JP2010098328A5

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Publication number: JP2010098328A5
Application number: JP2010000173A
Authority: JP
Filing date: 2010-01-04
Publication date: 2011-05-26
Anticipated expiration: 2024-09-29

Claims

投影光学系と、該投影光学系の像面側に配置された基板上に供給される液体とを介して前記基板に露光光を照射する露光装置であって、
前記投影光学系に対して移動可能なステージと、
前記ステージに設けられ、前記投影光学系に対向して配置された状態で前記液体に接する第１面、および前記投影光学系と前記液体とを介して前記第１面から入射した前記露光光を射出させる第２面を有する光学部材と、
前記第２面から射出した前記露光光を受光する受光面を有する受光素子と、を備え、
前記光学部材は、前記第１面が前記ステージの上面と一致するように該ステージに設けられることを特徴とする露光装置。
請求項１に記載の露光装置であって、
前記光学部材を保持し、該光学部材の前記第１面が前記ステージの上面と一致するように前記ステージに取り付けられる保持部材を備えることを特徴とする露光装置。
請求項２に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面が前記保持部材の上面と一致するように該保持部材に保持されることを特徴とする露光装置。
請求項２または３に記載の露光装置であって、
前記保持部材は、該保持部材の上面が前記ステージの上面と一致するように該ステージに取り付けられることを特徴とする露光装置。
請求項２〜４のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記受光素子の前記受光面は、前記保持部材の内側に設けられることを特徴とする露光装置。
請求項２〜５のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材の少なくとも一部は、前記保持部材の上面に形成された開口内に設けられることを特徴とする露光装置。
請求項２〜６のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材の少なくとも一部は、前記ステージの上面に形成された開口内に設けられることを特徴とする露光装置。
請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記ステージは、前記基板を保持して移動することを特徴とする露光装置。
請求項８に記載の露光装置であって、
前記ステージは、前記基板を保持するホルダを含み、
前記ホルダは、前記ステージの上面と前記基板の上面とが一致するように該基板を保持することを特徴とする露光装置。
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記第１面を含む前記光学部材の上面は、平坦面であることを特徴とする露光装置。
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面を有する第１光学部材と、前記第２面を有する第２光学部材とを含むことを特徴とする露光装置。
請求項１１に記載の露光装置であって、
前記第１光学部材と前記第２光学部材とは、前記第１面と前記第２面との間における前記露光光の光路に気体を介在させずに配置されることを特徴とする露光装置。
請求項１１または１２に記載の露光装置であって、
前記第１光学部材と前記第２光学部材とは、気体を介在させずに接合されることを特徴とする露光装置。
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記第２面は、該第２面から射出する前記露光光の射出側に凸状に形成されていることを特徴とする露光装置。
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記曲面は、前記第２面から射出する前記露光光の射出側に凸状に形成されていることを特徴とする露光装置。
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面から入射した前記露光光を反射して前記第２面へ導く反射面を含むことを特徴とする露光装置。
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面から入射した前記露光光を反射して前記第２面へ導く外周面を有する柱状部材を含むことを特徴とする露光装置。
請求項１７に記載の露光装置であって、
前記柱状部材は、前記外周面に金属膜が設けられていることを特徴とする露光装置。
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第２面を含む部材であって前記第１面から入射した前記露光光を集光させる集光部材を含むことを特徴とする露光装置。
請求項１９に記載の露光装置であって、
前記集光部材は、平凸レンズ、回折光学素子、レンズアレイ、フレネルレンズおよび反射ミラーの少なくとも１つを含むことを特徴とする露光装置。
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第２面を含む部材であって前記第１面から入射した前記露光光を回折させる回折光学素子を含むことを特徴とする露光装置。
請求項２１に記載の露光装置であって、
前記回折光学素子は、前記第１面から入射する前記露光光のうち第１の入射角で入射する光束に対する回折角が、該露光光のうち前記第１の入射角より大きい第２の入射角で入射する光束に対する回折角より小さいことを特徴とする露光装置。
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第２面を含む部材であって前記第１面から入射した前記露光光を拡散させる拡散素子を含むことを特徴とする露光装置。
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記第２面から射出した前記露光光を前記受光面へ導く少なくとも１つの光学素子を備えることを特徴とする露光装置。
請求項２４に記載の露光装置であって、
前記少なくとも１つの光学素子は、前記第２面から射出した前記露光光を平行光に変換することを特徴とする露光装置。
請求項１〜２５のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記露光光を遮光する遮光部が前記第１面の周囲に設けられることを特徴とする露光装置。
請求項２６に記載の露光装置であって、
前記遮光部は、ピンホールを形成し、前記第１面は、前記ピンホール内に設けられることを特徴とする露光装置。
請求項１〜２５のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面から入射した前記露光光の一部を遮光する遮光部が設けられることを特徴とする露光装置。
請求項２６〜２８のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記遮光部は、金属膜を含むことを特徴とする露光装置。
請求項１〜２９のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記投影光学系および前記液体を介して前記露光光を検出する第１及び第２センサを備え、
前記第１及び第２センサは、それぞれ前記光学部材および前記受光素子を含むことを特徴とする露光装置。
請求項３０に記載の露光装置であって、
前記ステージは、該ステージの上面に、前記第１及び第２センサの前記光学部材の少なくとも一部が配置される第１及び第２開口が設けられることを特徴とする露光装置。
請求項３０に記載の露光装置であって、
前記第１及び第２センサの前記光学部材を内部に保持し、前記ステージに取り付けられる保持部材を備えることを特徴とする露光装置。
基板上にマイクロデバイスを形成するデバイス製造方法であって、
請求項１〜３２のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、前記基板にパターンを転写することと、
前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて処理することと、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
投影光学系と、該投影光学系の像面側に配置された基板上に供給される液体とを介して前記基板に照射される露光光を検出する計測方法であって、
第１面を含む光学部材を前記投影光学系に対して移動可能なステージに設けることと、
前記ステージに設けられた前記光学部材の前記第１面を、前記投影光学系に対向した状態で前記液体に接触させることと、
前記投影光学系と前記液体とを介して前記第１面から前記光学部材に入射した前記露光光を、前記光学部材の第２面から射出させることと、
前記第２面から射出した前記露光光を受光することと、を含み、
前記光学素子は、前記第１面が前記ステージの上面と一致するように前記ステージに設けられることを特徴とする計測方法。
請求項３４に記載の計測方法であって、
前記光学部材を保持部材によって保持することと、
前記光学部材を保持した前記保持部材を前記ステージに取り付けることと、を含むことを特徴とする計測方法。
請求項３４または３５に記載の計測方法であって、
前記第１面から前記光学部材に入射した前記露光光を、該光学部材が有する反射面によって反射して前記第２面へ導くことを含むことを特徴とする計測方法。
請求項３４〜３６のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記露光光を前記第２面から射出させることは、該露光光を集光させることを含むことを特徴とする計測方法。
請求項３４〜３６のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記露光光を前記第２面から射出させることは、該露光光を回折させることを含むことを特徴とする計測方法。
請求項３４〜３６のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記露光光を前記第２面から射出させることは、該露光光を拡散させることを含むことを特徴とする計測方法。
投影光学系と、該投影光学系の像面側に配置された基板上に供給される液体とを介して前記基板に露光光を照射する露光方法であって、
請求項３４〜３９のいずれか一項に記載の計測方法を用いて前記露光光を計測することと、
前記露光光の計測結果に基づいて、前記露光光の照射条件を設定することと、を含むことを特徴とする露光方法。
請求項４０に記載の露光方法であって、
前記ステージの上面と前記基板の上面とが一致するように該基板を前記ステージに設けることを含むことを特徴とする露光方法。
基板上にマイクロデバイスを形成するデバイス製造方法であって、
請求項４０または４１に記載の露光方法を用いて、前記基板にパターンを転写することと、
前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて処理することと、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。