JP2010096809A - 液晶表示装置、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明にかかる液晶表示装置は、第1の基板(TFTアレイ基板10及び対向基板20のいずれか一方)と、第1の基板の対面に配置された第2の基板(TFTアレイ基板10及び対向基板20のいずれか他方)と、第1の基板と第2の基板との間に挟持された液晶30と、第1の基板の第2の基板側の面に形成され、第1の基板と第2の基板との間の基板間隔を保持する柱状スペーサ1と、を備え、柱状スペーサ1は、多孔質材からなるものである。
【選択図】 図2
Description
3 レジストパターン、10 TFTアレイ基板、
11 基板、12 配向膜、13 画素電極、
14 TFT、15 絶縁膜、16 端子電極、
17 トランスファ電極、20 対向基板、
21 基板、22 配向膜、23 共通電極、
24 着色層、25 遮光層、30 液晶、
31、32 偏光板、33 シール材、
34 トランスファ材、35 制御基板、
36 FFC、100 液晶表示装置、
101 柱状スペーサ、120 対向基板、
121 基板、122 配向膜、
122a 配向膜、122b 再付着異物、
123 共通電極、124 着色層
Claims (10)
- 第1の基板と、
前記第1の基板の対面に配置された第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持された液晶と、
前記第1の基板の前記第2の基板側の面に形成され、前記第1の基板と前記第2の基板との間の基板間隔を保持する柱状スペーサと、を備え、
前記柱状スペーサは、多孔質材からなる液晶表示装置。 - 前記多孔質材は、細孔径が数十〜数百nm、空隙率が50〜80%、比表面積が数十m2/gである請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記多孔質材は、配向膜材料を浸透する性質を有する請求項1又は2に記載の液晶表示装置。
- 前記多孔質材は、遮光性を有する材料である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記第1の基板に形成された遮光部をさらに有し、
前記柱状スペーサは、前記遮光部上に配置されている請求項1乃至4のいずれか1項に記載の液晶表示装置。 - 第1の基板と第2の基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置の製造方法であって、
前記第1の基板上に、前記第1の基板と前記第2の基板との間の基板間隔を保持する柱状スペーサを多孔質材によって形成する工程と、
前記柱状スペーサの設けられた前記第1の基板上に、配向膜を形成する工程と、
前記配向膜をラビングする工程と、を備える液晶表示装置の製造方法。 - 前記多孔質材は、細孔径が数十〜数百nm、空隙率が50〜80%、比表面積が数十m2/gである請求項6に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記多孔質材は、配向膜材料を浸透する性質を有する請求項6又は7に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記多孔質材は、遮光性を有する材料である請求項6乃至8のいずれか1項に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記柱状スペーサを形成する工程では、前記第1の基板に設けられた遮光部上に前記柱状スペーサを形成する請求項6乃至9のいずれか1項に記載の液晶表示装置の製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN114142271A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-03-04 | 胜蓝科技股份有限公司 | 一种ffc连接端子 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS61160719A (ja) * | 1985-01-09 | 1986-07-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示パネル作製方法 |
JP2000122071A (ja) * | 1998-10-13 | 2000-04-28 | Toshiba Corp | 液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法 |
JP2001133790A (ja) * | 1999-11-08 | 2001-05-18 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
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2008
- 2008-10-14 JP JP2008264913A patent/JP2010096809A/ja active Pending
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