JP2014035449A5 - - Google Patents

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Claims (12)

  1. 反射型マスクに形成されたパターンを感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、
    前記反射型マスクと前記感応基板との間に前記反射型マスクのパターンの中間像を形成する第1結像光学系と、該中間像を前記感応基板上に再結像する第2結像光学系とを有する投影光学系と、
    前記反射型マスクのパターンを照明するための照明光を生成する照明系と、
    前記第1結像光学系と前記第2結像光学系との間の空間に配置され、前記照明系からの照明光が前記第1結像光学系を介して前記反射型マスクのパターンに向かうように導くとともに、前記反射型マスクのパターンからの結像光が前記第1結像光学系を介して前記第2結像光学系に向かうように導く光分割器と、
    を備えた投影露光装置。
  2. 所定の軸線周りに回転可能で、前記反射型マスクを円筒面に沿って保持するマスク保持部を備える請求項1記載の投影露光装置。
  3. 前記マスク保持部と前記光分割器との間に配置され前記反射型マスクのパターンの像面形状を前記円筒面の形状に応じて調整する調整部を備える請求項2記載の投影露光装置。
  4. 前記反射型マスクが接触保持されるマスク保持面を備え、所定の軸線周りに周回可能な周回保持部を備える請求項1記載の投影露光装置。
  5. 前記周回保持部は、無端帯状に形成された前記反射型マスクを保持する請求項4記載の投影露光装置。
  6. 第2反射型マスクに形成された第2パターンを第2感応基板上に投影露光する為に、前記第2反射型マスクと前記第2感応基板との間に前記第2パターンの中間像を形成する第3結像光学系と、該中間像を前記第2感応基板上に再結像する第4結像光学系とを有する第2投影光学系と、
    前記光分割器に入射した前記照明系からの照明光のうち、前記反射型マスクに向かわない照明光を導入して、前記第2反射型マスクの第2パターンを照明するための第2照明光を生成する第2照明系と、
    前記第3結像光学系と前記第4結像光学系との間の空間に配置され、前記第2照明系からの第2照明光が前記第3結像光学系を介して前記第2反射型マスクに向かうように導くとともに、前記第2反射型マスクのパターンからの結像光が前記第3結像光学系を介して前記第4結像光学系に向かうように導く第2光分割器と、
    を備える請求項1から5のいずれか一項に記載の投影露光装置。
  7. 前記反射型マスクのパターンと前記第2反射型マスクの第2パターンとを共に保持するマスク保持部を備え、
    前記第2感応基板は、前記感応基板であり、
    前記投影光学系の投影領域と前記第2投影光学系の投影領域とは、前記感応基板の移動方向に離間し、且つ前記移動方向と直交する方向に関して一部重複して配置される請求項6記載の投影露光装置。
  8. 回転可能な円筒マスクの周面に沿って形成された表示デバイス用の反射型のパターンを、可撓性の長尺シート基板の感応表面に連続的に繰り返し投影露光する投影露光装置であって、
    所定の曲率半径で湾曲した外周面を有し、該外周面に倣って前記シート基板を支持する基板支持部材と、
    前記円筒マスクと前記基板支持部材との間に、前記反射型のパターンの中間像を形成する第1結像光学系と、
    前記基板支持部材で支持された前記シート基板の感応表面上に、前記中間像を再結像する第2結像光学系と、
    前記円筒マスクの反射型のパターンを照明するための照明光を生成する照明系と、
    前記第1結像光学系と前記第2結像光学系との間の空間に配置され、前記照明系からの照明光が前記第1結像光学系を介して前記円筒マスクに向かうように導くとともに、前記反射型のパターンからの反射光が前記第1結像光学系を介して前記第2結像光学系に向かうように導く光分割器と、
    を備えた投影露光装置。
  9. 前記光分割器は、偏光ビームスプリッタを含む請求項8記載の投影露光装置。
  10. 前記基板支持部材は、前記外周面として所定の中心軸から一定半径の円筒面を有し、該中心軸の回りに回転可能な円筒ドラムで構成される請求項9記載の投影露光装置。
  11. 前記基板支持部材の外周面の曲率半径は0.5m〜無限大の任意の値に設定され、前記シート基板の感応表面を、湾曲面または平坦面にして支持する請求項9記載の投影露光装置。
  12. 請求項1から11のいずれか一項に記載の投影露光装置を用いて基板を露光することと、 露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6028350B2 (ja) * 2012-03-16 2016-11-16 株式会社ニコン 基板処理装置、デバイス製造システム及びデバイス製造方法
KR20180087385A (ko) * 2015-11-30 2018-08-01 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 시스템, 기판 처리 방법, 및 디바이스 제조 장치
EP3734170A4 (en) 2019-03-03 2021-06-09 GD Midea Air-Conditioning Equipment Co., Ltd. INDOOR AIR CONDITIONING UNIT AND AIR CONDITIONER

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3395801B2 (ja) * 1994-04-28 2003-04-14 株式会社ニコン 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
DE10005189A1 (de) * 2000-02-05 2001-08-09 Zeiss Carl Projektionsbelichtungsanlage mit reflektivem Retikel
JP2003241099A (ja) * 2002-12-02 2003-08-27 Nikon Corp 反射屈折投影光学系、並びに投影露光方法及び装置
EP1730596B1 (en) * 2004-03-30 2011-02-16 Carl Zeiss SMT AG Projection objective and projection exposure apparatus
JP4984631B2 (ja) * 2006-04-28 2012-07-25 株式会社ニコン 露光装置及び方法、露光用マスク、並びにデバイス製造方法
TWI481968B (zh) * 2006-09-08 2015-04-21 尼康股份有限公司 A mask, an exposure device, and an element manufacturing method
JP5282895B2 (ja) * 2009-03-06 2013-09-04 株式会社ニコン 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP5724564B2 (ja) * 2010-04-13 2015-05-27 株式会社ニコン マスクケース、マスクユニット、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法
JP5708179B2 (ja) * 2010-04-13 2015-04-30 株式会社ニコン 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法
JPWO2011129369A1 (ja) * 2010-04-13 2013-07-18 株式会社ニコン 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法

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