JP5360078B2 - 露光装置、計測方法、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1の観点による露光装置は、照明系(IS)からの露光光を、投影光学系(PL)と液体(w)とを介して基板(W)上に照射することによって前記基板を露光する露光装置(EX)において、前記投影光学系の像面側に配置された光透過部(31、32)を介して、前記投影光学系を通過した露光光を受光する受光器(36、37)を有する計測手段(27)を備え、前記投影光学系と前記光透過部との間に液体がない状態で、前記計測手段の受光器で前記投影光学系を通過した露光光を受光することを特徴としている。
この発明によると、投影光学系の像面側に液体が供給されていない状態で、投影光学系を通過した露光光が投影光学系の像面側に配置された光透過部を介して計測手段の受光器で受光される。
本発明の第2の観点による露光装置は、照明系(IS)からの露光光を、投影光学系(PL)を介して基板(W)上に照射することによって前記基板を露光する露光装置(EX)において、前記投影光学系の像面側に配置され、前記投影光学系からの露光光が入射する光透過部(31、44、56)と、該光透過部からの光を受光器に入射させるための集光部材(41、45、52、57、62、71)とを有する計測手段(40、50、60、70)を備え、前記投影光学系からの露光光が気体中を通過せずに前記集光部材に入射するように、前記集光部材は、前記光透過部と前記受光器との間に配置されていることを特徴としている。
この発明によると、投影光学系からの露光光のうち、光透過部を透過した光は気体中を通過せずに集光部材に入射して集光される。尚、光透過部から集光部材に気体を通過しないように光を導くには、種々の方法があるが、光透過部と集光部材を接合しても良く、或いは、気体以外の媒質であって光透過性の媒質、例えば、液体、超臨界流体、ペースト、固体を光透過部と集光部材との間に、例えば薄膜状に介在させても良い。
本発明の第3の観点による露光装置は、投影光学系(PL)と液体(w)とを介して露光光を基板(W)上に照射することによって前記基板を露光する露光装置(EX)において、前記投影光学系に対向するように一方面が配置され、他方面の一部に光透過部(56)が形成された板状部材(51)と、前記光透過部からの光を受光する受光器(53)とを有する計測手段(50)を備え、前記計測手段の受光器による露光光の受光は、前記投影光学系と前記板状部材との間の液体(w)を介して行われることを特徴としている。
この発明によると、投影光学系からの露光光は液体を介して板状部材に入射し、板状部材に入射した光のうち光透過部を通過した光が計測手段が備える受光器に受光される。それゆえ、液浸露光の状態で露光光を計測することができる。
本発明の第4の観点による露光装置は、照明系(IS)からの露光光を、投影光学系(PL)と液体(w)とを介して基板(W)上に照射することによって前記基板を露光する露光装置(EX)において、前記投影光学系の像面側に配置され、前記投影光学系からの露光光が液体を介して入射する光透過部(31、32、44、56)と、該光透過部からの光を受光器(36、37)に入射させるための光学系(41、45、52、57、62、71、81、86、91、101、111)とを有する計測手段(40、50、60、70、80、85、90、100、110)を備え、前記光透過部からの光が気体中を通過せずに前記光学系に入射するように、前記光学系は、前記光透過部に近接して配置されていることを特徴としている。
この発明によると、投影光学系からの露光光のうち、光透過部を透過した光は計測手段に設けられた光学系によって気体中を通過しないよう導かれて受光器に入射する。それゆえ、受光器は光透過部を透過した光を効率良く受光できる。光透過部から光学系に気体を通過しないように光を導くには、前述のように気体以外の媒質を介在させてもよい。なお、光学系は一つの光学部材であってもよいし、複数の光学部材から構成されていてもよい。
本発明の第5の観点による露光装置は、投影光学系と、該投影光学系の像面側に配置された基板上に供給される液体とを介して前記基板に露光光を照射する露光装置であって、前記投影光学系に対して移動可能なステージと、前記ステージに設けられ、前記投影光学系に対向して配置された状態で前記液体に接する第1面、および前記投影光学系と前記液体とを介して前記第1面から入射した前記露光光を射出させる第2面を有する光学部材と、前記第2面から射出した前記露光光を受光する受光面を有し、該受光面と前記第2面との間に気体を介在させて配置される受光素子と、を備え、前記第2面は、少なくとも1つの曲面が形成された曲面部と、凹凸が形成された凹凸部との少なくとも一方を含む。
本発明の第1の観点によるデバイス製造方法は、上記の何れかの露光装置を用いることを特徴としている。
本発明の第2の観点によるデバイス製造方法は、基板上にマイクロデバイスを形成するデバイス製造方法であって、上記の何れかの露光装置を用いて、前記基板にパターンを転写することと、前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて処理することと、を含む。
本発明の第1の観点による計測方法は、投影光学系と、該投影光学系の像面側に配置された基板上に供給される液体とを介して前記基板に照射される露光光を検出する計測方法であって、前記投影光学系に対して移動可能なステージに設けられた光学部材の第1面を、前記投影光学系に対向した状態で前記液体に接触させることと、前記投影光学系と前記液体とを介して前記第1面から前記光学部材に入射した前記露光光を、前記光学部材が有する面のうち、少なくとも1つの曲面が形成された曲面部と凹凸が形成された凹凸部との少なくとも一方を含む第2面から射出させることと、前記第2面から射出した前記露光光を、気体を介して受光することと、を含む。
本発明の第1の観点による露光方法は、投影光学系(PL)と液体とを介して露光光で基板(W)を露光する露光方法であって、前記投影光学系の光射出端の側に、前記露光光を計測する計測装置(27)を設置する設置ステップと、前記投影光学系の光射出端側の光路空間に前記液体を介在させずに前記計測装置で前記露光光を計測する計測ステップ(S14、S15)と、前記計測結果に基づいて、前記光路空間に前記液体を介在させて前記基板を露光する露光ステップ(S19)とを含み、前記投影光学系の光射出端と前記光路空間との界面に入射する前記露光光の入射角が、前記計測ステップと前記露光ステップとで異なることを特徴としている。
この方法によると、計測ステップにおける前記投影光学系の光射出端と前記光路空間との界面に入射する露光光の入射角を、前記露光ステップにおける入射角より小さく調整することによって投影光学系と計測装置との間の光路空間に液体に存在していなくても計測装置は良好に露光光を受光することができ、その受光した光で結像状態や露光光の調整を実行することができる。
本発明の第2の観点による露光方法は、投影光学系(PL)を介して露光光で基板(W)を露光する露光方法であって、前記投影光学系から射出された前記露光光を気体を通過させずに受光器で受光する計測ステップと、前記投影光学系と液体とを介して前記基板上に前記露光光を照射することによって前記基板を露光する露光ステップとを含むことを特徴としている。
この方法によれば、露光光を気体中を通過せずに受光素子に送ることができるため、投影光学系の開口数が大きくなっても、投影光学系を通過した露光光を良好に受光することができる。
本発明の第3の観点による露光方法は、投影光学系と、該投影光学系の像面側に配置された基板上に供給される液体とを介して前記基板に露光光を照射する露光方法であって、上記の計測方法を用いて前記露光光を計測することと、前記露光光の計測結果に基づいて、前記露光光の照射条件を設定することと、を含む。
本発明の第3の観点によるデバイス製造方法は、上記の何れかの露光方法を用いることを特徴としている。
本発明の第4の観点によるデバイス製造方法は、基板上にマイクロデバイスを形成するデバイス製造方法であって、上記何れかの露光方法を用いて、前記基板にパターンを転写することと、前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて処理することと、を含む。
例えば、投影光学系の端面に入射する露光光束の角度(最外の光線と光軸とがなす角度)を調整(小さく)することで液体が無い状態でも投影光学系を通過した露光光を受光することができる。
また、本発明によれば、投影光学系の開口数の増大により大きな入射角を有する露光光が光透過部に入射しても光透過部を通過した露光光を確実に受光することができるという効果がある。
更に、本発明によれば、投影光学系と対向する一方面を平坦化でき、その板状部材の一方面への泡の付着や投影光学系と板状部材との間の液体の乱れ等を防止することができる。
また更に、本発明によれば、計測結果に応じて最適化した条件の下でマスクのパターンを基板上に露光転写することで、マスクに形成された微細なパターンを基板上に精確に転写することができる。この結果、高集積度のデバイスを歩留まり良く生産することができるという効果がある。
図1は、本発明の第1実施形態による露光装置の概略構成を示す図である。尚、図1に示す露光装置EXは、投影光学系PLとウェハWとの間の液体(純水)wを介して露光を行う液浸式の露光装置であって、半導体素子の回路パターンDPが形成されたレチクルRを用い、ステップ・アンド・リピート方式により、上記回路パターンDPの像をウェハWに転写する露光装置である。
σ=NAi/NAr
また、投影光学系PLの開口数NAは、通常ウェハW側の開口数NAwを示し、レチクル側の開口数NArは、投影光学系PLの倍率Mより、NAr=NAw/Mとして求められる。
次に、本発明の第2実施形態による露光装置について説明する。本実施形態の露光装置の全体構成は図1に示す露光装置とほぼ同様の構成であるが、露光光センサ27の構成が相違する。尚、第1実施形態においては、露光光センサ27は、投影光学系PLの像面側に液体wなしに計測動作(露光光の受光)を行ったが、以下の説明においては、露光光センサ27は投影光学系PLの像面側の液体wを介して計測動作を行う。また、図3に示す通り、第1実施形態で説明した露光光センサ27は照度むらセンサ36と照射量センサ37とを備えているが、以下では説明の簡単のため、主として露光光センサ27に設けられる照度むらセンサについて説明する。
次に、本発明の第3実施形態による露光装置について説明する。上述した第2実施形態と同様に、本実施形態の露光装置の全体構成は図1に示す露光装置とほぼ同様の構成であるが、露光光センサ27の構成が相違する。尚、本実施形態においても主として露光光センサ27に設けられる照度むらセンサについて説明する。
次に、本発明の第4実施形態による露光装置について説明する。上述した第2,第3実施形態と同様に、本実施形態の露光装置の全体構成は図1に示す露光装置とほぼ同様の構成であるが、露光光センサ27の構成が相違する。尚、本実施形態においても主として露光光センサ27に設けられる照度むらセンサについて説明する。図9は、本発明の第4実施形態による露光装置に設けられる照度むらセンサの概略構成を示す断面図である。図9に示す通り、本実施形態の露光装置に設けられる照度むらセンサ60は、平行平板61、平凸レンズ62、及び受光素子63を含んで構成される。
次に、本発明の第5実施形態による露光装置について説明する。上述した第2〜第4実施形態と同様に、本実施形態の露光装置の全体構成は図1に示す露光装置とほぼ同様の構成であるが、露光光センサ27の構成が相違する。尚、本実施形態においても主として露光光センサ27に設けられる照度むらセンサについて説明する。図10は、本発明の第5実施形態による露光装置に設けられる照度むらセンサの概略構成を示す断面図である。図10に示す通り、本実施形態の露光装置に設けられる照度むらセンサ70は、平凸レンズ71及び受光素子72を含んで構成される。
次に、本発明の第6実施形態による露光装置について説明する。本実施形態の露光装置も全体構成は図1に示す露光装置とほぼ同様の構成であるが、露光光センサ27の構成が相違する。尚、本実施形態の露光装置が備える露光光センサ27は、上述した第2〜第5実施形態と同様に、投影光学系PLの像面側の液体wを介して計測動作を行うものである。但し、本実施形態においては、主として露光光センサ27に設けられる照射量センサについて説明する。
次に、本発明の第7実施形態による露光装置について説明する。本実施形態の露光装置の全体構成は図1に示す露光装置とほぼ同様の構成であるが、露光光センサ27の構成が相違する。尚、本実施形態の露光装置が備える露光光センサ27は、上述した第2〜第5実施形態と同様に、投影光学系PLの像面側の液体wを介して計測動作を行うものである。但し、本実施形態においては、主として露光光センサ27に設けられる照射量センサについて説明する。
次に、本発明の第8実施形態による露光装置について説明する。本実施形態の露光装置の全体構成は図1に示す露光装置とほぼ同様の構成であるが、露光光センサ27の構成が相違する。尚、本実施形態の露光装置が備える露光光センサ27は、上述した第2〜第5実施形態と同様に、投影光学系PLの像面側の液体wを介して計測動作を行うものである。但し、本実施形態においては、主として露光光センサ27に設けられる照射量センサについて説明する。
次に、本発明の第9実施形態による露光装置について説明する。本実施形態の露光装置の全体構成は図1に示す露光装置とほぼ同様の構成であるが、露光光センサ27の構成が相違する。尚、本実施形態の露光装置が備える露光光センサ27は、上述した第2〜第5実施形態と同様に、投影光学系PLの像面側の液体wを介して計測動作を行うものであって、主に露光光センサ27に設けられる照度むらセンサについて説明する。
次に、本発明の第10実施形態による露光装置について説明する。本実施形態の露光装置の全体構成は図1に示す露光装置とほぼ同様の構成であるが、露光光センサ27の構成が相違する。尚、本実施形態の露光装置が備える露光光センサ27は、上述した第2〜第5実施形態と同様に、投影光学系PLの像面側の液体wを介して計測動作を行うものであって、主に露光光センサ27に設けられる照度むらセンサについて説明する。
また、上記第2〜第5実施形態では、露光光を集光する集光部材として1つの平凸レンズ41,45,52,57,62,71を備える場合を例に挙げて説明し、上記第6〜第10実施形態では露光光を受光素子に入射させるための光学系として、集光板81、拡散板86、蛍光板91、導波部材101、及び積分球111を含む構成について説明した。しかしながら、平凸レンズ41,45,52,57,62,71と受光素子との間、並びに、集光板81、拡散板86、蛍光板91、導波部材101、及び積分球111と受光素子との間に複数のレンズを設けて露光光等を受光素子に導く構成が望ましい。
31 ピンホール(光透過部)
32 開口(光透過部)
34 NDフィルタ(光透過部)
36 照度むらセンサ(受光器)
37 照射量センサ(受光器)
40 照度むらセンサ(計測手段)
41 平凸レンズ(集光部材、光学部材)
44 光透過部
45 平凸レンズ(集光部材、光学部材)
45a 平坦部
50 照度むらセンサ(計測手段)
51 開口板(板状部材)
52 平凸レンズ(集光部材、光学部材)
53 受光素子
56 光透過部
57 平凸レンズ(集光部材、光学部材)
60 照度むらセンサ(計測手段)
62 平凸レンズ(集光部材、光学部材)
70 照度むらセンサ(計測手段)
71 平凸レンズ(集光部材、光学部材)
80 照射量センサ(計測手段)
81 集光板(光学系、集光部材、光学部材)
82 受光素子
83 マイクロレンズアレイ(波面分割素子、マイクロレンズアレイ素子)
85 照射量センサ(計測手段)
86 拡散板(光学系、拡散部材、光学部材)
87 受光素子
90 照射量センサ(計測手段)
91 蛍光板(光学系、波長変換手段)
92 受光素子
100 照度むらセンサ(計測手段)
101 導波部材(光学系)
102 受光素子
110 照度むらセンサ(計測手段)
111 積分球(光学系、導波部材)
112 受光素子
121 レンズ(光学素子)
122 レンズ(光学素子)
EX 露光装置
IS 照明光学系(照明系)
PL 投影光学系
W ウェハ(基板)
w 液体
Claims (48)
- 投影光学系と、該投影光学系の像面側に供給される液体を介して基板に露光光を照射す
る露光装置であって、
前記投影光学系に対して移動可能なステージと、
前記ステージに設けられ、前記投影光学系に対向する位置に移動された状態で前記液体
に接する第1面と、気体に接するように設けられて前記液体および前記第1面を介した前
記投影光学系からの前記露光光を透過させる第2面とを含む光学部材と、
前記光学部材の前記第2面から射出される前記露光光を受光する受光面を有する受光素
子と、を備え、
前記第2面は、前記投影光学系から該第2面までの間で気体を通過しない前記露光光を
透過させる非平坦部を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置であって、
前記受光面は、前記第2面の前記非平坦部から射出した前記露光光を受光することを特
徴とする露光装置。 - 請求項1または2に記載の露光装置であって、
前記光学部材と前記受光面とは、相互に離間して配置されていることを特徴とする露光
装置。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記非平坦部は、前記露光光の最外光線を透過させることを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第1面が前記ステージの上面と一致するように該ステージに設け
られることを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材を保持し、該光学部材の前記第1面が前記ステージの上面と一致するよう
に前記ステージに取り付けられる保持部材を備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項6に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第1面が前記保持部材の上面と一致するように該保持部材に保持
されることを特徴とする露光装置。 - 請求項6または7に記載の露光装置であって、
前記保持部材は、該保持部材の上面が前記ステージの上面と一致するように該ステージ
に取り付けられることを特徴とする露光装置。 - 請求項6〜8のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記受光素子の前記受光面は、前記保持部材の内側に設けられることを特徴とする露光
装置。 - 請求項6〜9のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材の少なくとも一部は、前記保持部材の上面に形成された開口内に設けられ
ることを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材の少なくとも一部は、前記ステージの上面に形成された開口内に設けられ
ることを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜11のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記ステージは、前記基板を保持して移動することを特徴とする露光装置。 - 請求項12に記載の露光装置であって、
前記ステージは、前記基板を保持するホルダを含み、
前記ホルダは、前記ステージの上面と前記基板の上面とが一致するように該基板を保持
することを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜13のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記第1面と前記第2面との間における前記露光光の光路には気体が介在されないこと
を特徴とする露光装置。 - 請求項1〜13のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第1面を有する第1光学部材と、前記第2面を有する第2光学部
材とを含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項15に記載の露光装置であって、
前記第1光学部材と前記第2光学部材とは、前記第1面と前記第2面との間における前
記露光光の光路に気体を介在させずに配置されることを特徴とする露光装置。 - 請求項15または16に記載の露光装置であって、
前記第1光学部材と前記第2光学部材とは、気体を介在させずに接合されることを特徴
とする露光装置。 - 請求項1〜17のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記非平坦部は、該非平坦部に接する前記気体側に凸状に形成されていることを特徴と
する露光装置。 - 請求項1〜17のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記非平坦部は、該非平坦部から射出する前記露光光の射出側に凸状に形成されていることを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜19のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第1面から入射した前記露光光を反射して前記第2面へ導く反射
面を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜20のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第1面から入射した前記露光光を反射して前記第2面へ導く外周
面を有する柱状部材を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項21に記載の露光装置であって、
前記柱状部材は、前記外周面に金属膜が設けられていることを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜17のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第2面を含む部材であって前記第1面から入射した前記露光光を
前記第2面を介して集光させる集光部材を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項23に記載の露光装置であって、
前記集光部材は、平凸レンズ、回折光学素子、レンズアレイ、フレネルレンズおよび反
射ミラーの少なくとも1つを含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜17のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第2面を含む部材であって前記第1面から入射した前記露光光を
回折させる回折光学素子を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項25に記載の露光装置であって、
前記回折光学素子は、前記第1面から入射する前記露光光のうち第1の入射角で入射す
る光束に対する回折角が、該露光光のうち前記第1の入射角より大きい第2の入射角で入
射する光束に対する回折角より小さいことを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜26のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第2面を含む部材であって前記第1面から入射した前記露光光を
拡散させる拡散素子を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜24のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記第2面から射出した前記露光光を前記受光面へ導く少なくとも1つの光学素子を備
えることを特徴とする露光装置。 - 請求項28に記載の露光装置であって、
前記少なくとも1つの光学素子は、前記第2面から射出した前記露光光を平行光に変換
することを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜29のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記露光光を遮光する遮光部が前記第1面の周囲に設けられることを
特徴とする露光装置。 - 請求項30に記載の露光装置であって、
前記遮光部は、ピンホールを形成し、前記第1面は、前記ピンホール内に設けられるこ
とを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜29のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第1面から入射した前記露光光の一部を遮光する遮光部が設けら
れることを特徴とする露光装置。 - 請求項30〜32のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記遮光部は、金属膜を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜33のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記投影光学系および前記液体を介して前記露光光を検出する第1及び第2センサを備
え、
前記第1及び第2センサは、それぞれ前記光学部材および前記受光素子を含むことを特
徴とする露光装置。 - 請求項34に記載の露光装置であって、
前記ステージは、該ステージの上面に、前記第1及び第2センサの前記光学部材の少な
くとも一部が配置される第1及び第2開口が設けられることを特徴とする露光装置。 - 請求項34に記載の露光装置であって、
前記第1及び第2センサの前記光学部材を内部に保持し、前記ステージに取り付けられ
る保持部材を備えることを特徴とする露光装置。 - 基板上にマイクロデバイスを形成するデバイス製造方法であって、
請求項1〜36のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、前記基板にパターンを転写
することと、
前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて処理することと、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - 投影光学系から照射される露光光を該投影光学系の像面側に供給される液体を介して検
出する計測方法であって、
前記第2面から射出した前記露光光を、気体を介して受光することと、を含む前記投影
光学系に対して移動可能なステージに設けられた光学部材を、該光学部材の第1面が前記
投影光学系に対向する位置に移動させることと、
前記液体および該液体に接する前記第1面を介した前記投影光学系からの前記露光光を
、前記光学部材のうち気体に接する第2面から射出させることと、
前記光学部材の前記第2面からの前記露光光を受光素子で検出することと、
を含み、
前記受光素子は、前記投影光学系から前記第2面までの間で気体を通過しない前記露光
光を透過させるように前記第2面に設けられた非平坦部からの前記露光光を検出すること
を特徴とする計測方法。 - 請求項38に記載の計測方法であって、
前記非平坦部からの前記露光光は、前記投影光学系からの前記露光光の最外光線を含む
ことを特徴とする計測方法。 - 請求項38または39に記載の計測方法であって、
前記第1面が前記ステージの上面と一致するように前記光学部材を前記ステージに設け
ることを含むことを特徴とする計測方法。 - 請求項40に記載の計測方法であって、
前記光学部材を保持部材によって保持することと、
前記光学部材を保持した前記保持部材を前記ステージに取り付けることと、を含むこと
を特徴とする計測方法。 - 請求項38〜41のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記第1面から前記光学部材に入射した前記露光光を、反射面を介して前記第2面へ導
くことを含むことを特徴とする計測方法。 - 請求項38〜42のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記露光光を前記第2面から射出させることは、該露光光を集光させることを含むこと
を特徴とする計測方法。 - 請求項38〜42のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記露光光を前記第2面から射出させることは、該露光光を回折させることを含むこと
を特徴とする計測方法。 - 請求項38〜42のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記露光光を前記第2面から射出させることは、該露光光を拡散させることを含むこと
を特徴とする計測方法。 - 投影光学系と、該投影光学系の像面側に配置された基板上に供給される液体とを介して
前記基板に露光光を照射する露光方法であって、
請求項38〜45のいずれか一項に記載の計測方法を用いて前記露光光を計測すること
と、
前記露光光の計測結果に基づいて、前記露光光の照射条件を設定することと、を含むこ
とを特徴とする露光方法。 - 請求項46に記載の露光方法であって、
前記ステージの上面と前記基板の上面とが一致するように該基板を前記ステージに設け
ることを含むことを特徴とする露光方法。 - 基板上にマイクロデバイスを形成するデバイス製造方法であって、
請求項46または47に記載の露光方法を用いて、前記基板にパターンを転写すること
と、
前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて処理することと、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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