JP2010096795A - 電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置の製造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】配向膜に好適な配向を形成することが可能な光配向装置及び光配向方法。
【解決手段】光源３２から出射された光３９を偏光子４４を透過させることにより直線偏光とした後、被露光基板１００に照射する電気光学装置の製造方法であって、光源３２から出射された光を第１の光学素子４０の一方の側に入射させて第１の光学素子４０によって入射された光３９を平行光として他方の側に出射させ、出射された平行光を偏光子４４の一方の側に入射させて偏光子４４によって入射された光のうち所定の直線偏光成分の光を他方の側に出射させ、出射された所定の直線偏光成分の光を被露光基板１００に照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【選択図】図３

Description

本発明は電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置の製造装置に関する。

電気光学装置の一つとしての液晶装置は、シール材を介して貼り合わされた一対の基板と、該一対の基板の間に封入された液晶層とを備えている。該一対の基板の液晶層側の面には、液晶層に含有される液晶分子を所定の方向に配向させるための配向膜が形成されている。かかる配向膜の配向処理方法として、近年、光配向材料に偏光を露光することにより配向処理を行なう光配向が注目されている。

かかる光配向処理を行なう装置（以下、「光配向装置」と称する。）として、ワイヤーグリッド偏光子を用いたものが知られている（例えば特許文献１）。図１０に、かかる従来の光配向装置の一例を示す。図示するように、光配向装置は長尺の、すなわち棒状の光源３２と、該光源から照射される光を反射する断面が楕円形の集光鏡３６と、該光源と光配向処理の対象である配向膜を有する被露光基板としてのマザー基板１００を搬送する搬送手段３８と、光源３２と搬送手段３８との間に配置されたワイヤーグリッド偏光子４４と、を備えている。本図は、長尺状の光源３２の長手方向から見た模式断面図である。該光配向装置は、照射光３９すなわち光源３２の発光をワイヤーグリッド偏光子４４により直線偏光としたうえで、配向膜に照射できる。

特開２００４−１４４８８４号公報

しかし、ワイヤーグリッド偏光子４４は入射角依存性という特性を有している。すなわち、光源３２から集光鏡３６を介して（あるいは該光源から直接）照射される光の角度が０度から増加するに伴い偏光軸のずれ量が増加すると言う特性を有している。したがって、図１０に示す光配向装置及びかかる光配向装置を用いた光配向処理には、偏光軸のずれにより、配向膜に形成される配向の方向にばらつきが生じ、コントラストが低下し得るという課題がある。

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。

［適用例１］光源から出射された光を偏光子を透過させることにより直線偏光とした後、被露光基板に照射する電気光学装置の製造方法であって、上記光源から出射された光を第１の光学素子の一方の側に入射させて該第１の光学素子によって入射された光を平行光として他方の側に出射させ、該出射された上記平行光を上記偏光子の一方の側に入射させて該偏光子によって入射された光のうち所定の直線偏光成分の光を他方の側に出射させ、該出射された上記所定の直線偏光成分の光を上記被露光基板に照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

このような製造方法によれば、入射角依存性による偏光軸のずれを抑制でき、配向方向のばらつきが抑制され、コントラスト等の表示品質が向上した電気光学装置を得ることができる。

［適用例２］上述の電気光学装置の製造方法であって、上記偏光子を透過した上記平行光を、第２の光学素子により集光した後、上記被露光基板に照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

このような製造方法によれば、上記被露光基板における光配向処理が必要な領域にのみ上記偏光を照射できるため、生産性を向上でき、電気光学装置の製造コストを低減できる。

［適用例３］上述の電気光学装置の製造方法であって、上記光源と上記被露光基板との間に設けられたシャッターを断続的に開閉することにより、上記直線偏光を間欠的に照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

このような製造方法によれば、上記被露光基板における任意の領域にのみ上記偏光を照射できるため、微細な光配向処理が可能となり、表示品質の向上した電気光学装置を得ることができる。

［適用例４］光源と、被露光基板を搬送する搬送手段と、上記搬送手段と上記光源との間に配置され、入射された光のうち所定の直線偏光成分の光を出射する偏光子と、上記光源と上記偏光子との間に配置され，上記光源から出射された光を平行光とする機能を有する第１の光学素子と、を備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。

このような製造装置によれば、被露光基板に入射角依存性による偏光軸のずれを抑制された偏光を照射できる。したがって、配向方向のばらつきが抑制され、コントラスト等の表示品質が向上した電気光学装置を得ることができる。

［適用例５］上述の電気光学装置の製造装置であって、上記偏光子と上記搬送手段との間に、上記平行光を集光する機能を有する第２の光学素子をさらに備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。

このような製造装置によれば、上記被露光基板における光配向処理が必要な領域にのみ上記偏光を照射できる。したがって、表示品質が向上した電気光学装置を製造コストを低減しつつ得ることができる。

［適用例６］上述の電気光学装置の製造装置であって、上記光源と上記搬送手段との間に上記光源から出射される光を遮断するシャッターをさらに備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。

このような製造装置によれば、上記被露光基板における任意の領域にのみ上述の偏光軸のずれを抑制された偏光を照射できる。したがって、微細な光配向処理が可能となり、表示品質がより一層向上した電気光学装置を製造コストを低減しつつ得ることができる。

［適用例７］上述の電気光学装置の製造装置であって、上記第１の光学素子と上記第２の光学素子との少なくとも一方は平凸レンズであることを特徴とする電気光学装置の製造装置。

平凸レンズは低コストであり被露光基板との平行を保つことも容易である。したがって、このような構成であれば、表示品質がより一層向上した電気光学装置を製造コストを低減しつつ得ることができる。

以下、図面を参照し、液晶装置、及び液晶装置の製造方法について説明する。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。

（第１の実施形態）
まず、本実施形態、及び後述する第２〜第３の実施形態にかかる電気光学装置の製造装置及び電気光学装置の製造方法の対象となる電気光学装置としての液晶装置１の構成について説明する。図１は、電気光学装置としての液晶装置１の構成を示す図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）中のＡ−Ａ’線における断面図である。液晶装置１は、枠状のシール材１４を介して対向して貼り合わされた、一対の基板としての素子基板１０、対向基板１１を有している。素子基板１０、対向基板１１、シール材１４によって囲まれた空間には、液晶層５５が封入されている。素子基板１０の液晶層５５とは反対側の面には、第１の偏光板４７が配置されており、対向基板１１の液晶層５５とは反対側の面には、第２の偏光板４８が配置されている。素子基板１０は、対向基板１１より大きく、一部が対向基板１１に対して張り出した状態で貼り合わされている。この張り出した部位には、液晶層５５を駆動するためのドライバＩＣ１５が実装されている。

素子基板１０のうち対向基板１１に対向する面には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子、各種配線、透光性を有する画素電極等を含む素子層（不図示）が形成されており、回路素子層の液晶層５５側には第１の配向膜５７ａが形成されている。また、対向基板１１のうち素子基板１０に対向する面には、カラーフィルタ、共通電極等（不図示）が形成されており、これらの構成要素の液晶層５５側には第２の配向膜５７ｂが形成されている。かかる一対の配向膜（第１の配向膜５７ａ及び第２の配向膜５７ｂ）は、光配向材料に直線偏光の紫外線を露光することにより形成され、直線偏光の方向に応じた配向規制力が付与されている。そして、かかる配向規制力により、液晶層５５（正確には液晶層５５に含有される液晶分子）の初期配向状態が規定されている。本実施形態にかかる製造装置はかかる光配向処理を行なう装置であり、本実施形態にかかる製造方法は、上述の装置により行なう光配向処理に関するものである。

ここで、光配向材料は、たとえば直線偏光を照射することにより、直線偏光の方向に沿った配向規制力が生じる部材である。光配向材料に直線偏光を照射することにより、光配向材料を構成する分子の光反応部位のうち、照射光の偏光方向に平行な成分が光化学反応を起こし、当該分子近傍の液晶分子の配向方向を規制することが可能となる。光配向材料としては、例えば、吸収波長が３１３ｎｍの樹脂材料を用いることができる。

かかる一対の配向膜の配向方向は、液晶層５５が例えばＴＮ（Twisted Nematic）モードであれば、互いに直交する方向である。液晶装置１の構成はＴＮモードに限られず、この他にも、液晶分子を基板と垂直に配向させるＶＡ（Vertical Alignment）モードや、素子基板１０側に画素電極及び共通電極を備え、素子基板１０に平行な成分を有する電界により液晶層５５を駆動するＦＦＳ（Fringe Field Switching）モード又はＩＰＳ（In Plane Switching）モード等の構成とすることができる。また、駆動方式としてはＴＦＴ素子等のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス型に限られず、パッシブマトリクス型としてもよい。パッシブマトリクス型における液晶モードとしては例えばＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モードとすることができる。

液晶層５５は、印加される駆動電圧の大きさに応じて配向方向を変える。液晶装置１は、液晶層５５の配向方向に応じた偏光変換機能と、上述の一対の偏光板（第１の偏光板４７及び第２の偏光板４８）の偏光選択機能とによって入射光を変調することにより、表示領域９９に画像を形成できる。

図２は、液晶装置１を製造する際に用いられるマザー基板１００ａ，１００ｂの平面図である。液晶装置１を製造する際には、このようなマザー基板１００ａ，１００ｂ上に複数の液晶装置１に対応する構成要素を形成していく。具体的には、マザー基板１００ａの一方の面に規則的に区画された将来的に素子基板１０となる領域（符号は「１０」と表記）に、素子基板１０に対応する構成要素、すなわち上述の素子層を形成する。マザー基板１００ｂの一方の面に規則的に区画された将来的に対向基板１１となる領域（符号は「１１」と表記）に、対向基板１１に対応する構成要素、すなわちカラーフィルタ、共通電極等を形成する。そして、双方のマザー基板（１００ａ及び１００ｂ）をシール材１４を介して貼り合わせた後に切り分けて、個々の液晶装置１を得る。したがって、上述の一対の配向膜に対する光配向処理は、かかるマザー基板１００ａ及び１００ｂの全体に形成した配向膜に対して一括で行なう。

なお、以下の記載においては、マザー基板１００ａ，１００ｂの双方、又はいずれかを指す場合に、単にマザー基板１００とも表記する。また、以下の記載においては、光配向処理がなされる前の樹脂材料からなる膜も配向膜と表記する。

図３は、本実施形態にかかる、電気光学装置の製造装置としての光配向装置を示す図であり、図１０に示す従来の光配向装置と同様に、長尺状の光源３２の長手方向３３（図５参照）から見た模式断面図である。本実施形態にかかる光配向装置は、紫外光を照射する光源３２と、該光源から照射される光を集光する集光鏡３６と、偏光子としてのワイヤーグリッド偏光子４４と、被露光基板としてのマザー基板１００を搬送する搬送手段３８と、ワイヤーグリッド偏光子４４と光源３２との間に配置された第１の光学素子としての平凸レンズ４０と、を備えている。Ｘ方向が搬送手段３８によりマザー基板１００が搬送される方向、Ｚ方向がマザー基板１００の基板面の法線方向、Ｙ方向は光源３２の長手方向である。ワイヤーグリッド偏光子４４の基板（後述する透明基板５３）面とマザー基板１００の基板面とは平行である。したがって、上記双方の基板面の法線方向は一致する。そして、平凸レンズ４０は該平凸レンズの光軸が上記法線方向と一致するように、そして凸面が光源３２側を向くように配置されている。

光源３２は集光鏡３６の焦点に位置している。平凸レンズ４０は、該レンズの焦点が集光鏡３６の第２焦点５２、すなわち照射光３９（光源３２の発光）が集光する点と一致するように配置されている。したがって、光源３２と平凸レンズ４０とは第２焦点５２を挟むように対向している。
本実施形態にかかる光配向装置は、Ｘ方向に搬送されるマザー基板１００のＹ方向に延在する帯状の領域に、直線偏光された照射光３９を照射するものである。光源３２はＹ方向に延在する長尺状であり、第１の光学素子としての平凸レンズ４０及び偏光子としてのワイヤーグリッド偏光子４４も、Ｙ方向に延在する長尺状である。したがって、上述したように平凸レンズ４０の焦点及び集光鏡３６の焦点もＹ方向に延在する線であるが、本明細書ではかかる線を図３の断面図に基づいて「焦点」と表記している。

光源３２から照射された照射光３９は第２焦点５２を経て平凸レンズ４０を透過することでマザー基板１００の基板面の法線方向に沿った平行光となる。そして、照射光３９は、かかる平行を保ちつつワイヤーグリッド偏光子４４を透過して直線偏光となり、マザー基板１００に照射される。したがって、マザー基板１００の基板面に対して所定の角度を有する光（直線偏光）が照射される従来の光配向装置と比べて配向方向のばらつきが低減された配向処理を行なうことができる。

ここで、ワイヤーグリッド偏光子４４について説明する。図４は、一般的なワイヤーグリッド偏光子の構成を示す図である。図４（ａ）はワイヤーグリッド偏光子の模式斜視図、図４（ｂ）はワイヤーグリッド偏光子の、グリッドの延在方向に垂直な面における断面図である。ワイヤーグリッド偏光子４４は、ガラスあるいは石英等からなる透明基板５３と、該透明基板上に所定のピッチをもって略平行に配列された幅及び高さが共通の金属体であるグリッド５４と、からなる。各グリッド５４のピッチは、照射される光の波長以下、望ましくは１／３以下が好ましい。グリッド５４の形成材料は、反射率の高いＡｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）が好ましい。

かかる構造のワイヤーグリッド偏光子４４は、上方から照射される光、すなわちグリッド５４から透明基板５３の方向に進む光を偏光分離する性質を有している。具体的には、波長が上述のピッチ、幅、及び高さよりも小さい光が本図における上方から照射された場合、上記光を構成する振動成分のうち、グリッド５４の長手方向（延在方向）と平行する偏光成分を反射し、グリッド５４の長手方向と直交する偏光成分を透過させる性質を有している。したがって、ワイヤーグリッド偏光子４４は、自然光を直線偏光にすることができる。

図５は、図３に示す光配向装置を用いて行なう光配向方法を示す斜視図である。図示するように、長尺状の光源３２の中心軸方向が長手方向３３である。ワイヤーグリッド偏光子４４により直線偏光となった照射光３９は、Ｘ方向にワイヤーグリッド偏光子４４の幅（Ｘ方向の寸法）よりも若干狭い幅をもつ露光領域１０２を形成する。そして、所定の時間照射光３９が照射された領域が光配向処理が終了している領域である光配向領域１０１となる。マザー基板１００の一方の面に規則的に区画された将来的に素子基板１０又は対向基板１１となる領域（符号は「１０／１１」と表記）における配向膜に配向の方向にばらつきが低減された配向処理がなされるため、かかる方法で配向処理を行なった一対のマザー基板（１００ａ及び１００ｂ）を貼り合わせることで、表示品質の向上した液晶装置を得ることができる。

光配向処理を行なった後、以下に記載する工程を経て液晶表示装置は形成する。まず第１の工程として、マザー基板１００ａにおける素子基板１０（正確には将来的に素子基板１０となる領域）の外縁部にシール材１４（図１参照）を形成する。シール材１４の形成は、スクリーン印刷法、ディスペンサ塗布法等によって行なうことができる。シール材１４には、平面視で少なくとも一箇所に切れ目（非形成領域）を設ける。かかる切れ目は、将来的に液晶を注入するための注入口となる。なお、シール材１４は対向基板１１側に形成することもできる。

次に、第２の工程として、マザー基板１００ａとマザー基板１００ｂとをシール材１４介して貼り合わせる。

次に、第３の工程として、上述の貼り合わされたマザー基板を、個々の液晶装置１に対応する大きさに分割する。かかる分割は、例えばマザー基板１００の表面をスクライブした後に、押圧することで行なうことができる。

次に、第４の工程として、平面視で枠状のシール材１４に囲まれた領域に上記注入口から液晶（図１（ｂ）参照）を注入して液晶層５５を形成する。その後注入口を紫外線硬化性樹脂等で封止する。

最後に、第５の工程として、素子基板１０にドライバＩＣ１５（図１（ａ）参照）を実装する。以上の工程を経て液晶装置１が完成する。なお、上述の工程では、マザー基板１００ａと１００ｂとを貼り合わせ後に液晶を注入して液晶層５５を形成する方法を例に説明したが、これに代えて、まずマザー基板１００ａ上又はマザー基板１００ｂ上に液晶を滴下した後に、双方のマザー基板１００を貼り合わせる方法も可能である。

（第２の実施形態）
続いて第２の実施形態について説明する。図６は、第２の実施形態にかかる光配向装置を示す断面図である。図７は、図６に示す光配向装置を用いて行なう光配向方法を示す斜視図である。

本実施形態にかかる光配向装置は、第１の実施形態にかかる光配向装置と類似した構成を有している。第１の光学素子として第１の平凸レンズ４１と第２の光学素子としての第２の平凸レンズ４２とを用いていること以外は、略同一の構成である。構成が「略同一」ということは、配置の態様も同様である。したがって、たとえばマザー基板１００の基板面とワイヤーグリッド偏光子４４の基板面とは平行であり、第１の平凸レンズ４１の光軸は、上述の基板面の法線方向と一致している。
そこで、本実施形態の光配向装置（図６）及び該光配向装置を用いて行なう光配向方法（図７）ついては、第１の実施形態にかかる光配向装置及び光配向方法における要素と共通する要素には同一の符号を付与し、説明の記載は一部省略する。

上述したように、本実施形態にかかる光配向装置は、第２の平凸レンズ４２を、ワイヤーグリッド偏光子４４とマザー基板１００との間に備えている。したがって、第２の平凸レンズ４２は、光源３２とワイヤーグリッド偏光子４４との間に配置された第１の平凸レンズ４１との間に、ワイヤーグリッド偏光子４４を挟んでいる。なお、第２の平凸レンズ４２は、第１の平凸レンズ４１と同じく、該レンズの光軸が上述の基板面の法線方向と一致するように配置されている。そして搬送手段３８は、搬送されるマザー基板１００の光源３２側の表面が、第２の平凸レンズ４２の焦点若しくは該焦点から若干第２の平凸レンズ４２寄りに位置する様に設定されている。

図７に示すように、光源３２から発光した照射光３９は、第１の平凸レンズ４１により、マザー基板１００の基板面の法線方向に沿った平行光となってワイヤーグリッド偏光子４４を透過する。そして、ワイヤーグリッド偏光子４４を透過することにより直線偏光となった後、第２の平凸レンズ４２により再び絞られて、Ｚ方向に対して角度を有する光となる。すなわち、直線偏光となった照射光３９は、Ｘ方向の幅が狭い領域に集中的に照射される。したがって、本実施形態の光配向装置による露光領域１０２は、図７に示すようにＹ方向に延在しＸ方向には若干の幅を持つ領域となる。したがって、搬送手段３８の速度を調節することでＸ方向には略断続的に光配向領域１０１を形成できる。

マザー基板１００における将来的に素子基板１０又は対向基板１１となる領域は、Ｘ方向及びＹ方向の双方で所定の間隔が生じるように形成されている。将来的に素子基板１０又は対向基板１１となる領域以外の領域に露光領域１０２が差しかかったときに搬送速度を速めることで、将来的に素子基板１０又は対向基板１１となる領域にのみ光配向領域１０１を形成できる。したがって、本実施形態の光配向装置及び光配向方法であれば、Ｘ方向に幅の広い露光領域１０２を形成する光配向装置及び光配向方法に比べて処理能力を向上でき、表示装置品質の向上した液晶装置を製造コストを低減しつつ得ることができる。
なお、光配向処理が行なわれた後のマザー基板１００を用いて液晶装置を得るまでの工程は第１の実施形態に記載した工程と同一である。

（第３の実施形態）
続いて第３の実施形態について説明する。図８は、第３の実施形態にかかる、電気光学装置の製造装置としての光配向装置を示す断面図である。図９は、図８に示す光配向装置を用いて行なう光配向方法を示す斜視図である。

本実施形態にかかる光配向装置は、シャッター４５を備えている点以外は第２の実施形態にかかる光配向装置と略同一の構成である。同じく、本実施形態にかかる光配向方法は、シャッター４５を用いることにより、照射光３９をマザー基板１００に対して間欠的に照射することを除くと、第２の実施形態にかかる光配向方法と略同一である。そこで、本実施形態の光配向装置（図８）及び該光配向装置を用いて行なう光配向方法（図９）ついては、第２の実施形態にかかる光配向装置及び光配向方法における要素と共通する要素には同一の符号を付与し、説明の記載は一部省略する。

本実施形態にかかる光配向装置が備えるシャッター４５は、図示するような板状の部材であり、光源３２と第１の平凸レンズ４１との間に、集光鏡３６の第２焦点５２を両側から挟むように配置されている。そして図示しない動力機構により、時間的に任意にＸＹ平面上を移動して、光源３２と第１の平凸レンズ４１との間を、第２焦点５２の近傍において遮断できる。したがって、マザー基板１００の光源３２側の表面に、直線偏光となった照射光３９が照射される領域と全く照射されない領域とを、Ｘ方向において任意に設定できる。したがって、図９に示すように、将来的に素子基板１０又は対向基板１１となる領域間のみでなく該領域内にも、Ｘ方向に微細なピッチで光配向領域１０１を形成できる。すなわち本実施形態にかかる光配向装置及び該装置を用いた光配向方法は、例えば液晶装置の画素領域内を光配向領域１０１と非配向領域（光配向処理がされていない領域）とに区分けすることが必要な場合においても対応できる。

なお、光配向処理が行なわれた後のマザー基板１００を用いて液晶装置を得るまでの工程は第１の実施形態に記載した工程と同一である。また、シャッター４５は、照射光３９を光源３２とマザー基板１００との間で遮断すればよいため、必ずしも第２焦点５２の近傍に位置する必要はない。ただし、間欠的に照射光３９をマザー基板１００に照射するためには、光が集中する第２焦点５２近傍に位置することが好ましい。

（変形例１）
上述の第１〜第３の実施形態においては、光学素子として平凸レンズが用いられている。しかし、光学素子は平凸レンズに限定されるものではなく両凸レンズのような他のレンズを用いることもできる。

電気光学装置としての液晶装置の構成を示す図。 液晶装置を製造する際に用いられるマザー基板の平面図。 第１の実施形態の光配向装置を示す図。 ワイヤーグリッド偏光子の概要を示す図。 第１の実施形態の光配向装置を用いて行なう光配向方法を示す斜視図。 第２の実施形態の光配向装置を示す図。 第２の実施形態の光配向装置を用いて行なう光配向方法を示す斜視図。 第３の実施形態の光配向装置を示す図。 第３の実施形態の光配向装置を用いて行なう光配向方法を示す斜視図。 従来の光配向装置を示す図。

符号の説明

１…電気光学装置としての液晶装置、１０…素子基板、１１…対向基板、１４…シール材、１５…ドライバＩＣ、３２…光源、３３…長手方向、３６…集光鏡、３８…搬送手段、３９…照射光、４０…第１の光学素子としての平凸レンズ、４１…第１の光学素子としての第１の平凸レンズ、４２…第２の光学素子としての第２の平凸レンズ、４４…偏光子としてのワイヤーグリッド偏光子、４５…シャッター、４７…第１の偏光板、４８…第２の偏光板、５２…第２焦点、５３…透明基板、５４…グリッド、５５…液晶層、５７ａ…第１の配向膜、５７ｂ…第２の配向膜、９９…表示領域、１００…被露光基板としてのマザー基板、１０１…光配向領域、１０２…露光領域。

Claims (7)

1. 光源から出射された光を偏光子を透過させることにより直線偏光とした後、被露光基板に照射する電気光学装置の製造方法であって、
   前記光源から出射された光を第１の光学素子の一方の側に入射させて該第１の光学素子によって入射された光を平行光として他方の側に出射させ、
   該出射された前記平行光を前記偏光子の一方の側に入射させて該偏光子によって入射された光のうち所定の直線偏光成分の光を他方の側に出射させ、
   該出射された前記所定の直線偏光成分の光を前記被露光基板に照射する
   ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
2. 請求項１に記載の電気光学装置の製造方法であって、前記偏光子を透過した前記平行光を、第２の光学素子により集光した後、前記被露光基板に照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
3. 請求項２に記載の電気光学装置の製造方法であって、前記光源と前記被露光基板との間に設けられたシャッターを断続的に開閉することにより、前記直線偏光を間欠的に照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
4. 光源と、
   被露光基板を搬送する搬送手段と、
   前記搬送手段と前記光源との間に配置され、入射された光のうち所定の直線偏光成分の光を出射する偏光子と、
   前記光源と前記偏光子との間に配置され，前記光源から出射された光を平行光とする機能を有する第１の光学素子と、
   を備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
5. 請求項４に記載の電気光学装置の製造装置であって、
   前記偏光子と前記搬送手段との間に、前記平行光を集光する機能を有する第２の光学素子をさらに備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
6. 請求項５に記載の電気光学装置の製造装置であって、
   前記光源と前記搬送手段との間に前記光源から出射される光を遮断するシャッターをさらに備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
7. 請求項６に記載の電気光学装置の製造装置であって、
   前記第１の光学素子と前記第２の光学素子との少なくとも一方は平凸レンズであることを特徴とする電気光学装置の製造装置。

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