JP2008292640A - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】歩留まり低下を抑制するとともに、表示品位に優れた表示装置及びその製造方法を提供すること
【解決手段】本発明にかかる表示装置は、対向基板20と、対向基板20の対面に配置されたアレイ基板10と、対向基板20と前記アレイ基板10との間に挟持された液晶30と、対向基板20のアレイ基板10側の面に形成され、対向基板20とアレイ基板10との間の基板間隔を保持する柱状スペーサ25と、を備え、アレイ基板10上の柱状スペーサ25に対向する箇所、又は柱状スペーサ25の頂面に、高さ0.3μm以下の段差部171が設けられ、柱状スペーサ25の頂面の中で段差部171の最も高い凸部171aが占める割合が1/2以下であるものである。
【選択図】 図2

Description

本発明は、表示装置及びその製造方法に関するものである。
液晶表示装置は、通常、上下一対の基板を、画像表示部外縁に形成されたシール材により貼り合わせ、その内部に液晶を封入するよう構成されている。これら基板間の間隔(パネルギャップ)を精度良く制御する方法として、一方の基板に柱状スペーサを形成する技術が知られている。
液晶表示装置のパネル内において、柱状スペーサの設置密度が低いと、パネルに加えられた外力に対して柱状スペーサが変形し易くなる。そのため、パネルギャップに変化が生じ、表示ムラが発生する。一方、柱状スペーサの設置密度が高いと、低温環境下において、液晶の体積収縮にパネルギャップが追従できなくなる。そして、パネル内の圧力が低下して液晶が発泡する、いわゆる低温発泡という現象が発生してしまう。
このような問題に対し、高さの異なる2種類の柱状スペーサを形成する方法が、特許文献1に開示されている(従来技術1)。図12は、従来技術1に係る液晶表示装置の断面図である。図12において、アレイ基板110とカラーフィルタ基板120とが互いに対向するように配置されている。そして、これら両基板の間には、液晶130が挟持されている。
アレイ基板110は、基板111の上にパターン層112が設けられている。パターン層112には、表示領域を形成する画素電極、走査信号線、及び映像信号線がそれぞれ絶縁膜を介して形成される。カラーフィルタ基板120は、基板121の上に着色層123が設けられている。着色層123の上には、ITO等の透明な対向電極124が形成される。そして、対向電極124の上に、高さの異なる柱状スペーサ125、126が設けられる。
柱状スペーサ125は、対向するアレイ基板110とのパネルギャップを決定している。一方、柱状スペーサ126は、柱状スペーサ125より高さが低く、アレイ基板110とのパネルギャップを保持していない。パネルに強い外力が加わり柱状スペーサ125が変形すると、柱状スペーサ126はアレイ基板110とのギャップ保持に加わるようになる。なお、アレイ基板110及びカラーフィルタ基板120の互いに対向する面には、配向膜119、129がそれぞれ形成されている。
また、特許文献1には、同じ高さの柱状スペーサを、総膜厚の異なる2箇所の領域に対向させる方法が開示されている(従来技術2)。図13は、従来技術2に係る液晶表示装置の断面図である。図13において、従来技術2のアレイ基板110には、パターン層112に段差部113が設けられている。段差部113では、膜厚の厚いパターン層112が形成されている。また、カラーフィルタ基板120には、同じ高さの柱状スペーサ127、128が設けられる。
柱状スペーサ127は、段差部113と対向する領域に形成されている。従って、パネルギャップは、段差部113と対向する柱状スペーサ127によって決定される。柱状スペーサ128は、段差部113の設けられていない領域と対向配置され、アレイ基板110とのパネルギャップを保持していない。パネルに強い外力が加わり柱状スペーサ127が変形すると、柱状スペーサ128はアレイ基板110とのギャップ保持に加わるようになる。
このように、従来技術1、2では、通常時には第1の柱状スペーサ125、127がパネルギャップを保持している。そして、強い外力が加えられた際には、第1の柱状スペーサ125、127に加えて第2の柱状スペーサ126、128によりパネルギャップが保持される。これにより、更なるパネルギャップ変動が抑制され、表示ムラを改善することができる。
特開2002−341354号公報
しかしながら、従来技術1、2では、通常の約2倍の数の柱状スペーサを設ける必要がある。そのため、柱状スペーサの形成、あるいはラビング等の工程において、歩留まり低下の要因となる。
また、低温発泡を回避するため、通常時ギャップ保持に係わる柱状スペーサ125、127は、直径10μm以下であることが好ましい。これは、直径が大きくなる程、柱状スペーサ125、127が変形し難くなるためであるが、同時に次のような問題が生じる。すなわち、直径10μm以下の細い柱状スペーサ125、127は、密着強度が低下してしまう。さらに、直径10μm以下の細い柱状スペーサ125、127は、その底面の大きさが頂面より小さい逆三角形状となり易い。従って、ラビングや洗浄等の工程で、柱状スペーサ125、127が剥離するリスクが高くなる。多数の柱状スペーサ125、127が剥がれると、例えば、点欠陥不良やギャップ不良となる。そして、液晶表示装置の表示品質が劣化し、歩留まりを低下させてしまう。
本発明は、上記のような問題点を鑑みてなされたものであり、歩留まり低下を抑制するとともに、表示品位に優れた表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明にかかる表示装置は、第1の基板と、前記第1の基板の対面に配置された第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持された表示材料と、前記第1の基板の前記第2の基板側の面に形成され、前記第1の基板と前記第2の基板との間の基板間隔を保持する柱状スペーサと、を備え、前記第2の基板上の前記柱状スペーサに対向する箇所、又は前記柱状スペーサの頂面に、高さ0.3μm以下の段差部が設けられ、前記柱状スペーサの頂面の中で前記段差部の最も高い段が占める割合が1/2以下であるものである。
本発明によれば、歩留まり低下を抑制するとともに、表示品位に優れた表示装置及びその製造方法を提供することができる。
実施の形態1.
始めに、図1を用いて、本実施の形態に係る表示装置について説明する。図1は、本実施の形態に係る液晶表示装置の断面図である。本実施の形態に係る表示装置は、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)を有するアクティブマトリクス型液晶表示装置を例として説明するが、TFT以外のスイッチング素子を用いてもよい。また、パッシブマトリクス型液晶表示装置とすることも可能である。なお、本発明は液晶表示装置に限られるものはない。すなわち、アレイ基板と、対向基板との間に、液晶や粒子や液体等の表示材料が設けられた表示装置であれば、適用可能である。
図1において、本実施の形態に係る液晶表示装置は、アレイ基板10と対向基板20とが互いに対向して配置されている。そして、これら両基板を貼り合わせるシール材34との間の空間に液晶30を封入した構成を有する。シール材34は液晶表示装置の表示領域を囲うように枠状に形成されている。
アレイ基板10は、基板11の上に表示領域を形成する画素電極16、走査信号線(不図示)、及び映像信号線(不図示)がそれぞれ絶縁膜15を介して形成されている。複数の走査信号線(ゲート配線)は平行に設けられている。同様に、複数の映像信号線(ソース配線)は平行に設けられている。走査信号線と映像信号線とは、互いに交差するように形成されている。走査信号線と映像信号線とは交差している。隣接する走査信号線と映像信号線とで囲まれた領域が画素となる。従って、画素が表示領域内にマトリクス状に配列される。この画素の略全域に画素電極16が形成されている。
走査信号線と映像信号線との交差点近傍には、スイッチング素子であるTFT14が形成される。TFT14は表示領域内にアレイ状に配列されている。TFT14は、映像信号線と同じ層で形成されたドレイン電極及びソース電極を備えている。ソース電極とドレイン電極とは、半導体層を介して接続されている。このTFT14を介して、映像信号線と画素電極16とが接続される。したがって、走査信号によってTFT14をオン状態にすることによって、映像信号線から画素電極16に表示信号が供給される。本実施の形態では、例えば、ボトムゲート型TFT14を用いることができる。
画素電極16上には、液晶30を配向させるための配向膜19が積層されている。基板11の外側には偏光板31が貼着されている。また、アレイ基板10上には、TFT14に供給する信号を外部から受け入れる端子37を有している。
対向基板20は、基板21のアレイ基板10と対向する面に、顔料あるいはクロム等の金属から成り光を遮光する遮光層22が形成されている。そして、遮光層22間を埋めるように顔料あるいは染料からなる着色層23が形成されている。着色層23は例えばR(赤)、G(緑)、B(青)のカラーフィルタである。さらに遮光層22および着色層23を覆うように、対向電極24が表示領域の略全面に形成されている。対向電極24は、アレイ基板10の画素電極16との間に電界を生じさせ、液晶30を駆動する。また、アレイ基板10の液晶30と接する面には、液晶30を配向させるための配向膜19が積層されている。
対向電極24の上には、柱状スペーサ(不図示)が形成されている。柱状スペーサは、柱状の突起物であり、アレイ基板10と対向基板20のパネルギャップを、均一に保持することができる。表示領域内において、複数の柱状スペーサが所定の間隔で配置されている。本実施の形態では、柱状スペーサの形状や設置箇所等に特徴を有しており、詳細については後述する。また、対向電極24及び柱状スペーサを覆うように、配向膜29が積層されている。なお、基板21の外側には偏光板32が貼着されている。
アレイ基板10と対向基板20は、シール材34を介して貼り合わされている。基板11、21としては、ガラス基板、石英ガラス等の透明な絶縁基板を用いることができる。シール材34は、例えば光硬化性及び熱硬化性のアクリル系樹脂やエポキシ系樹脂、または紫外線硬化性の樹脂を用いることができる。また、本実施の形態に係る液晶表示装置は、駆動信号を発生させる制御基板35、制御基板35を端子37に電気的に接続するFFC(Flexible Flat Cable)36、光源となるバックライトユニット(不図示)等を備えている。
このような液晶表示装置では、制御基板35から電気信号が入力されると、画素電極16及び対向電極24に駆動電圧が加わる。そして、駆動電圧に合わせて液晶30の分子の方向が変化する。バックライトユニットの発する光がアレイ基板10、液晶30、及び対向基板20を介して外部へ透過または遮断されることにより、液晶表示装置に映像等が表示される。すなわち、画素ごとに駆動電圧を変えることによって、所望の画像を表示することができる。
なお、液晶表示装置の動作モードは、TN(Twisted Nematic)モード、STN(Super Twisted Nematic)モード、強誘電性液晶モード等を用いることができる。また、対向基板20に設けた対向電極24をアレイ基板10側に配置し、画素電極16との間で液晶30に対して横方向に電界をかける横電界方式の液晶表示装置であってもよい。
次に、本実施の形態に係る柱状スペーサについて、図2及び図3を用いて詳細に説明する。図2は、実施の形態1に係る柱状スペーサ及びその周辺を拡大した断面模式図である。また、図3は、図2におけるアレイ基板10を模式的に示した上面図である。なお、図3では、説明の便宜上のため、対向基板20に設けられる柱状スペーサの外形を点線で記している。図2及び図3では、アレイ基板10には、走査信号線12が映像信号線の下に形成されているとして説明する。
図1と同様に、図2において、アレイ基板10と対向基板20とが互いに対向して配置されている。そして、これら両基板の間には、液晶30が挟持されている。対向基板20は、基板21の上に着色層23が設けられている。着色層23の上には、ITO等の透明な対向電極24が形成される。そして、対向電極24の上に、柱状スペーサ25が設けられる。柱状スペーサ25は、柱状の形状を有している。例えば、四角柱形、円錐台形、四角錘台形等が柱状スペーサ25の形状として適用可能であるが、ここでは円柱形とする。
アレイ基板10は、基板11の上に走査信号線12が設けられている。走査信号線12を覆うように、絶縁膜151が基板11全面に形成される。絶縁膜151は、例えばゲート絶縁膜である。この絶縁膜151の上には、図示しない箇所において映像信号線が設けられている。映像信号線は、さらに図示しない箇所において、絶縁膜151を介して走査信号線12と交差するように設けられている。本実施の形態では、映像信号線と同じ層によって形成された島状の分離パターン131が、走査信号線12の上に設けられている。分離パターン131は、映像信号線より離間して形成されており、例えば図3に示すように、円形の形状を有している。分離パターン131の形状は、特に限定されるものではない。
ここで、分離パターン131は、柱状スペーサ25の対面に配置される位置に形成される。具体的には、図3に示す上面図において、柱状スペーサ25の側面より内側の領域内に、分離パターン131が形成されている。すなわち、分離パターン131は、柱状スペーサ25のアレイ基板10と対向する側の対向面(頂面)からはみ出すことなく、内包される。分離パターン131が柱状スペーサ25頂面の中心点を含むように配設されていることが好ましい。また、分離パターン131の面積は、後述する段差部171の凸部171aが柱状スペーサ25頂面の面積の1/2以下となる範囲内で決定されている。
分離パターン131及び映像信号線の上には、さらに絶縁膜152が基板11全面に形成されている。絶縁膜152は、例えば、層間絶縁膜である。なお、アレイ基板10及び対向基板20の液晶30と接する側の面には、それぞれ配向膜19、29が設けられている。また、図2及び図3には図示しないが、図1に示すように、適宜、画素電極16が配向膜19と絶縁膜152の間に形成される。このとき、絶縁膜152及び配向膜19は分離パターン131を覆うように設けられ、段差部171を形成する。段差部171は、分離パターン131上に設けられた凸部171aと、それ以外の領域に設けられた基部171bとによって構成される。すなわち、アレイ基板10上の柱状スペーサ25と対向する領域のうち、凸部171aでは、基部171bよりアレイ基板10上の総膜厚が厚くなっており、柱状スペーサ25と対向する領域の中で最も高い段となる。なお、凸部171aと基部171bとの境界は、図3に示すように、分離パターン131よりひとまわり大きくなっている。
従って、柱状スペーサ25は、その一部の領域において段差部171の凸部171aと対向し、アレイ基板10と対向基板20との間のパネルギャップを決定する。一方、段差部171の基部171bと対向する領域の柱状スペーサ25は、アレイ基板10とのパネルギャップを保持していない。
パネルに外力が加わると、凸部171aと対向する領域の柱状スペーサ25に弾性変形が生じて、パネルギャップを小さくする。パネルに加わる外力が強くなると、段差部171の基部171bにおいて生じていた柱状スペーサ25とアレイ基板10との隙間が徐々に狭くなっていく。そして、この隙間がなくなる程度の外力が加わったとき、基部171bと対向する柱状スペーサ25がギャップ保持に加わるようになる。これにより、柱状スペーサ25頂面の略全体でギャップを保持するようになるので、更なるパネルギャップ変動が抑制される。
液晶表示装置では、局所的なパネルギャップ変動が0.3μmを越えると、許容できないレベルの表示ムラとして視認される。従って、柱状スペーサ25頂面と対向する領域に設けられた段差部171の高さは、0μmより大きく、0.3μm以下であることが好ましい。すなわち、凸部171aと基部171bの高さの差が0.3μm以下となる。例えば、ここでは、映像信号線は膜厚0.25μmの薄膜により形成されていて、0.25μmの段差部171が設けられているとする。
このとき、段差部171の凸部171aが占める面積は、柱状スペーサ25頂面の面積の1/2以下である必要がある。これは、柱状スペーサ25頂面のうち、凸部171aと対向する領域がそれ以外の基部171bと対向する領域より大きい場合、低温環境下において、液晶30の体積収縮にパネルギャップが追従できなくなる。そして、パネル内の圧力が低下して液晶が発泡(低温発泡)してしまうからである。従って、分離パターン131の面積は、柱状スペーサ25頂面の面積の1/2以下の凸部171aが形成される範囲内で決定される。本実施の形態では、凸部171aは、柱状スペーサ25の頂面からはみ出すことなく、内包されている。凸部171aは柱状スペーサ25頂面の中心を含むように配設されていることが好ましい。
続いて、本実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。まず初めに、基板11上に走査信号線12、映像信号線、及び画素電極16等の複数の電極をこの順に形成する。これらの電極は、公知の成膜、フォトリソグラフィ法、エッチング、レジスト除去の工程を経てパターニングされる。また、TFT14を構成する半導体層を、フォトリソグラフィ法を用いて形成する。これらの電極間には、絶縁膜15を基板11全面に成膜する。走査信号線12を形成する際、TFT14のゲート電極を同時に形成する。また、映像信号線を形成する際、分離パターン131を同時に形成する。このとき、絶縁膜15を介した走査信号線12の上に、分離パターン131を設けることが好ましい。さらに、TFT14の半導体層と接続するソース電極及びドレイン電極を、映像信号線と同時に形成する。
このように複数の電極が形成された基板11上に、転写法等により配向膜19を形成する。例えば、配向膜19として、高分子材料であるポリイミド(Polyimide)薄膜等の有機薄膜を用いる。次に、配向膜19に熱を加え硬化させた後、この配向膜に対して、液晶30との接触面に一方向にミクロな傷をつける配向処理(ラビング処理)を施す。ナイロン系のラビング布を装着したローラー等を用いてラビング処理を行う。以上のような工程を経て、分離パターン131上に凸部171aが形成され、段差部171を有するアレイ基板10が形成される。
別の基板21上に、フォトリソグラフィ法により遮光層22を形成する。遮光層22は
顔料を含む樹脂あるいはクロム等の金属を用いることができる。遮光層22の上から遮光層22間を埋めるように、着色層23をフォトリソグラフィ法により形成する。着色層23は、顔料あるいは染料からなる感光性樹脂を用いることができる。そして、遮光層22及び着色層23を覆うように、対向電極24を基板21の略全面に形成する。対向電極24として、ITO等からなる透明導電膜が用いられる。
対向電極24の上に、柱状スペーサ25となるフォトレジストを塗布する。そして、公知のフォトリソグラフィ法を用いて、フォトレジストをパターニングし、柱状スペーサ25を形成する。このとき、後述するパネル貼り合わせ工程において、アレイ基板10の段差部171と対向する位置に、柱状スペーサ25を形成しておく。このように柱状スペーサ25が設けられた対向基板20上に、アレイ基板10と同様、配向膜29を形成し、ラビング処理を行う。以上のような工程を経て、柱状スペーサ25を有する対向基板20が形成される。
次に、アレイ基板10あるいは対向基板20のいずれか片方の基板にシール材34を塗布する。アレイ基板10又は対向基板20の外周縁に、液晶注入口となる一部を除いて、枠状のシール材34を形成する。そして、アレイ基板10及び対向基板20を、配向膜19、29が形成された面を互いに対向させた状態で、シール材34により貼り合わせる。このとき、柱状スペーサ25頂面が段差部171の凸部171aを内包する位置となるように、アレイ基板10と対向基板20とを貼り合わせる。これにより、柱状スペーサ25と段差部171の凸部171aとが対向配置され、対向基板20とアレイ基板10との間のパネルギャップが決定される。
その後、アレイ基板10と対向基板20の間であってシール材34により囲われた空間に、液晶30を注入する。具体的には、液晶注入口を液晶に浸漬して、アレイ基板10、対向基板20、及びシール材34により囲われた空間に、毛細管現象により液晶30を注入する(汲み上げ方式またはディップ式)。そして、液晶注入口を封止材により封止して、封止材を硬化させることにより、液晶30を閉空間内に密封する。なお、この汲み上げ方式のほかに、液晶30を滴下して、アレイ基板10、対向基板20、及びシール材34により囲われた閉空間に、液晶30を密封することもできる(滴下式またはディスペンサ式)。
次に、アレイ基板10及び対向基板20の外側に、偏光板31、32を貼着する。そして、制御基板35を実装して、バックライトユニット等を取り付ける。以上の工程を経て、本実施の形態に係る液晶表示装置が完成する。
このように、本実施の形態では、柱状スペーサ25と対向する領域に、分離パターン131を設けることによって段差部171を形成する。段差部171は、高さ0.3μm以下で、柱状スペーサ25頂面の1/2以下の面積を有する。そして、段差部171の凸部171aを柱状スペーサ25の頂面に内包させるように、アレイ基板10と対向基板20とを貼り合わせる。すなわち、通常時にパネルギャップを保持する凸部171aと、強い外力が加えられた際にパネルギャップの保持に加わる基部171bとが、1つの柱状スペーサ25に対向して配置される。このような構成により、直径10μm以下の細い柱状スペーサを形成する必要がなくなるため、柱状スペーサの密着強度が向上し、剥がれを抑制することができる。従って、液晶表示装置の表示品位を向上させることができる。また、柱状スペーサの設置数を増やす必要がなくなるので、歩留まり低下を抑制することができる。
また、低温環境下では、段差部171の凸部171aと対向する領域の柱状スペーサ25が弾性変形する。従って、液晶30の体積減少に追従してギャップを小さくすることができ、低温発泡を防止することができる。パネルに強い外力が加えられた場合、凸部171aと対向する領域の柱状スペーサ25に加え、基部171bと対向しない領域の柱状スペーサ25がギャップ保持に加わるようになる。従って、更なるパネルギャップ変動が抑制され、表示ムラを改善することができる。
なお、柱状スペーサ25周辺では、液晶30の配向が乱れるため、光漏れとなる。本実施の形態では、柱状スペーサ25は、の走査信号線12上からはみ出さないように配置されている。従って、段差部171及び分離パターン131を走査信号線12の上に形成している。このように、画素となる開口部以外の領域に柱状スペーサ25を配置することで、光漏れによる表示品位の低下を防ぐことができる。
実施の形態2.
本実施の形態に係る液晶表示装置を図4及び図5により説明する。図4は、実施の形態2に係る柱状スペーサ及びその周辺を拡大した断面模式図である。また、図5は、図4におけるアレイ基板10を模式的に示した上面図である。なお、図5では、説明の便宜上のため、対向基板20に設けられる柱状スペーサの外形を点線で記している。本実施の形態では、柱状スペーサ25の設置される箇所が実施の形態1と異なっていて、それ以外の構成は実施の形態1と同様であるため説明を省略する。
図4及び図5において、図1〜図3と同じ構成部分については同一の符号を付し、差異について説明する。図4において、アレイ基板10の基板11の上には、走査信号線12が設けられている。走査信号線12を覆うように、絶縁膜151が基板11全面に形成される。この絶縁膜151を介して走査信号線12と交差するように、映像信号線13が形成されている。本実施の形態では、映像信号線13から延在された延在パターン132が走査信号線12の上に設けられている。延在パターン132は、走査信号線12との交差点付近から延在されて形成されており、例えば図5に示すように、パターン先端部は略半円状の形状を有している。延在パターン132の形状は、特に限定されるものではない。
ここで、延在パターン132は、映像信号線13から、柱状スペーサ25の対面に配置される位置まで延在されて形成される。すなわち、図5に示す上面図において、延在パターン132は、柱状スペーサ25の端辺をまたぐように形成され、延在パターン132の一部が柱状スペーサ25と重複する。柱状スペーサ25と重複する延在パターン132の面積は、後述する段差部172の凸部172aが柱状スペーサ25頂面の面積の1/2以下となる範囲内で決定されている。延在パターン132は、柱状スペーサ25頂面の中心点に対向するアレイ基板10上の位置に向かって、映像信号線13から延在されることが好ましい。
延在パターン132及び映像信号線13の上には、さらに絶縁膜152が基板11全面に形成されている。さらに、この上には配向膜19が積層される。このように、延在パターン132上では、絶縁膜152及び配向膜19が延在パターン132を覆うように設けられ、段差部172を形成する。段差部172は、延在パターン132上に設けられた凸部172aと、それ以外の領域に設けられた基部172bとによって構成される。すなわち、柱状スペーサ25と対向するアレイ基板10上の領域のうち、凸部172aでは、基部172bよりアレイ基板10上の総膜厚が厚くなっており、柱状スペーサ25と対向する領域の中で最も高い段となる。なお、凸部172aと基部172bとの境界は、図5に示すように、延在パターン132よりひとまわり大きくなっている。従って、柱状スペーサ25は、その一部の領域において段差部172の凸部172aと対向し、アレイ基板10と対向基板20との間のパネルギャップを決定する。一方、段差部172の基部172bと対向する領域の柱状スペーサ25は、アレイ基板10とのパネルギャップを保持していない。
実施の形態1と同様に、本実施の形態では、柱状スペーサ25と重複する段差部172の凸部172aの面積は、柱状スペーサ25頂面の面積の1/2以下とする。従って、延在パターン132の大きさは、柱状スペーサ25頂面の面積の1/2以下の凸部172aが形成される範囲内で決定される。また、柱状スペーサ25頂面と対向する領域に設けられた段差部172の高さは、0μmより大きく、0.3μm以下であることが好ましい。すなわち、凸部172aと基部172bの高さの差が0.3μm以下となる。例えば、実施の形態1と同様に、ここでは0.25μmの段差部172が設けられているとする。
このような構成の液晶表示装置は、実施の形態1の分離パターン131の代わりに延在パターン132を形成し、アレイ基板10上に段差部172を設ける。そして、柱状スペーサ25頂面の1/2以下の面積で、段差部172の凸部172aと柱状スペーサ25が重複するように、アレイ基板10と対向基板20を貼り合わせればよい。それ以外の工程については実施の形態1と同様であるため説明を省略する。従って、凸部172aと柱状スペーサ25とを、柱状スペーサ25頂面の1/2以下の面積で重複させるために、延在パターン132の寸法、柱状スペーサ25の位置等を、予め考慮して形成しておく必要がある。
このように、本実施の形態では、柱状スペーサ25と対向する領域に、映像信号線13から延在パターン132を延在して高さ0.3μm以下の段差部172を形成する。そして、段差部172の凸部172aを柱状スペーサ25の頂面に1/2以下の面積で重複させるように、アレイ基板10と対向基板20とを貼り合わせる。すなわち、通常時にパネルギャップを保持する凸部172aと、強い外力が加えられた際にパネルギャップの保持に加わる基部172bとが、1つの柱状スペーサ25に対向して配置される。凸部172aが、柱状スペーサ25の端部を横切るように配置されている。このような構成により、実施の形態1と同様、細い柱状スペーサを形成する必要がなくなるため、柱状スペーサの密着強度が向上し、剥がれを抑制することができる。従って、液晶表示装置の表示品位を向上させることができる。また、柱状スペーサの設置数を増やす必要がなくなるので、歩留まり低下を抑制することができる。
また、低温環境下では、段差部172の凸部172aと対向する領域の柱状スペーサ25が弾性変形する。従って、液晶30の体積減少に追従してギャップを小さくすることができ、低温発泡を防止することができる。パネルに強い外力が加えられた場合、凸部172aと対向する領域の柱状スペーサ25に加え、基部172bと対向しない領域の柱状スペーサ25がギャップ保持に加わるようになる。従って、更なるパネルギャップ変動が抑制され、表示ムラを改善することができる。
実施の形態3.
本実施の形態に係る液晶表示装置を図6及び図7により説明する。図6は、実施の形態3に係る柱状スペーサ及びその周辺を拡大した断面模式図である。また、図7は、図6におけるアレイ基板10を模式的に示した上面図である。なお、図7では、説明の便宜上のため、対向基板20に設けられる柱状スペーサの外形を点線で記している。本実施の形態では、柱状スペーサ25の設置される箇所が実施の形態1、2と異なっていて、それ以外の構成は実施の形態1と同様であるため説明を省略する。
図6及び図7において、図1〜図3と同じ構成部分については同一の符号を付し、差異について説明する。図6において、アレイ基板10の基板11の上には、走査信号線12が設けられている。走査信号線12を覆うように、絶縁膜151が基板11全面に形成される。この絶縁膜151を介して走査信号線12と交差するように、映像信号線13が形成されている。そして、本実施の形態では、映像信号線13が柱状スペーサ25の一部と重複するように対向配置される。具体的には、図7に示す上面図において、柱状スペーサ25が映像信号線13の端辺をまたぐように配設される。本実施の形態では、分離パターン131や延在パターン132は形成されない。図7に示すように、映像信号線13と走査信号線12とが交差する交差部における映像信号線13の端辺を横切るように、柱状スペーサ25を配置することが好ましい。
映像信号線13の上には、さらに絶縁膜152が基板11全面に形成されている。さらに、この上には配向膜19が積層される。このように、映像信号線13上では、絶縁膜152及び配向膜19が映像信号線13を覆うように設けられ、段差部173を形成している。段差部173は、映像信号線13上に設けられた凸部173aと、それ以外の領域に設けられた基部173bとによって構成される。すなわち、柱状スペーサ25と対向するアレイ基板10上の領域のうち、凸部173aでは、基部173bよりアレイ基板10上の総膜厚が厚くなっており、柱状スペーサ25と対向する領域の中で最も高い段となる。なお、凸部173aと基部173bとの境界は、図7に示すように、映像信号線13よりひとまわり大きくなっている。従って、柱状スペーサ25は、その一部の領域において段差部173の凸部173aと対向し、アレイ基板10と対向基板20との間のパネルギャップを決定する。一方、段差部173の基部173bと対向する領域の柱状スペーサ25は、アレイ基板10とのパネルギャップを保持していない。
実施の形態1と同様に、本実施の形態では、柱状スペーサ25と重複する段差部173の凸部173aの面積は、柱状スペーサ25頂面の面積の1/2以下とする。また、柱状スペーサ25頂面と対向する領域に設けられた段差部173の高さは、0μmより大きく、0.3μm以下であることが好ましい。すなわち、凸部173aと基部173bの高さの差が0.3μm以下となる。例えば、実施の形態1と同様に、ここでは0.25μmの段差部173が設けられているとする。
このような構成の液晶表示装置は、実施の形態1の分離パターン131は形成せずに、映像信号線13によりアレイ基板10上に段差部173を設ける。そして、柱状スペーサ25頂面の1/2以下の面積で、段差部173の凸部173aと柱状スペーサ25が重複するように、アレイ基板10と対向基板20を貼り合わせればよい。それ以外の工程については実施の形態1と同様であるため説明を省略する。従って、凸部173aと柱状スペーサ25とを、柱状スペーサ25頂面の1/2以下の面積で重複させるために、柱状スペーサ25の位置、映像信号線13の寸法及び位置等を、予め考慮して形成しておく必要がある。
このように、本実施の形態では、柱状スペーサ25と対向する領域に、映像信号線13によって高さ0.3μm以下の段差部173を形成する。そして、段差部173の凸部173aを柱状スペーサ25の頂面に1/2以下の面積で重複させるように、アレイ基板10と対向基板20とを貼り合わせる。すなわち、通常時にパネルギャップを保持する凸部173aと、強い外力が加えられた際にパネルギャップの保持に加わる基部173bとが、1つの柱状スペーサ25に対向して配置される。凸部173aが、柱状スペーサ25の端部を横切るように配置されている。このような構成により、実施の形態1と同様、細い柱状スペーサを形成する必要がなくなるため、柱状スペーサの密着強度が向上し、剥がれを抑制することができる。従って、液晶表示装置の表示品位を向上させることができる。また、柱状スペーサの設置数を増やす必要がなくなるので、歩留まり低下を抑制することができる。
また、低温環境下では、段差部173と対向する領域の柱状スペーサ25が弾性変形する。従って、液晶30の体積減少に追従してギャップを小さくすることができ、低温発泡を防止することができる。パネルに強い外力が加えられた場合、段差部173と対向する領域の柱状スペーサ25に加え、段差部173と対向しない領域の柱状スペーサ25がギャップ保持に加わるようになる。従って、更なるパネルギャップ変動が抑制され、表示ムラを改善することができる。なお、柱状スペーサ25により液晶30の配向が乱れるため、柱状スペーサ25は、走査信号線12上の段差部173、すなわち走査信号線12と映像信号線13との交差部における段差部173と対向配置させることが好ましい。
実施の形態4.
本実施の形態に係る液晶表示装置を図8及び図9により説明する。図8は、実施の形態4に係る柱状スペーサ及びその周辺を拡大した断面模式図である。また、図9は、図8におけるアレイ基板10を模式的に示した上面図である。なお、図9では、説明の便宜上のため、対向基板20に設けられる柱状スペーサの外形を点線で記している。本実施の形態では、柱状スペーサの形状及び設置される箇所が実施の形態1〜3と異なっていて、それ以外の構成は実施の形態1と同様であるため説明を省略する。
図8及び図9において、図1〜図3と同じ構成部分については同一の符号を付し、差異について説明する。図8において、アレイ基板10の基板11の上には、走査信号線12が設けられている。走査信号線12を覆うように、絶縁膜151が基板11全面に形成される。この絶縁膜151を介して走査信号線12と交差するように、図示しない箇所において映像信号線が形成されている。映像信号線13の上には、さらに絶縁膜152が基板11全面に形成されている。さらに、この上には配向膜19が積層される。実施の形態1と異なり、本実施の形態では、分離パターン131や延在パターン132は形成されない。従って、このように他の層によるパターンが設けられない走査信号線12上の領域では、段差部が形成されず、その総膜厚はほぼ均一となっている。
この走査信号線12と対向する領域の対向基板20上に、柱状スペーサ26が形成されている。柱状スペーサ26は、図9に示す上面図において、走査信号線12からはみ出すことなく、内包されるように配置される。また、本実施の形態では、柱状スペーサ26は、突起部26aと、突起部26aより高さの低い基部26bとによって構成されている。図9において、柱状スペーサ26の半分より右側の領域に突起部26a、それ以外の領域に基部26bが設けられている。本実施の形態では、突起部26aは、柱状スペーサ26の端部に設けられる。突起部26aにより、柱状スペーサ26頂面に段差が生じる。そして、図9に示すように、柱状スペーサ26の断面は階段状になっており、突起部26aは柱状スペーサ26頂面の中で最も高い段となる。このとき、低温発泡を防止するため、柱状スペーサ26の突起部26aは、その頂面が基部26b頂面の面積以下となる面積を有している。すなわち、突起部26aの頂面は、柱状スペーサ26頂部の1/2以下の面積となっている。また、表示ムラを抑制するため、突起部26aと基部26bとの段差は、0μmより大きく、0.3μm以下であることが好ましい。すなわち、突起部26aと基部26bの高さの差が0.3μm以下となる。ここでは、例えば0.2μmの段差が設けられた柱状スペーサ26を形成することとする。
従って、柱状スペーサ26は、その突起部26aがアレイ基板と対向し、アレイ基板10と対向基板20との間のパネルギャップを決定する。一方、柱状スペーサ26の基部26bは、アレイ基板10とのパネルギャップを保持していない。パネルに外力が加わると、突起部26aの柱状スペーサ26に弾性変形が生じて、パネルギャップを小さくする。パネルに加わる外力が強くなると、基部26bにおいて生じていた対向基板20とアレイ基板10との隙間が徐々に狭くなっていく。そして、この隙間がなくなる程度の外力が加わったとき、基部26bの柱状スペーサ26がギャップ保持に加わるようになる。これにより、柱状スペーサ26頂面の略全体でギャップを保持するようになるので、更なるパネルギャップ変動が抑制される。
このような構成の液晶表示装置は、複数階調露光技術を用いて柱状スペーサ26を形成する。具体的には、対向基板20の対向電極24の上に、柱状スペーサ26となるフォトレジストを塗布する。そして、このフォトレジストに、露光部、中間露光部、及び遮光部を有するフォトマスクを用いて複数階調露光を行う。柱状スペーサ26の基部26bを形成する領域のフォトマスクには、中間露光部を設けておく。このようなフォトマスクは、ハーフトーンマスクやグレイトーンマスクが知られている。ハーフトーンマスクの中間露光部には、露光に用いる波長領域(通常350〜450nm)の光の透過量を減少させるような半透過膜が形成される。グレイトーンマスクの中間露光部には、光回折現象を利用しながら露光量を減少させるために、露光機の解像度以下のスリットパターンが設けられる。
このようなフォトマスクを用いて露光した後、現像する。これにより、突起部26a及び基部26bが同時にパターニングされ、段差を有する柱状スペーサ26が形成される。なお、複数階調露光技術を用いずに、2枚のフォトマスクを用いて2回露光して、柱状スペーサ26を形成してもよい。また、本実施の形態では、アレイ基板10上には実施の形態1の分離パターン131は形成しない。そして、柱状パターン26が他の層によるパターンが設けられない走査信号線12上の領域に内包されるように、アレイ基板10と対向基板20を貼り合わせればよい。それ以外の工程については実施の形態1と同様であるため説明を省略する。
このように、本実施の形態では、突起部26a及び基部26bを有する柱状スペーサ26を形成する。突起部26aは、基部26bとの段差が0.3μm以下で、柱状スペーサ26頂面の1/2以下の面積を占めるように形成される。柱状パターン26を、他の層によるパターンが設けられない走査信号線12上の領域に内包させるように、アレイ基板10と対向基板20を貼り合わせる。すなわち、通常時にパネルギャップを保持する突起部26aと、強い外力が加えられた際にパネルギャップの保持に加わる基部26bとが、1つの柱状スペーサ26に含まれる。このような構成により、実施の形態1と同様、細い柱状スペーサを形成する必要がなくなるため柱状スペーサの、密着強度が向上し、剥がれを抑制することができる。従って、液晶表示装置の表示品位を向上させることができる。また、柱状スペーサの設置数を増やす必要がなくなるので、歩留まり低下を抑制することができる。
また、低温環境下では、突起部26aの柱状スペーサ26が弾性変形する。従って、液晶30の体積減少に追従してギャップを小さくすることができ、低温発泡を防止することができる。パネルに強い外力が加えられた場合、突起部26aに加え、基部26bの柱状スペーサ26がギャップ保持に加わるようになる。従って、更なるパネルギャップ変動が抑制され、表示ムラを改善することができる。
実施の形態5.
本実施の形態に係る液晶表示装置を図10及び図11により説明する。図10は、実施の形態5に係る柱状スペーサ及びその周辺を拡大した断面模式図である。また、図11は、図10におけるアレイ基板10を模式的に示した上面図である。なお、図11では、説明の便宜上のため、対向基板20に設けられる柱状スペーサの外形を点線で記している。本実施の形態では、柱状スペーサの形状が実施の形態4と異なっていて、それ以外の構成は実施の形態4と同様であるため説明を省略する。
図10及び図11において、図8及び図9と同じ構成部分については同一の符号を付し、差異について説明する。実施の形態4と同様に、走査信号線12と対向する領域の対向基板20上に、柱状スペーサ27が形成されている。柱状スペーサ27は、突起部27aと、突起部27aより高さの低い基部27bとによって構成されている。本実施の形態では、図11に示すように、柱状スペーサ27の中央部付近に突起部27aが設けられている。そして、突起部27aの周囲、すなわち柱状スペーサ27の外周部に、基部27bが設けられている。突起部27aにより、柱状スペーサ27頂面に段差が生じる。そして、図11に示すように、柱状スペーサ27の断面は階段状になっており、突起部27aは柱状スペーサ27頂面の中で最も高い段となる。このとき、低温発泡を防止するため、柱状スペーサ27の突起部27aは、その頂面が基部27b頂面の面積以下となる面積を有している。すなわち、突起部27aの頂面は、柱状スペーサ27頂部の1/2以下の面積となっている。また、表示ムラを抑制するため、突起部27aと基部27bとの膜厚差は、0μmより大きく、0.3μm以下であることが好ましい。すなわち、突起部27aと基部27bの高さの差が0.3μm以下となる。ここでは、例えば0.2μmの段差が設けられた柱状スペーサ27を形成することとする。
このような構成の液晶表示装置は、実施の形態4と同様、複数階調露光技術を用いて柱状スペーサ27を形成する。これにより、突起部27a及び基部27bが同時にパターニングされ、段差を有する柱状スペーサ27が形成される。
このように、本実施の形態では、突起部27a及び基部27bを有する柱状スペーサ27を形成する。突起部27aは、基部27bとの段差が0.3μm以下で、柱状スペーサ27頂面の1/2以下の面積を占めるように形成される。柱状パターン27を、他の層によるパターンが設けられない走査信号線12上の領域に内包させるように、アレイ基板10と対向基板20を貼り合わせる。すなわち、通常時にパネルギャップを保持する突起部27aと、強い外力が加えられた際にパネルギャップの保持に加わる基部26bとが、1つの柱状スペーサ27に含まれる。このような構成により、実施の形態4と同様、細い柱状スペーサを形成する必要がなくなるため、柱状スペーサの密着強度が向上し、剥がれを抑制することができる。従って、液晶表示装置の表示品位を向上させることができる。また、柱状スペーサの設置数を増やす必要がなくなるので、歩留まり低下を抑制することができる。
また、低温環境下では、突起部27aの柱状スペーサ27が弾性変形する。従って、液晶30の体積減少に追従してギャップを小さくすることができ、低温発泡を防止することができる。パネルに強い外力が加えられた場合、突起部27aに加え、基部27bの柱状スペーサ27がギャップ保持に加わるようになる。従って、更なるパネルギャップ変動が抑制され、表示ムラを改善することができる。
なお、実施の形態1〜5では、着色層23上に対向電極24を介して柱状スペーサを形成する場合について例示的に説明をしたが、遮光層22上に配置することも可能である。また、走査信号線12と対向する領域の対向基板20上に柱状スペーサを形成したが、これに限定されるものではない。同様に、実施の形態1〜3では、段差部は、映像信号線13、あるいは映像信号線13と同一層のパターンによって形成する例について説明したが、アレイ基板10を構成する映像信号線13以外の走査信号線12、半導体層等の層のパターンによって形成してもよい。走査信号線12、映像信号線13、半導体層等、アレイ基板10上に形成される薄膜の積層される順番についても、特に限定されるものではない。
さらに、柱状スペーサは、対向基板20上だけでなく、アレイ基板10側に設けることも可能である。この場合、段差部は、対向基板20を構成する層によって形成する。段差部を形成するために設けられたパターンは、一層のみに限らず、複数の層のパターンを積層して段差部を形成してもよい。このようなパターンは、段差部を形成するものであればその形状は限定されない。段差部を構成する凸部の側面がテーパー状であってもよい。同様に、柱状スペーサ頂部に形成する突起部についても、その形状は限定されるものではない。突起部の側面がテーパー状であってもよい。
なお、実施の形態1〜3では、アレイ基板の段差部に1つの凸部を設ける場合について説明したが、複数設けられていてもよい。その場合、複数の凸部(段)のうち、最も高い段の占める面積が柱状スペーサ頂部面積の1/2以下、且つ、基部からの高さが0.3μm以下とする。ここで、基部は、柱状スペーサと対向する領域の中で、最も高い段の隣接する段とする。さらには、柱状スペーサと対向する領域の中で、最も低い段を基部とすることが好ましい。同様に、実施の形態4、5では、柱状スペーサに複数の突起部が設けられていてもよい。複数の突起部(段)のうち、最も高い段の占める面積が柱状スペーサ頂部面積の1/2以下、且つ、基部からの高さが0.3μm以下とする。
以上の説明は、本発明の実施の形態を説明するものであり、本発明が以上の実施の形態に限定されるものではない。また、当業者であれば、以上の実施の形態の各要素を、本発明の範囲において、容易に変更、追加、変換することが可能である。
本実施の形態に係る液晶表示装置の断面図である。 実施の形態1に係る柱状スペーサ及びその周辺を拡大した断面模式図である。 図2におけるアレイ基板を模式的に示した上面図である。 実施の形態2に係る柱状スペーサ及びその周辺を拡大した断面模式図である。 図4におけるアレイ基板を模式的に示した上面図である。 実施の形態3に係る柱状スペーサ及びその周辺を拡大した断面模式図である。 図6におけるアレイ基板を模式的に示した上面図である。 実施の形態4に係る柱状スペーサ及びその周辺を拡大した断面模式図である。 図8におけるアレイ基板を模式的に示した上面図である。 実施の形態5に係る柱状スペーサ及びその周辺を拡大した断面模式図である。 図10におけるアレイ基板を模式的に示した上面図である。 従来技術1に係る液晶表示装置の断面図である。 従来技術2に係る液晶表示装置の断面図である。
符号の説明
10 アレイ基板、11 基板、12 走査信号線、
13 映像信号線、14 TFT、15 絶縁膜、16 画素電極、
19 配向膜、20 対向基板、21 基板、22 遮光層、
23 着色層、24 対向電極、25、26 柱状スペーサ、
26a 突起部、26b 基部、27 柱状スペーサ、
27a 突起部、27b 基部、29 配向膜、30 液晶、
31、32 偏光板、34 シール材、35 制御基板、37 端子、
110 アレイ基板、111 基板、112 パターン層、
113 段差部、119 配向膜、120 カラーフィルタ基板、
121 基板、123 着色層、124 対向電極、
125、126、127、128 柱状スペーサ、129 配向膜、
130 液晶、131 分離パターン、132 延在パターン、
171 段差部、171a 凸部、171b 基部、
172 段差部、172a 凸部、172b 基部、
173 段差部、173a 凸部、173b 基部

Claims (9)

  1. 第1の基板と、
    前記第1の基板の対面に配置された第2の基板と、
    前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持された表示材料と、
    前記第1の基板の前記第2の基板側の面に形成され、前記第1の基板と前記第2の基板との間の基板間隔を保持する柱状スペーサと、を備え、
    前記第2の基板上の前記柱状スペーサに対向する箇所、又は前記柱状スペーサの頂面に、高さ0.3μm以下の段差部が設けられ、前記柱状スペーサの頂面の中で前記段差部の最も高い段が占める割合が1/2以下である表示装置。
  2. 前記段差部は、前記第2の基板を構成する層のうち、少なくとも1つの層のパターンによって、前記第2の基板上に形成されている請求項1に記載の表示装置。
  3. 前記第2の基板は、走査信号線、及び前記走査信号線と絶縁膜を介して交差する映像信号線を有するアレイ基板であり、
    前記段差部は、前記走査信号線、前記映像信号線、半導体層の少なくとも一つから分離された分離パターンによって形成される請求項2に記載の表示装置。
  4. 前記第2の基板は、走査信号線、及び前記走査信号線と絶縁膜を介して交差する映像信号線を有するアレイ基板であり、
    前記段差部は、前記走査信号線、前記映像信号線、半導体層の少なくとも一つから延在された延在パターンによって形成される請求項2に記載の表示装置。
  5. 前記第2の基板は、走査信号線、及び前記走査信号線と絶縁膜を介して交差する映像信号線を有するアレイ基板であり、
    前記段差部は、前記走査信号線と前記映像信号線との交差部によって形成される請求項2に記載の表示装置。
  6. 前記段差部は、前記柱状スペーサの頂面に設けられた突起部によって形成される請求項1に記載の表示装置。
  7. 第1の基板と第2の基板との間に表示材料が設けられた表示装置の製造方法であって、
    前記第1の基板上に柱状スペーサを形成する工程と、
    前記第2の基板上に、複数の薄膜を形成し、高さ0.3μm以下の段差部を形成する工程と、
    前記第1の基板の前記柱状スペーサが形成された面と、前記第2の基板の前記段差部が形成された面とが対向し、且つ、前記柱状スペーサの頂面の中で前記段差部の最も高い段が占める割合が1/2以下となるように対向配置し、前記対向配置された前記第1の基板と前記第2の基板とをシール材を介して貼り合せる工程と、を備える表示装置の製造方法。
  8. 第1の基板と第2の基板との間に表示材料が設けられた表示装置の製造方法であって、
    前記第1の基板上に、高さ0.3μm以下の突起部を有する柱状スペーサを、前記柱状スペーサの頂面の中で前記突起部の占める割合が1/2以下となるように形成する工程と、
    前記第2の基板を、前記第1の基板の前記柱状スペーサが形成された面側に対向配置し、前記対向配置された前記第1の基板と前記第2の基板とをシール材を介して貼り合せる工程と、を備える表示装置の製造方法。
  9. 前記柱状スペーサを形成する工程では、複数階調露光によって前記突起部を有する前記柱状スペーサを形成する請求項8に記載の表示装置の製造方法。
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