークを保持する部材が通過可能な略最小限の面積を有する形状とした処理液槽が、特許文献3に記載されている。
特許文献3の処理液槽は、図22のように、めっき液槽14とボックス槽15との間の槽壁82や、ボックス槽15と空ステージ16との間の槽壁83に、ワーク通過口88が形成されている。各ワーク通過口88は、垂直姿勢のワークが最小限通過しる狭い幅のスリット状開口部88bと、ワーク上端部を支持する保持部材が通過しうる拡張開口部88aとから構成されている。スリット状開口部88bを開閉するために、袋状弾性部材製のゲート部材を伸縮自在に備えており(図示せず)、これにより、処理液の給排時間を短くすると共に、ゲート装置閉時のシール機能を向上させている。なお、上記拡張開口部88aを形成する理由は、ワークの上端がめっき液面(LI)から50mm程度沈むように、ワークを浸漬させることにより、ワークの上端部への電流集中を防ぎ、電流集中によるめっき膜厚の不均一化を防ぐためである。
特開2004−99957号公報 特開昭55−141558号公報 特開2007−113066号公報
しかし、図22(特許文献3)のように、ワーク通過口88を、スリット状開口部88bと拡張開口部88aとから構成していても、スリット状開口部88bを開閉するゲート部材のみを備えている場合には、拡張開口部88aが常時開いていることになり、処理液槽内に所望量の処理液を収納しようとしても、拡張開口部88aから処理液が漏出し、所定量の処理液を長く保持することが困難であった。
たとえば、ボックス槽15と空ステージ16との間の槽壁83に形成された開口88の拡張開口部88aが常時開いていると、ボックス槽15が満杯時(実線で示す液面L1)に、ボックス槽15から拡張開口部88aを介してめっき液が空ステージ16に漏出し、空ステージ16の底面にめっき液が勢いよく衝突して、泡が発生する。また、ボックス槽15の排液時(二点鎖線で示す液面L2)には、めっき液槽14から槽壁82の拡張開口部88aを介してめっき液がボックス槽15に漏出し、ボックス槽15の排液面(L2)にめっき液が勢いよく衝突して、泡が発生する。このように、泡が発生すると、泡が各槽15,16から溢れ出し、装置の周囲を汚染する。また、ワークに泡が付着するため、ワークが次工程に搬送されると、次工程の装置を泡で汚染する。これに対し、ワークや装置を洗浄するための工程及び機構が必要となる。
本発明の目的は、ワーク通過口として、スリット状開口部と拡張開口部を有することにより、ワーク通過口の開口面積を必要最小限に止めると共に、上記形状のワーク通過口を有する処理液槽であっても、短時間で、かつ、確実にワーク通過口の全体を開閉でき、かつ、ワーク通過口におけるシール性を維持できる処理液槽を提供することである。
前記課題を解決するため、本発明は、給液機構及び排液機構を備えると共に、ワーク通過口を有するゲート装置が槽壁に設けられている処理液槽において、前記ワーク通過口は、垂直姿勢の板状ワークが通過可能で上下方向に細長いスリット状開口部と、該スリット状開口部の上端に前記スリット状開口部より幅広く形成された拡張開口部とを有し、前記ゲート装置は、駆動機構により略水平方向に移動又は変形して前記スリット状開口部を開閉するゲート部材と、該ゲート部材とは別に、前記拡張開口部を開閉するシャッター板と、を備え、前記シャッター板は、処理液槽内に配置された浮子を備え、処理液槽内の処理液の増減に伴う浮子の昇降により、前記シャッター板が開位置と閉位置との間で位置変更されるようになっている。
(1)上記構成によると、ワーク通過口の開口面積を、ワーク及びワーク保持部材が通過可能な略最小の面積に制限することができるので、ワーク通過口からの処理液の漏出を抑制できる。
(2)スリット状開口部を、水平方向にスライドあるいは変形自在なゲート部材により開閉し、拡張開口部を、水平な回動軸回りに回動自在なシャッターにより開閉するようにしているので、短時間でワーク通過口全体を開閉でき、連続的なワーク処理作業の能率を向上させることができる。すなわち、各開口部の形状に応じてそれぞれスライドあるいは変形式のゲート部材と回動式のシャッター板とを備えているので、ワーク通過口全体としての開閉時間を、大きく短縮することができる。
(3)処理液槽内に配置した浮子を利用してシャッター板を作動させるようにしているので、シャッター板開閉用に、モータ等の特別の駆動機構を備える必要がなく、ゲート装置を簡素化することができる。
本発明は、上記構成において、前記拡張開口部をV字形に形成することができる。
上記構成によると、スリット状開口部及びその上方に連続する拡張開口部の形成作業が容易である。
本発明は、上記構成において、前記浮子は、シャッター板の回動軸に固着され、シャッター板と一体的に回動可能とすることができる。
上記構成によると、浮子をシャッター板と一体的にコンパクトに配置することができる。
本発明は、上記構成において、回動式の浮子の代わりに、索状部材を介してシャター板に浮子を連結し、前記策状部材を、シャッター板から下方に延びると共にターンシーブを介して上方に折り返し、折り返し上端部に前記浮子を連結する構造とすることができる。
上記構成によると、処理液槽内の所望の位置に、浮子を配置することができる。すなわち、浮子のレイアウトの自由度が増加する。
[第1の実施の形態]
(めっき装置全体の概略)
図1〜図10は、本発明にかかる処理液槽及びを備えた電気めっき装置を示している。図1は電気めっき装置全体の平面図であり、概ね長円形状に構成されためっき処理ライン上には、処理ラインの長手方向の一端部(図1の右端部)のロード部10から、矢印F方向(時計回り方向)に、前処理工程の前処理槽(シャワー槽)11、空ステージ12、ボックス槽13、電気めっき工程のめっき槽14、後処理工程のボックス槽15、空ステージ16、第1の後処理槽(シャワー槽)17、長手方向の他端部の第2の後処理槽(回収槽)18、アンロード部19、剥離工程(ハンガー戻し工程)の空ステージ20、ボックス槽21、剥離槽22、ボックス槽23、空ステージ24及び剥離後処理槽(シャワー室)25を順次備えている。浸漬処理槽であるめっき槽14及び剥離槽22のワーク搬送方向の前後には、それぞれボックス槽13、15、21、23が隣接しており、ボックス槽13、21の出口は、めっき槽14及び剥離槽22の入口を兼ねており、ボックス槽15、23の入口はめっき槽14及び剥離槽22の出口を兼ねている。
前記めっき処理ラインの内周側に長円形状にガイドレール27が敷設され、該ガイドレール27には、多数の搬送ハンガー28がレール長方向移動可能に支持されている。
ガイドレール27の内周側には、搬送ハンガー28を水平方向に移動させるために、複数の独立した搬送装置31、32、…、40が配置されている。該搬送装置31、32、…、40のうち、各ボックス槽13、15、21、23に対応する位置には、リニアアクチュエータ型往復動式の取込搬送装置31、32、33、34がそれぞれ配設されている。前処理工程の前処理槽11及び空ステージ12に対応する位置と、めっき槽14に対応する位置と、後処理工程の空ステージ16及び第1の後処理槽17に対応する位置と、剥離工程の空ステージ20に対応する位置と、剥離槽22に対応する位置と、空ステージ24及び剥離後処理槽25に対応する位置には、それぞれチェーンコンベア型の連続搬送装置35、36、37、38、39、40が配設されている。また、後処理工程の第1の後処理槽17から第2の後処理槽18を経てアンロード部19に至る間と、剥離後処理槽25からロード部10を経て前処理槽11に至る間には、図示しないが搬送ハンガーを押し動かすプッシャー装置が配置されている。図1において、二重線の矢印で示す各区間A1〜A6は、チェーンコンベア型の連続搬送装置35、36、37、38、39、40による搬送区間を示し、破線の矢印で示す各区間B1〜Bはリニアアクチュエータ型の取込搬送装置31、32、33、34による搬送区間を示し、実線で示す区間C1、C2、C3、C4は、プッシャー装置による搬送区間を示している。
図2は、図1のめっき槽14、後処理工程のボックス槽15、空ステージ16及び第1の後処理槽17の縦断面拡大略図であり、これらめっき槽14、ボックス槽15、空ステージ及び第1の後処理槽17は、一定高さの架台42上に載置されており、架台42内には予備槽43が配置されている。ボックス槽15の上方には図示しない架台を介して所定容積のカラム槽(給液機構)47が配設されている。
ボックス槽15の底壁には、開閉可能な排出口栓(排液機構)46が設けられており、該排出口栓46には、該排出口栓46を開閉駆動するための操作部46aが設けられている。予備槽43とカラム槽47との間には配管48が配設され、該配管48には、予備槽43からカラム槽47へめっき液(処理液)を導入するためのポンプ49及びフィルター50が設けられている。カラム槽47の底部には、ボックス槽15に上方から処理液を供給可能な排出口栓51が開閉可能に設けられている。
予備槽43とめっき槽14の間には2つの配管55、56が並設されており、いずれの配管55、56にも予備槽43からめっき槽14へめっき液を供給するためのポンプ57、59及びフィルター58、60が設けられている。一方の配管55はボックス槽15のゲートが開閉した際に、めっき槽14の液面を所定高さに維持するためのものであり、他方の配管56はめっき液循環用である。また、空ステージ16の底部には予備槽43へめっき液を排出するための排出管44が設けられ、さらにめっき槽14には、オーバーフローするめっき液を予備槽43に排出するためのオーバーフロー管61も設けられている。
(搬送ハンガー)
図3は搬送ハンガー28の図2のIII-III断面拡大図であり、搬送ハンガー28は、前記ガイドレール27にガイドレール長さ方向移動自在に支持された移動基台63と、該移動基台63からガイドレール27と略直角方向に水平に延びるアーム部64と、該アーム部64の先端部から下方に延びるワーク吊持部65から構成されており、ワーク吊持部65の下端部には、吊持ピン66及びクランプ67が設けられている。前記吊持ピン66にワーク(たとえば回路用基板)Wの上端部の係合孔を係合し、クランプ67により脱落不能に保持するようになっている。吊持されたワークWは、吊持部65及び図示しないが適宜の電導機構を介してガイドレール27に電気的に接続されており、ガイドレール27から電気が供給されるようになっている。移動基台63の上面には、アーム部64と反対方向に水平に延びる支軸70が固着され、該支軸70には、スプロケット71がワンウエイクラッチ72を介して一方向へのみ回転するように支持されている。具体的には、図2において、前記スプロケット71は、矢印R方向には回転するが、反矢印R方向には回転しないように構成されている。
(搬送装置)
図2において、チェーンコンベア型の連続搬送装置36、37は、駆動スプロケット73と、従動スプロケット74と、両スプロケット73、74間に巻き掛けられた搬送チェーン75(図3)とから構成されており、搬送チェーン75の上側走行部分に、前記搬送ハンガー28のスプロケット71が係合するようになっている。搬送ハンガー28は、前述のように、ワンウエイクラッチ72(図3)を備えていることにより、搬送チェーン75に係合した状態で、図2の矢印F方向へ搬送チェーン75の上側部分と共に移動するようになっている。
図2において、リニアアクチュエータ型の取込搬送装置32は、ガイドレール27と並行に配置されたガイド部76に、スライダー77が、ガイドレール27と平行に移動可能に支持されており、該スライダー77は、図示しないがガイド部76に備えられたねじ送り機構及びサーボモータ等により、ガイド部76を往復移動するようになっている。
図4は図2のIV-IV断面拡大図であり、前記スライダー77には、搬送ハンガー28側へ略水平に延びる支軸78が固着されており、該支軸78には下方に延びる取込爪79が支軸78回り回動可能に支持されている。前記取込爪79は、図示しないストッパーにより、図2に示す状態に、反矢印S方向側から係止されており、搬送ハンガー28の支軸70に反矢印F方向側から係合し、スライダー77の矢印F方向への移動により、取込爪79を介して搬送ハンガー28を矢印F方向に移動するようになっている。なお、スライダー77が搬送ハンガー28に対して反矢印F方向側に移動する時には、取込爪79は、矢印S方向に回動して搬送ハンガー28の支軸78を乗り越えるようになっている。
(めっき槽及びその前後のボックス槽13,15等の構造)
図5は、メッキ槽14とその前後のボックス槽13,15及び空ステージ12、16の縦断面略図、図6は、後処理工程のボックス槽15の拡大平面図、図7は、図6のVII-VII断面拡大図、図8は図7の平面図、図9は、開状態のゲート装置を示す作用説明図、図10は、閉状態のゲート装置を示す作用説明図である。なお、説明の都合上、ワーク搬送方向Fと直交する水平方向であって、図7のように搬送方向F側から見た方向を「左右方向」として、以下説明する。
図6において、後処理工程のボックス槽15には、矢印F方向と直交する方向に所定間隔を置いて、左右一対のボックス部15aが配置され、左右のボックス部15a間を、ワークWが通過するようになっている。ボックス部15aを備えることで、ボックス槽15へ供給される液量が少なくなり、ゲート装置84を開閉した際のめっき液の変動を少なくできると共に、ボックス槽15へ供給されためっき液の排出時間を短縮することができる。
めっき槽14と後処理用のボックス槽15との間の縦壁82には、スライド式のゲート部材93のみを有するゲート装置84が設けられ、ボックス槽115と空ステージ16との間の縦壁83には、本発明に従って、スライド式のゲート部材93と浮子式シャッター板150とを有するゲート装置85が設けられている。また、図5のめっき槽14の搬送上流側に配置されている前処理用のボックス槽13とめっき槽14との間並びにボックス槽13と空ステージ12との間にも、後処理用と同様なゲート装置84,85がそれぞれ設けられている。
(ゲート装置85)
後処理用のボックス槽15とめっき槽14との間のゲート装置85の構造を説明する。図7において、縦壁83の左右幅の中央部には、U字状のゲート装置取付用凹部89が形成されており、該凹部89に、ゴムチューブ製パッキン90を介して、ゲート装置85が装着されている。該ゲート装置85は、左右幅の中央部にワーク通過口88を有している。該ワーク通過口88は、上下方向に延びるスリット状開口部88bと、該スリット状開口部88bの上端に形成されて上向きに広がるV字状の拡張開口部88aとから構成されている。スリット状開口部88bの左右幅は、板状ワークWの厚みよりも大きく、V字状開口部88aは、搬送ハンガー28の吊持部65及びクランプ67が通過しうる大きさとなっている。ゲート部材92,93の材料としては、たとえば耐蝕性及び耐久性の大きい樹脂等を選ぶことが好ましい。
上記V字状の拡張開口部88aを形成している理由は、従来技術の欄で既に説明しているが、ワークWの上端がめっき液面等から50mm程度沈むように、ワークWを浸漬させることにより、ワークWの上端部への電流集中を防ぎ、電流集中によるめっき膜厚の不均一化を防ぐためである。このため、ワークWの上端部を把持するクランプ67の下端部分もめっき液に浸けた状態で搬送する必要があり、クランプ67通過用に上記拡張開口部88aを形成しているのである。
ゲート装置85は、縦長U字状のゲート装置本体91と、該U字状ゲート装置本体91の左側柱部91aに固定されたストッパー部材92と、スリット状開口部88bを開閉するためにゲート装置本体91の右側柱部91bに左右方向移動自在に支持された前記可動ゲート部材93と、該可動ゲート部材93を移動するための第1及び第2のチューブ部材101,102を有する駆動機構94と、拡張開口部88aを開閉するために水平な回動軸152回りに回動自在に備えられた前記浮子式シャッター板150と、該浮子式シャッター150を作動させるために浮子151と、を備えている。
図8において、ストッパー部材92の先端部には、上下方向の略全長に亘ってパッキン108が取り付けられている。ゲート装置本体91の右側柱部91bには、ワーク搬送方向F側の面に、前記可動ゲート部材93をスライド自在にガイドするガイドプレート110が固定され、ガイドプレート110のワーク搬送方向F側と反対側の面には、前記第1及び第2のチューブ部材101,102を収納するためのL字形のガイドケース111が配置されている。
前記ガイドプレート110と、ガイドケースと111と、右側柱部91bの左面で囲まれたチューブ収納室内には、水平断面矩形状のスライド部93aが、左右方向移動自在に収納されており、該スライド部材93aの左側の空間部に前記第1のチューブ部材101が収納され、右側の空間部に前記第2のチューブ部材102が収納されている。両チューブ部材101,102は弾性を有するゴム製チューブであり、内部に空気を圧入することにより膨張し、内部の空気を抜くことにより、収縮するようになっている。
前記スライド部93aは、チューブ収納室から左方に突出する前記可動ゲート部材93に一体成形されており、これにより、可動ゲート93とスライド部93aとが一体に左右方向に移動できるようになっている。
図7において、両チューブ部材101,102の下端部は常時密封状態に閉塞されており、両チューブ部材101,102の上端部は、金属製又は樹脂製の継手管121、122にそれぞれ接続されている。両継手管121,122は、エア管を介してエア切り換えバルブ130に接続しており、該エア切り換えバルブ130には、コンプレッサ等の圧縮エア供給源132が接続されると共にエア排出部133が設けられている。このエア切り換えバルブ131は、第1のチューブ部材101に圧縮エアを供給して第1のチューブ部材101を膨張させると同時に第2のチューブ部材102内のエアを排出して第2のチューブ部材102を収縮させる状態と、第2のチューブ部材102に圧縮エアを供給して第2のチューブ部材102を膨張させると同時に第1のチューブ部材101内のエアを排出して第1のチューブ部材101を収縮させる状態と、に切り換え自在となっている。
第1のチューブ部材101にエアを圧入して膨張させ、第2のチューブ部材102からエアを排出して収縮させることにより、スライド部93a及び可動ゲート部材93を一体に開方向(右方向)に移動させ、ワーク通過口88を開くことができる。一方、第2のチューブ部材102にエアを圧入して膨張させ、第1のチューブ部材101からエアを排出して収縮させることにより、スライド部93a及び可動ゲート部材93を一体的に閉方向(左方向)に移動させ、ワーク通過口88を閉じることができる。この閉状態では、可動ゲート部材93の端縁は、ストッパー部材92のパッキン108に圧接している。
(浮子式シャッター板150の詳細構造)
図8において、ゲート装置本体91の左側柱部91aに、ワーク搬送方向Fに延びる回動軸152が回動自在に支持されており、該回動軸152の両端部はそれぞれ空ステージ16とボックス槽15とに突出している。回動軸152の空ステージ16側の突出端部にシャッター板150が一体的に固着され、回動軸152のボックス槽15側の突出端部に、中空状の浮子151が一体的に固着され、これにより、シャッター板150と浮子151とが、回動軸152の軸芯回りに一体的に回動するようになっている。シャッター板150は、たとえば塩化ビニル樹脂でできており、文字通り板状の部材であり、一方、浮子151は、たとえばポリプロピレンでできており、中空状に形成されることにより、処理液内で所定値以上の大きな浮力が発生するようになっている。
図10において、シャッター板150は、閉状態において、左右に長い略矩形状に形成されると共に、左右幅の略中央部の下端近傍が前記回動軸152に固着されており、回動軸152を回動軸芯として、図10の時計回り方向である閉方向B1のモーメントと、反時計回り方向である開方向B1のモーメントとが、略等しくなるか、若干開方向B2のモーメントが大きくなるように構成されている。シャッター板150の左端縁は、一直線状に形成されているが、右端縁は、上端から略1/3の上側部分150aが、閉位置においてガイドプレート110の拡張開口部88aの右斜面110aに当接する傾斜面となっており、中間部分150bは、ガイドプレート110の垂直な端面110bに当接する垂直面となっており、そして、下端から略1/3の下側部分150cは、前記上側部分150aと同方向に傾斜する傾斜面となっている。すなわち、シャッター板150は、少なくとも上側部分150aが拡張開口部88aの右斜面110aに当接することにより、閉位置で係止されるようになっている。
浮子151は、回動軸152に対して左側に延びるように固着されており、浮子151の自重により、シャッター板150に対して、開方向B2のモーメントを付与している。すなわち、浮子151に浮力が掛かっていない時は、概ね浮子151の重量により、シャッター板150が開方向B2に回動するようになっている。シャッター板150は、たとえば、ゲート装置本体91に設けられたストッパー155により、図9に示す開状態で係止される。
(作動)
めっき処理工程並びにその後のハンガーの剥離工程等は、従来公知であるので、ごく簡単に説明する。図1において、ロード部10でめっき処理前のワークWを搬送ハンガー28に吊持し、プッシャー装置により搬送ハンガー28及びワークWを前処理槽11内まで搬送し、搬送ハンガー28のスプロケット71を前処理槽11の連続搬送装置35の搬送チェーン75の始端部に係合させる。
前記連続搬送装置35から、矢印F方向へと順次、取込搬送装置31、連続搬送装置36、取込搬送装置32及び連続搬送装置37によって搬送ハンガー27を移動することにより、ワークWは、前処理槽11、空ステージ12、ボックス槽13、めっき槽14、ボックス槽15、空ステージ16及び第1の後処理槽17を通過し、又は所定の処理位置で所定時間停止し、前処理、めっき処理及び洗浄等の後処理が行われる。めっき処理完了後のワークは、図示しないプッシャー装置により、第2の後処理槽18を介してアンロード部19まで搬送され、搬送ハンガー28からめっき処理後のワークWが取り外される。
ワークWを外した後の搬送ハンガー28は、次に、剥離工程の空ステージ20の連続搬送装置38のチェーンコンベア75にスプロケット71が係合させられ、該連続搬送装置38から、矢印F方向へと順に、取込搬送装置33、連続搬送装置39、取込搬送装置34及び連続搬送装置40によって移動させられ、付着物が剥離され、洗浄され、再びロード部10に戻される。
前記めっき処理において、ワークWを、たとえば、空ステージ12からボックス槽13を経てめっき槽14に水平移動する時、ならびに、めっき槽14からボックス槽15を経て空ステージ16に水平移動する時には、各ゲート装置84,85をそれぞれ開き、これにより、ワークWは、上昇することなく、ワーク通過口88等を通過させる。ワークWがワーク通過口88等を通過し終えると、各ゲート装置84,85のワーク通過口88等を閉じる。
(ゲート装置85の開閉作動の詳細な説明)
(1)図5は、前述のように、ワークWを空ステージ12からボックス槽13を経てめっき槽14に移動する工程、ならびに、めっき槽14からボックス槽15を経て空ステージ16に移動する工程を簡単に示している。めっき槽14には、めっき液が常時略満杯状態に保たれ、空ステージ12,16は、常時、めっき液を排出していることにより、略空状態に保たれている。ボックス槽13,15は、めっき槽14との間でワークWが移動する時には、カラム槽47等からめっき液を短時間で供給することにより、めっき槽14と略同じ満杯状態に保たれ、各ボックス槽13,15と各空ステージ12,16との間でワークWが移動する時には、排出口栓46を開くことにより、短時間で略空状態まで排液される。
(2)ボックス槽13,15に上記のようにめっき液を満杯にする場合には、めっき槽14とボックス槽15との間のゲート装置84は開き、ワークWの通過が可能な状態とし、一方、ボックス槽13,15と空ステージ12,16との間のゲート装置85は閉じる。反対に、ボックス槽13,15を満杯状態から空状態にする場合には、めっき槽14とボックス槽13,15との間のゲート装置84は閉じ、一方、ボックス槽13,15は、排出口栓46を開くと共に、空ステージ12,16との間のゲート装置85も開き、めっき液を排出する。
(3)後処理用のボックス槽15が空状態から満杯状態になる過程でのゲート装置95の作動を詳しく説明する。図9において、ボックス槽15内が空の時には、可動ゲート部材93が開位置に移動していることにより、ワーク通過口88のスリット状開口部88bは開いており、また、シャッター板150が、開位置に回動していることにより、拡張開口部88aも開いている。
ボックス槽15にめっき液を供給する場合には、図10のように、まず、可動ゲート部材93を閉位置に移動して、スリット状開口部88bを閉じておく。この状態で、カラム槽47(図5)からめっき液をボックス槽15に供給すると、ボックス槽15内に供給されるめっき液の増加に伴い、浮子151が浮力で上昇し、シャッター板150は浮子151と共に閉方向B1に回動し、拡張開口部88aの下半部を閉じる。これにより、ボックス槽15内に、レベルL1までのめっき液を確実に、貯留することができる。上記レベルL1は、図7に示すように、搬送装置28に把持されたワークWの上端縁が略50mm程度まで浸漬しうる高さである。これにより、めっき槽14内においてワークW全体をめっき処理することができる。
上記説明は、めっき槽14からボックス槽15を経て空ステージ16にワークWを搬送する場合のゲート装置85等の開閉であるが、図5の入口側の空ステージ一12からボックス槽13を経てめっき槽14にワークを搬送する場合にも、入口側ボックス槽13と入口側空ステージ12との間に配置されたシャッター板付きゲート装置85の開閉は、前記ゲート装置85と同様に行われる。
(実施の形態の効果)
(1)図6に示すボックス槽15と空ステージ16との間のゲート装置85は、図7のように、駆動機構94(チューブ部材101,102)により略水平方向に移動してスリット状開口部88bを開閉するゲート部材93と、該ゲート部材93とは別に、水平な回動軸152回りに回動して拡張開口部88aを開閉するシャッター板150と、を備えており、シャッター板150には、ボックス槽15内に配置された浮子151を連動連結し、ボックス槽15のめっき液の増加に伴う浮子151の上昇により、前記シャッター板150を閉位置に回動させるようにしているので、ワーク通過口88の開口面積を、ワークW及びワーク保持用のクランプ67等が通過可能な略最小の面積に制限することができ、ワーク通過口88からのめっき液の漏出を抑制できる。
(2)スリット状開口部88bを、水平方向にスライド自在な可動ゲート部材93により開閉し、拡張開口部88aを、水平な回動軸152回りに回動自在なシャッター150により開閉するようにしているので、短時間でワーク通過口88全体を開閉でき、連続的なワーク処理作業の能率を向上させることができる。すなわち、各開口部88b、88aの形状に応じてそれぞれスライド式のゲート部材93と回動式のシャッター板150とを備えているので、ワーク通過口88全体としての開閉時間を、大きく短縮することができる。
(3)ボックス槽15内に配置した浮子151を利用してシャッター板150を上昇させるようにしているので、モータ等のシャッター開閉用駆動機構を特別に備える必要がなく、ゲート装置85を簡素化することができる。
(4)拡張開口部88aをV字形に形成しているので、スリット状開口部88b及びその上方に連続する拡張開口部88aの形成作業が容易である。
(5)浮子151は、シャッター板150の回動軸152に固着され、シャッター板150と一体的に回動可能とすることができるので、浮子151をシャッター板150と一体的にコンパクトに配置することができる。
[第2の実施の形態]
図11及び図12は第2の実施の形態を示しており、図11において、ボックス槽15(紙面の手前側)と空ステージ(紙面の向こう側)16の間の槽壁83に、ワーク通過口88の拡張開口部88aの形状に対応した三角形状のシャッター板150と、該シャッター板150のアーム部150aに紐161を介して連結された浮子151と、を備えている。シャッター板150と浮子151は、いずれもボックス槽15内に配置されている。尚、前記第1の実施の形態と同様に、スリット状開口部88bを開閉するゲート装置85を備えているが、図では省略し、シャッター板150及びその駆動機構のみを示している。
シャッター板150のアーム部150aは、略水平な回動軸152を介して槽壁83(又はゲート装置本体)に回動自在に支持されており、アーム部150aの他端部には、シャッター板150に対して開方向B2にモーメントが掛かるように錘164が設けられている。回動軸152に対して錘164の配置側とは反対側のアーム部150aの部位に、前記紐161が連結されており、該紐161はボックス槽15を下方に延び、ボックス槽15の下端部近傍に設けられたターンシーブ162に巻き掛けられて上方に折り返し、紐161の他端部に浮子151が連結されている。
図11に示すように、ボックス槽15が略空状態の時には、浮子151はボックス槽15の底面近くに位置し、シャッター板150は、錘164による開方向B2のモーメントにより、開位置に位置している。
図12のように、ボックス槽15にめっき液を供給すると、浮子151が浮力で上昇し、紐161を引っ張り、シャッター板150を閉方向B1に回動させる。閉方向B1に回動したシャッター板150は、ストッパー163で係止されることにより、閉位置に保持され、拡張開口部88aの下半部を閉じる。
上記実施の形態によると、浮子151の配置の自由度が増加して、設計がし易くなる。なお、該実施の形態において、浮子151とシャッター板150とを連結する索状体は紐には限定されず、軟らかいワイヤやチェーンを利用することも可能である。
[第3の実施の形態]
図13及び図14は、本発明の第3の実施の形態であり、平面図を示す図13において、めっき液槽14とボックス槽15との間の槽壁82に、シャッター板350を設けており、シャッター板350はめっき液槽14内に、浮子351はボックス槽15内に配置されている。槽壁82(又はゲート装置本体)には、これを貫通する水平な回動軸352が回動自在に支持され、回動軸352のめっき槽14側の端部にシャッター板350のアーム部350aの基端部が固着され、回動軸352のボックス槽15側の端部に、アーム部351aを介して浮子351が固着されている。尚、前記第1の実施の形態と同様に、スリット状開口部88bを開閉するゲート装置84を備えているが、図では省略し、シャッター板350及びその駆動機構のみを示している。
図14は図13のXIV−XIV断面図であり、シャッター板350が閉じた状態を示しており、槽壁82の拡張開口部88aの近傍に、閉位置係止用のストッパー354が設けられ、めっき液槽14の側壁の上端部に,開位置係止用のストッパー353が設けられている。
ボックス槽15が空状態の時には、図14に示すように、浮子351及びシャター板350にかかる重力により、シャッター板350は閉方向B1に回動し、ストッパー354に係止されることにより、閉位置に保持されている。すなわち、拡張開口部88aの下半部を閉じている。これにより、めっき液槽14からボックス槽15へのめっき液の漏出を防いでいる。
ボックス槽15にめっき液が供給されると、浮子351が浮力で上昇することにより、浮子351及びシャッター板350は開方向B2に回動し、拡張開口部88aが開かれる。シャッター板350は、開位置係止用のストッパー353により、係止、保持される。これにより、速やかにボックス槽15をめっき液槽14内と同じ満杯状態にできる。
[第4の実施の形態]
図15は、本発明の第4の実施の形態であり、ボックス槽15と空ステージ16との間の槽壁83に、シャッター板450を設けている。シャッター板450は、前記第3の実施の形態と同様に、アーム部450aを有する三角形状に形成され、ボックス槽15内に配置されている。シャッター板450のアーム部450aの基端部が、略水平な回動軸452を介して槽壁83に回動自在に支持されている。本実施の形態では、シャッター板450自体を、中空形状または比重の小さい材料で製作することにより、めっき液中又は水中で浮く浮子として利用している。尚、前記第1の実施の形態と同様に、スリット状開口部88bを開閉するゲート装置85を備えているが、図では省略し、シャッター板450及びその駆動機構のみを示している。
ボックス槽15が空の時には、シャッター板450は重力により破線で示すように垂下状態となっており、拡張開口部88aを開いている。
ボックス槽15内にめっき液を供給すると、シャッター板(浮子)450は、浮力により閉方向B1に回動し、上方のストッパー454に当接することにより、閉位置に係止され、拡張開口部88aを閉じる。
[第5の実施の形態]
図16及び図17は、本発明の第5の実施の形態であり、空ステージ16とボックス槽15との間の槽壁83に、シャッター板550を設けている。図16は平面図、図17は図16のXVII-XVII断面図であり、図17において、槽壁83のボックス槽15側の面に、断面略コの字状のスライドレール558を傾斜姿勢で固定し、該スライドレール558内に、平行四辺形状のシャッター板550の一側端部550aをスライド自在に支持している。上記スライドレール558は、下方に行くに従いワーク通過口88から離れるように傾斜しており、したがって、シャッター板550が上方に移動すると、ワーク通過口88へ移動して拡張開口部88aを閉じ、下方に移動すると、ワーク通過口88から離れて拡張開口部88bを開くようになっている。また、シャッター板550の軌道の上下端には、閉位置係止用のストッパー554と、開位置係止用のストッパー553とが、それぞれ設けられている。
図16において、スライドレール558には、レール長さ方向に沿って溝558aが開口しており、該溝558aを通ってシャッター板550が外部に突出している。
該実施の形態も、シャッター板550自体が浮子となっており、中空状に形成されるか、あるいはめっき液に浮く比重の軽い素材(たとえばポリプロピレン等)で成形されている。
ボックス槽15内が空の時には、図17に仮想線で示すように、シャッター板550は自重で開位置まで下降し、開位置係止用のストッパー553で係止されている。すなわち、拡張開口部88aが開いている。
ボックス槽15内にめっき液を供給すると、シャッター板550は自身の浮力により上昇し、上端の閉位置係止用のストッパー554に当接することにより、拡張開口部88aを閉状態に保つ。
[第6の実施の形態]
図18及び図19は、本発明の第6の実施の形態であり、空ステージ16とボックス槽15との間の槽壁83に、螺旋移動型のシャッター板650を備えた例である。
平面図を示す図18において、槽壁83のボックス槽15側の面に、ガイド筒655を略垂直姿勢に固着し、該ガイド筒655内に、上下方向移動自在かつ回動自在に円筒状の浮子651を嵌合している。
図19は図18のXIX-XIX断面図であり、ガイド筒655の周壁には、ガイド筒655の内部と外部とを連通する螺旋スリット656が形成されており、該螺旋スリット656に挿通されたアーム部650aを介して、三角形状のシャッター板650が浮子651に連結されている。
ボックス槽15内が空の時には、仮想線で示すように、シャッター板650は、重力により、浮子651と共に開位置まで下降し、スリット状の開口部88bと反対側に位置している。すなわち、拡張開口部88aを開いている。
ボックス槽15内にめっき液を供給すると、浮子651の浮力により、浮子651とシャッター板650は一体的に上昇するが、アーム部650aが螺旋スリット656に沿って移動することにより、シャッター板650は螺旋状に上昇する。そして上昇した閉位置では、拡張開口部88a側へ回動しており、拡張開口部88aを閉じている。なお、本実施の形態においても、シャッター板650自体を、中空形状または比重の小さい材料を用いることより、めっき液中で浮く浮子とすることもできる。
[第7の実施の形態]
図20及び図21は、本発明の第7の実施の形態であり、めっき槽14とボックス槽15との間の槽壁82にシャッター板750を配置した例であり、浮子751が上昇することにより、拡張開口部88aを開くようになっている。
閉状態を示す図20において、拡張開口部88aの形状に対応した三角形状の前記シャッター板750と、該シャッター板750のアーム部750aの他端部に紐761を介して連結された浮子751と、を備えている。アーム部750aは、略水平な回動軸752を介して槽壁82に回動自在に支持されている。
前記紐761は、アーム部750aから下方に延びて、ボックス槽15の下端部近傍に設けられたターンシーブ762に巻き掛けられ、上方に折り返されている。
図20に示すように、ボックス槽15が略空状態の時には、浮子751はボックス槽15の底面近くに位置し、シャッター板750は、自重により閉方向B1に回動し、拡張開口部を閉じている。シャッター板750は、ストッパー754で係止されることにより、閉位置に保持されている。
ボックス槽15内にめっき液を供給すると、浮力により浮子751は上昇し、紐761を介してアーム部750aの他端部を引っ張り、図21のように、シャッター板75を開方向B2に回動し、拡張開口部88aを開く。
[その他の実施の形態]
(1)前記図1乃至図21の実施の形態では、スリット状開口部88bを開閉するために、水平方向移動自在なゲート部材93を備えると共に、該ゲート部材93を駆動する駆動機構94として、一対のチューブ部材101,102を備えているが、他の駆動機構により水平方向に移動するゲート部材を備えることもできる。また、チューブ部材の膨張により、チューブ部材で直接にスリット状開口部を閉じる構造とする事も可能である。
(2)本発明かかるゲート装置は、めっき装置には限定されず、たとえば、処理液槽内に貯留した処理液によりワークを洗浄する剥離槽等の浸漬処理装置にも適用することは可能である。
本発明は、めっき装置の他に、クロメート処理装置、アルミニウムの陽極酸化処理装置、電解研磨装置又は電解酸洗装置等の処理装置にも適用可能である。
本発明の第1の実施の形態であり、めっき装置の全体平面図である。 図1のめっき槽及びボックス槽近辺の縦断面拡大図である。 図2のIII-III断面拡大図である。 図2のIV-IV断面拡大図である。 図1のめっき槽、ボックス槽及び空ステージの縦断面略図である。 図5のボックス槽の平面図である。 図6のVII-VII断面図である。 図7のゲート装置の平面拡大図である。 ワーク通過口が開いた状態のゲート装置を示す作用説明図である。 ワーク通過口が閉じた状態のゲート装置を示す作用説明図である。 本発明の第2の実施の形態であり、シャッター板が開いた状態の処理液槽の縦断面略図である。 図11と同じ処理液槽であり、シャッター板が閉じた状態を示す断略図である。 本発明の第3の実施の形態であり、シャッター板が開いた状態の処理液槽の平面図である。 図13のXIV-XIV断面図である。 本発明の第4の実施の形態であり、シャッター板が閉じた状態の処理液槽の縦断面略図である。 本発明の第5の実施の形態であり、処理液槽の平面図である。 図16のXVII-XVII断面図である。 本発明の第6の実施の形態であり、処理液槽の平面図である。 図18のXIX-XIX断面図である。 本発明の第7の実施の形態であり、処理液槽の縦断面略図である。 図21のXXI-XXI断面図である。 従来の処理液槽における排液及び給液時の作用を示す斜視図である。
符号の説明
15 ボックス槽(処理液槽の一例)
46 排出口栓(排液機構の一例)
47 カラム槽(給液機構の一例)
85 ゲート装置
88 ワーク通過口
88a スリット状開口部
88b 拡張開口部
93 可動ゲート部材
94 可動ゲート部材の駆動機構
150 シャッター板
151 浮子
152 シャッター板の回動軸
161 紐(索状体の一例)

Claims (4)

  1. 給液機構及び排液機構を備えると共に、ワーク通過口を有するゲート装置が槽壁に設けられている処理液槽において、
    前記ワーク通過口は、垂直姿勢の板状ワークが通過可能で上下方向に細長いスリット状開口部と、該スリット状開口部の上端に前記スリット状開口部より幅広く形成された拡張開口部とを有し、
    前記ゲート装置は、駆動機構により略水平方向に移動又は変形して前記スリット状開口部を開閉するゲート部材と、該ゲート部材とは別に、前記拡張開口部を開閉するシャッター板と、を備え、
    前記シャッター板は、処理液槽内に配置された浮子を備え、処理液槽内の処理液の増減に伴う浮子の昇降により、前記シャッター板が開位置と閉位置との間で位置変更されるようになっていることを特徴とする処理液槽。
  2. 請求項1記載の処理液槽において、
    前記拡張開口部はV字形に形成されている処理液槽。
  3. 請求項1又は2に記載の処理液槽において、
    前記シャッター板は、略水平な回動軸に固着されて、該回動軸回りに回動することにとり、閉位置と開位置との間で位置変更可能となっており、
    前記浮子は、前記シャッター板の回動軸に固着され、シャッター板と一体的に回動可能となっている処理液槽。
  4. 請求項1又は2記載の処理液槽において、
    前記浮子は索状部材を介してシャター板に連結され、
    前記策状部材は、シャッター板から下方に延びると共にターンシーブを介して上方に折り返し、折り返し上端部に前記浮子が連結されている処理液槽。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9657406B2 (en) 2011-06-30 2017-05-23 C. Uyemura & Co., Ltd. Surface treating apparatus and plating tank

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI580814B (zh) 2010-10-21 2017-05-01 荏原製作所股份有限公司 基板處理裝置,以及鍍覆裝置及鍍覆方法
SG10201605875SA (en) * 2011-07-19 2016-09-29 Ebara Corp Plating apparatus and plating method
US9617652B2 (en) * 2012-12-11 2017-04-11 Lam Research Corporation Bubble and foam solutions using a completely immersed air-free feedback flow control valve
JP6783233B2 (ja) * 2014-12-05 2020-11-11 レナ テクノロジー ゲーエムベーハーRENA Technologies GmbH サブストレートを処理するための装置
WO2020106590A1 (en) 2018-11-19 2020-05-28 Lam Research Corporation Cross flow conduit for foaming prevention in high convection plating cells
CN109996391B (zh) * 2019-04-18 2020-09-25 广德扬升电子科技有限公司 一种印刷电路板表面处理装置
CN116254586B (zh) * 2023-05-15 2023-08-04 苏州晶洲装备科技有限公司 一种电镀装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55141557A (en) * 1979-04-23 1980-11-05 Isamu Takemura Method and apparatus for surface treatment easy in transfer of object and feed of liquid
JPH09195250A (ja) * 1996-01-22 1997-07-29 Hokoku Kogyo Co Ltd 流量応答ゲート
JP2007113066A (ja) * 2005-10-20 2007-05-10 C Uyemura & Co Ltd 浸漬処理装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55141558A (en) * 1979-04-23 1980-11-05 Isamu Takemura Surface treatment apparatus capable of feeding and discharging liquid in short time
EP1467935B8 (de) * 2002-01-21 2005-12-21 Epv-Tec Gmbh Vorrichtung und verfahren zur oberflächenbehandlung von teilen
JP4022115B2 (ja) 2002-09-06 2007-12-12 豊 佐藤 ダム式連続浸漬処理装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55141557A (en) * 1979-04-23 1980-11-05 Isamu Takemura Method and apparatus for surface treatment easy in transfer of object and feed of liquid
JPH09195250A (ja) * 1996-01-22 1997-07-29 Hokoku Kogyo Co Ltd 流量応答ゲート
JP2007113066A (ja) * 2005-10-20 2007-05-10 C Uyemura & Co Ltd 浸漬処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9657406B2 (en) 2011-06-30 2017-05-23 C. Uyemura & Co., Ltd. Surface treating apparatus and plating tank

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Publication number Publication date
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