JP3861635B2 - 液晶装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、紫外線の照射によって硬化されるシール材を具備した液晶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶ライトバルブ等の液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の2枚の基板間に液晶を封入して構成される。液晶ライトバルブでは、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、TFTと称す)をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に変換させることで、画像表示を可能にする。
【0003】
TFTを配置したTFT基板と、TFT基板に対向配置される対向基板とは、別々に製造される。両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入される。
【0004】
パネル組立工程においては、先ず、各基板工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板との対向面、即ち、対向基板及びTFT基板の液晶層と接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が行われる。次に、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール材が形成される。TFT基板と対向基板とをシール材を用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させる。シール材の一部には切り欠きが設けられており、この切り欠きを介して液晶を封入する。
【0005】
ところで、生産性、ギャップ品質等が良好な点から、シール材には紫外線硬化樹脂が広く採用されている。この種のシール材の硬化に際しては、紫外線光は配向膜等を劣化させるという特性を有するため、対向基板或いはTFT基板の少なくとも何れか一方に対向配置された紫外線ランプ等の光源装置の光路上に、シール材に沿う形状のスリットを有する遮光マスクを介装し、光源装置からの紫外線光をスリットを介してシール材に照射することが一般的である。
【0006】
また、例えば特開平8−29792号公報には、遮光マスクのスリット部分に光学レンズを設け、この光学レンズによって集光された紫外線光を、シール材の真上或いは外側からシール材に照射させる技術が開示されている。このような技術によれば、光学レンズによって、シール材を通過する紫外線光の光路幅を最小とし且つ集光力を向上することにより、スリットによる紫外線光の回折等を低減して紫外線光の表示領域への漏洩を低減するとともに、紫外線光の利用効率を向上することができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、シール材は液晶装置の表示領域に沿って細長に形成されるものであり、しかも、スリットを通過してシール材に照射される紫外線光の光束はシール材に応じた細長なものであるため、シール材に対する遮光マスクの配設位置に微小なズレが生じただけで、スリットを通過する紫外線光の光束をシール材に精度よく照射することが困難となる場合がある。
【0008】
そして、例えば、シール材に照射されなかった紫外線光の一部が液晶基板を透過して表示領域の配向膜に漏洩されると、その部分の配向膜が劣化されて表示性能を低下させる虞がある。
【0009】
また、シール材上に紫外線光が十分に照射されない部分が生じると、この部分の硬化が不十分となり、シール材の未硬化成分が液晶中に溶出して液晶分子の均一な配向を阻害する虞がある。このような液晶分子の配向の乱れは、コントラストムラを引き起こし、液晶装置の歩留まりの低下等を引き起こす。
【0010】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、表示領域上の配向膜への紫外線光の漏洩を低減するとともに、紫外線光をシール材に精度よく照射してシール材を十分に紫外線硬化させることのできる液晶装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る液晶装置は、シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に、前記シール材の硬化時に照射される紫外線光を前記シール材に選択的に導く光学部材を具備してなり、
前記光学部材は、前記一対の液晶基板の少なくとも一方の基板の縁辺部に形成されて、該基板の外側及び前記シール材側に向くテーパ面と、該テーパ面上に設けられた、該テーパ面を形成する基板とは屈折率が異なる接着剤と、からなることにより、前記液晶基板の周面側を紫外線光の入射面とし、前記テーパ面を、前記入射面から入射された紫外線光を反射して前記シール材に導く反射面としている、ことを特徴とする。
【0012】
このような構成によれば、シール材の硬化時に照射される紫外線光は、液晶基板に設けられた光学部材を介してシール材に導かれる。液晶基板に設けられた光学部材を介して紫外線光をシール材に導くことにより、表示領域上の配向膜への紫外線光の漏洩を低減することができるとともに、紫外線光をシール材に精度よく照射してシール材を十分に紫外線硬化させることができる。
【0013】
上記光学部材は、上記液晶基板の周面に設けられた紫外線光の入射面と、上記入射面から入射された紫外線光を内部で反射して上記シール材に導く反射面と、を具備したことを特徴とする。
【0014】
このような構成によれば、シール材の硬化時に照射される紫外線光は、液晶基板の周面に設けられた入射面を介して光学部材に入射され、反射面で反射されてシール材に導かれる。反射面を有して光学部材を構成することにより、入射面を液晶基板の周面に設けることができ、表示領域上の配向膜への紫外線光の漏洩を低減することができる。また、入射面を液晶基板の周面に設けることにより、照射される紫外線光の光束の幅をシール材の幅よりも広く設定することができ、紫外線光をシール材に精度よく照射してシール材を十分に紫外線硬化することができる。
【0015】
上記反射面は、屈折率の異なる光学材料を組み合わせて構成されることを特徴とする。
【0016】
このような構成によれば、反射面を容易に得ることができる。
【0017】
上記光学部材は、入射された紫外線光を集光して上記シール材に導く光学レンズを具備したことを特徴とする。
【0018】
このような構成によれば、光学部材に入射された紫外線光は、光学レンズによって集光されてシール材に導かれる。光学レンズを有して光学部材を構成することにより、紫外線光の強度を必要以上に高く設定する必要がなく、たとえ紫外線光の一部が表示領域に照射された場合にも紫外線光の配向膜への漏洩を最小限に抑えることができる。従って、照射される紫外線光の光束をシール材の幅よりも広く設定することができ、紫外線光をシール材に精度よく照射してシール材を十分に紫外線硬化することができる。
【0019】
上記光学レンズは、エッチングにより形成されることを特徴とする。
【0020】
このような構成によれば、光学レンズを容易に得ることができる。
【0021】
上記光学部材は、少なくとも上記液晶基板上の表示領域よりも紫外線透過率の高い材料で構成されていることを特徴とする。
【0022】
このような構成によれば、光学部材に入射された紫外線光は、光学部材を透過してシール材に導かれる。少なくとも液晶基板上の表示領域よりも紫外線透過率の高い材料で光学部材を構成することにより、たとえ紫外線光の一部が表示領域に照射された場合にも紫外線光の配向膜への漏洩を最小限に抑えることができる。従って、照射される紫外線光の光束をシール材の幅よりも広く設定することができ、紫外線光をシール材に精度よく照射することができる。
また、上記光学部材の製造方法は、シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に、上記シール材の硬化時に照射される紫外線光を内部で反射して上記シール材に導く反射面を備えた光学部材の製造方法であって、エッチングガスを所定の傾斜方向からマザーガラス基板に吹き付けることで上記マザーガラス基板上にテーパ面を設ける異方性ドライエッチング工程と、テーパ面に接着剤を塗布する工程と、上記テーパ面近傍において、上記マザーガラス基板をスクライブブレイクする工程と、
からなることを特徴とする。
このような構成によれば、シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に、上記シール材の硬化時に照射される紫外線光を内部で反射して上記シール材に導く反射面を備えた光学部材を製造できる。
また、シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に紫外線光を前記シール材に導く光学部材を具備した液晶装置の製造方法であって、前記光学部材の入射面に対向する位置にスリットが設けられた遮光板を介して前記紫外線光を前記液晶装置に導くことを特徴とする。
このような構成によれば、紫外線光源装置からの紫外線光がスリットを介して光学部材の入射面に照射されるようになる。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図面は本発明の第1の実施の形態に係わり、図1はシール材を硬化させる工程における液晶装置及びその製造装置の概略構成を示す説明図、図2は液晶装置の画素領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。図3はTFT基板等の素子基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図であり、図4は素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図3のH−H’線の位置で切断して示す断面図である。図5は液晶装置を詳細に示す断面図である。図6はパネル組立工程を示すフローチャートである。図7は対向基板に光学部材を形成する工程を示すフローチャート、図8はエッチング処理された対向基板のマザーガラス基板を示す平面図である。
【0024】
先ず、図2乃至図5を参照して、液晶パネルの構造について説明する。液晶パネルは、図3及び図4に示すように、TFT基板等の素子基板10と対向基板20との間に液晶50を封入して構成される。素子基板10上には画素を構成する画素電極等がマトリクス状に配置されている。図2は画素を構成する素子基板10上の素子の等価回路を示している。
【0025】
図2に示すように、画素領域においては、複数本の走査線3aと複数本のデータ線6aとが交差するように配線され、走査線3aとデータ線6aとで区画された領域に画素電極がマトリクス状に配置される。そして、走査線3aとデータ線6aの各交差部分に対応してTFT30が設けられ、このTFT30に画素電極9aが接続される。
【0026】
TFT30は走査線3aのON信号によってオンとなり、これにより、データ線6aに供給された画像信号が画素電極9aに供給される。この画素電極9aと対向基板20に設けられた対向電極21との間の電圧が液晶50に印加される。また、画素電極9aと並列に蓄積容量70が設けられており、蓄積容量70によって、画素電極9aの電圧はソース電圧が印加された時間よりも例えば3桁も長い時間の保持が可能となる。蓄積容量70によって、電圧保持特性が改善され、コントラスト比の高い画像表示が可能となる。
【0027】
図5は、一つの画素に着目した液晶パネルの模式的断面図である。
【0028】
ガラスや石英等の素子基板10には、LDD構造をなすTFT30が設けられている。TFT30は、チャネル領域1a、ソース領域1d、ドレイン領域1eが形成された半導体層に絶縁膜2を介してゲート電極をなす走査線3aが設けられてなる。TFT30上には第1層間絶縁膜4を介してデータ線6aが積層され、データ線6aはコンタクトホール5を介してソース領域1dに電気的に接続される。データ線6a上には第2層間絶縁膜7を介して画素電極9aが積層され、画素電極9aはコンタクトホール8を介してドレイン領域1eに電気的に接続される。
【0029】
走査線3a(ゲート電極)にON信号が供給されることで、チャネル領域1aが導通状態となり、ソース領域1dとドレイン領域1eとが接続されて、データ線6aに供給された画像信号が画素電極9aに与えられる。
【0030】
また、半導体層にはドレイン領域1eから延びる蓄積容量電極1fが形成されている。蓄積容量電極1fは、誘電体膜である絶縁膜2を介して容量線3bが対向配置され、これにより蓄積容量70を構成している。画素電極9a上にはポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜16が積層され、所定方向にラビング処理されている。
【0031】
一方、対向基板20には、TFTアレイ基板のデータ線6a、走査線3a及びTFT30の形成領域に対向する領域、即ち各画素の非表示領域において第1遮光膜23が設けられている。この第1遮光膜23によって、対向基板20側からの入射光がTFT30のチャネル領域1a、ソース領域1d及びドレイン領域1eに入射することが防止される。第1遮光膜23上に、対向電極(共通電極)21が基板20全面に亘って形成されている。対向電極21上にポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜22が積層され、所定方向にラビング処理されている。
【0032】
そして、素子基板10と対向基板20との間に液晶50が封入されている。これにより、TFT30は所定のタイミングでデータ線6aから供給される画像信号を画素電極9aに書き込む。書き込まれた画素電極9aと対向電極21との電位差に応じて液晶50の分子集合の配向や秩序が変化して、光を変調し、階調表示を可能にする。
【0033】
図3及び図4に示すように、対向基板20には表示領域を区画する額縁としての第2遮光膜42が設けられている。第2遮光膜42は例えば第1遮光膜23と同一又は異なる遮光性材料によって形成されている。
【0034】
第2遮光膜42の外側の領域に液晶を封入するシール材41が、素子基板10と対向基板20との間に形成されている。シール材41は対向基板20の輪郭形状に略一致するように配置され、素子基板10と対向基板20を相互に固着する。シール材41は、素子基板10の1辺の一部において欠落しており、貼り合わされた素子基板10及び対向基板20相互の間隙には、液晶50を注入するための液晶注入口78が形成される。液晶注入口78より液晶が注入された後、液晶注入口78を封止材79で封止するようになっている。
【0035】
素子基板10のシール材41の外側の領域には、データ線駆動回路61及び実装端子62が素子基板10の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接する2辺に沿って、走査線駆動回路63が設けられている。素子基板10の残る一辺には、画面表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路63間を接続するための複数の配線64が設けられている。また、対向基板20のコーナー部の少なくとも1箇所においては、素子基板10と対向基板20との間を電気的に導通させるための導通材65が設けられている。
【0036】
次に、図6を参照してパネル組立工程について説明する。素子基板10(TFT基板)と対向基板20は別々に製造される。ステップS1,S6で夫々用意されたTFT基板及び対向基板に対して、次のステップS2,S7では、配向膜16,22となるポリイミド(PI)膜を形成する。次に、ステップS3,S8において、素子基板10表面の配向膜16及び対向基板20表面の配向膜22に対してラビング処理を施す。
【0037】
次に、ステップS4,S9において、洗浄工程を行う。この洗浄工程は、ラビング処理によって生じた塵埃を除去するためのものである。
【0038】
洗浄工程が終了すると、ステップS5において、シール材41、及び導通材65(図3参照)を形成する。次に、ステップS10で、素子基板10と対向基板20とを貼り合わせ、ステップS11でアライメントを施しながら圧着し、後述する方法によってシール材41を硬化させる。最後にステップS12において、シール材41の一部に設けた切り欠きから液晶を封入し、切り欠きを塞いで液晶を封止する。
【0039】
図1に示すように、ステップS11におけるシール材41の硬化は、シール材41に紫外線光を照射することにより行われる。本実施の形態において、シール材41に紫外線光を照射するための紫外線照射装置80は、対向基板20の4つの側面に夫々対向して配設される。
【0040】
紫外線照射装置80は、紫外線光源装置81と、遮光マスク82と、を具備して構成されている。紫外線光源装置81は、紫外線ランプ83を有し、紫外線ランプ83から出射される紫外線光を対向基板20側に照射するようになっている。遮光マスク82は、紫外線光源装置80と対向基板20との間に介装されるもので、石英等の基板84と遮光板85とを具備して構成されている。遮光板85には、対向基板20に設けられた光学部材100(後述する)の入射面101に対向する位置にスリット86が設けられ、紫外線光源装置80からの紫外線光がスリット86を介して光学部材100の入射面101に照射されるようになっている。
【0041】
また、図1に示すように、対向基板20の縁辺部には、少なくとも表示領域から外れた位置に、紫外線光をシール材41に導くための光学部材100が、シール材41に沿って設けられている。
【0042】
ここで、光学部材100の構成を説明するに先立ち、シール材41を硬化する前の工程における液晶パネルのシール材41近傍の詳細な構成の一例について説明する。図1に示すように、素子基板10には、表示領域を規定するための第3遮光膜88が第2遮光膜42に対向して設けられ、第3遮光膜88の内側には図5に示すTFT30が形成されている。第3遮光膜88には、TFT30を構成する第1,第2層間絶縁膜4,7が積層され、さらに、第2層間絶縁膜7には配向膜16が積層されている。一方、対向基板20において、第2遮光膜42には、対向電極21が積層され、さらに、対向電極21には配向膜22が積層されている。シール材41は、第2,第3遮光膜42,88から外側に所定間隔離間した位置で第2層間絶縁膜7と対向電極21との間に設けられ、シール材41の内壁面には、配向膜16,22の縁部が臨まされている。
【0043】
対向基板20は、比較的紫外線透過率の低い石英等からなる対向基板本体105を有して構成されている。対向基板本体105の縁辺部にはシール材41が形成される位置に対応して、当該シール材41に傾斜して対向するテーパー面106が形成されている。
【0044】
また、対向基板本体105には、素子基板10に対向する面(内面)側に、接着剤107を介してカバーガラス108が貼付されている。
【0045】
接着剤107としては、紫外線透過率が高く、且つ、対向基板本体105とは屈折率の異なる材料が用いられる。この接着剤107は、対向基板本体105にカバーガラス108の貼付が行われる際に、対向基板本体105の縁辺部のテーパー面106に沿って充填されることにより、その充填部分に紫外線透過部109を形成する。紫外線透過部109の周面は、対向基板本体105の周面に面一に形成され、紫外線光の入射面101として機能する。また、対向基板本体105のテーパー面106は、紫外線光の反射面として機能し、入射面101から入射された紫外線光を反射してシール材41に導くようになっている。この場合、図示のように、テーパー面106のテーパー角は鋭角に設定されており、これにより、入射面101の上下方向の幅は、シール材41の幅よりも広く設定されている。
【0046】
ここで、上述のような光学部材100を有する対向基板20は、例えば図7の各工程を経ることにより製造される。すなわち、ステップS21で用意された対向基板本体105のマザーガラス基板に対し、ステップS22〜ステップS25の工程では、テーパー面106の形成が行われる。テーパー面106は、マザーガラス基板に対して、エッチング処理を4方向から順次繰り返して行うことにより形成される。すなわち、先ず、ステップS22においてマザーガラス基板にフォトレジストが塗布される。次に、ステップS23において、フォトレジストには、一の方向のテーパー面106に対応する形状のマスクを介して露光が行われるとともに、非露光部分の剥離が行われる。そして、ステップS24において、マザーガラス基板には、フォトレジストが剥離された部分へのエッチングが行われる。このエッチングは、例えば、ドライエッチングにより異方性をもって行われるもので、エッチングガスを所定の傾斜方向からマザーガラス基板に吹きつけることで、マザーガラス基板には一の方向へのテーパー面106が形成される。その後、ステップS25において、フォトレジストの剥離が行われる。このようなステップS22〜ステップS25の処理を4方向に対して繰り返し行うことにより、マザーガラス基板上の各対向基板本体105には、図8に示すように、縁辺部に沿う4方向のテーパー面106が形成される。マザーガラス基板に対する4方向へのエッチング処理が終了すると、ステップS26で接着剤107が塗布され、ステップS27でカバーガラス108が貼付される。その後、ステップS28において、マザーガラス基板はスクライブブレイクされ、図1に示す対向基板20を得る(ステップS29)。なお、対向基板20は、その後の工程において第1,第2遮光膜23,42や対向電極21等が積層された後、パネル組立工程に投入される。
【0047】
次に、上述のステップS11におけるシール材41の硬化工程での光学部材100の作用について説明する。
【0048】
図1に示すように、シール材41を介して素子基板10と対向基板20とが貼り合わされ両基板10,20のアライメントが施された状態において、液晶パネルには、対向基板20の4辺の側壁に対向して、紫外線照射装置80が対向配置される。その際、遮光マスク82は、スリット86が光学部材100の入射面101に対して厳密に対向するように配置される。
【0049】
その後、紫外線ランプ83から紫外線光が出射されると、出射された紫外線光の一部はスリット86を通過し、入射面101から紫外線透過部109に入射される。そして、入射面101から紫外線透過部109に入射された紫外線光は、テーパー面(反射面)106で反射され、シール材41に導かれる。これにより、シール材41は、紫外線硬化される。
【0050】
このように本実施の形態によれば、シール材41に沿う光学部材100を対向基板20に設け、この光学部材100を介してシール材41に紫外線光を導くことにより、表示領域上の配向膜への紫外線光の漏洩を低減することができるとともに、紫外線光をシール材41に対して精度よく照射して、シール材を十分に紫外線硬化させることができる。
【0051】
具体的には、光学部材100は対向基板20の周面から入射された紫外線光をテーパー面(反射面)106で反射してシール材41に導くものであるので、対向基板20の外表面に対向して紫外線光を照射する場合に比べ、表示領域の配向膜に対する紫外線光の漏洩を飛躍的に低減することができる。
【0052】
従って、スリット86を通過する紫外線光の光束の幅をシール材41に対して比較的広く設定することができ、入射面101への紫外線光の照射精度を向上して、シール材41への紫外線光の照射精度を向上することができる。
【0053】
この場合、特に、光学部材100を構成する反射面(テーパー面106)を鋭角に設定して光学部材100の入射面101をシール材41の幅よりも広く設定することにより、入射面101に対するスリット86の位置に微小なズレが生じた場合にも、紫外線透過部109に対して紫外線光を確実に入射させることができ、高い精度でシール材41に紫外線光を照射することができる。
【0054】
また、接着剤107(紫外線透過部109)に紫外線透過率の高い材料を用いることにより、対向基板20(光学部材100)を通過する際の紫外線光の損失を低減することができ、短時間でシール材41の紫外線硬化を行うことができる。
【0055】
また、対向基板本体105にテーパー面106を設け、対向基板本体105とは異なる屈折率の材料(接着剤108)を充填するだけの簡単な構成で、反射面を容易に得ることができる。
【0056】
なお、上述の実施の形態においては、対向基板本体105の縁辺部にシール材41に傾斜して対向するテーパー面106を形成することにより光学部材100に反射面を設ける一例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、テーパー面106に代えて、シール材41に傾斜して対向する凹状或いは凸状の湾曲面を形成してもよい。
【0057】
図9は第1の参考例に係り、シール材を硬化させる工程における液晶装置及びその製造装置の概略構成を示す説明図である。本例は、紫外線光を集光してシール材41に導く光学レンズ122を用いて光学部材120を構成した点が、上述の第1の実施の形態と異なる。この場合、紫外線光の入射面121は対向基板20の縁辺部に沿って設定されている。従って、シール材41の硬化工程において、対向基板20には、入射面121に沿う形状のスリット86を有する単一の紫外線照射装置80が対向配置される。なお、上述の第1の実施の形態と同様の構成については同符号を付して説明を省略する。
【0058】
対向基板20は、石英等からなる対向基板本体115を有して構成されている。対向基板本体115には、少なくとも表示領域から外れた位置であって、素子基板10に対向する面(内面)側に、凸状の光学レンズ122が形成されている。光学レンズ122は、シール材41が形成される位置に対応して対向基板本体115の縁辺部に沿って形成されるもので、例えばエッチングによって形成されるものである。この場合、光学レンズ122は、第2遮光膜42に対して外側に所定間隔離間して形成される。
【0059】
また、対向基板本体115の外表面において、光学レンズ122に対向する部位は、紫外線光の入射面121として設定されている。この場合、入射面121の幅は、シール材41の幅よりも広く設定されている。
【0060】
また、対向基板本体115の内面には、接着剤123を介してカバーガラス108が貼付されている。接着剤123は、対向基板本体115よりも紫外線透過率が高く、且つ、対向基板本体115とは屈折率の異なる材料で構成されている。
【0061】
そして、光学部材120は、入射面121から入射された紫外線光を光学レンズ122で集光してシール材41に導くようになっている。すなわち、対向基板本体115と接着剤123との屈折率の違いにより、入射面121から入射された紫外線光は、光学レンズ122によって、シール材41側に集光する方向に屈折される。
【0062】
なお、図中符号124は、各画素に対応して表示領域に設定された光学レンズである。
【0063】
次に、シール材41の硬化工程での光学部材120の作用について説明する。
【0064】
図9に示すように、シール材41を介して素子基板10と対向基板20とが貼り合わされ両基板10,20のアライメントが施された状態において、液晶パネルには、対向基板20の外表面に対向して、紫外線照射装置80が対向配置される。その際、遮光マスク82は、スリット86が、光学部材120の入射面121に厳密に対向するよう配置される。
【0065】
その後、紫外線ランプ83から紫外線光が出射されると、出射された紫外線光の一部は、スリット86を通過し、入射面121から対向基板本体115に入射される。そして、入射面121から対向基板本体115に入射された紫外線光は、接着剤123に入射される際に光学レンズ122によって屈折され、シール材41に導かれる。これにより、シール材41は、紫外線硬化される。
【0066】
このように本例によれば、シール材41に沿う光学部材120を対向基板20に設け、この光学部材120を介してシール材41に紫外線光を導くことにより、表示領域上の配向膜への紫外線光の漏洩を低減することができるとともに、紫外線光をシール材41に対して精度よく照射して、シール材を十分に紫外線硬化させることができる。
【0067】
具体的には、光学部材120は、入射面121から入射された紫外線光を集光してシール材41に導くものであるので、紫外線照射装置80によって照射される紫外線光の強度を必要以上に高く設定する必要がなく、たとえ紫外線光の一部が表示領域に照射された場合にも、紫外線光による配向膜16,22へのダメージを最小限に抑えることができる。
【0068】
また、光学部材120が入射面121から入射された紫外線光を集光してシール材41に導く構成としたので、入射面121をシール材41の幅よりも広く設定することができる。
【0069】
また、光学部材120は、入射面121から入射された紫外線光を集光してシール材41に導くものであるので、シール材41に対する紫外線光の照射効率を向上することができ、短時間でシール材41の紫外線硬化を行うことができる。また、対向基板本体115にエッチングを施すだけの簡単な工程により、光学レンズ122を容易に得ることができる。
【0070】
なお、本例においては、対向基板20の内面側に光学レンズ122を設けた一例について説明したが、例えば対向基板20の外表面側に光学レンズを設けてもよく、また、対向基板20の外表面側及び内面側の両方に設けてもよい。また、光学レンズは凸状のものに限定されるものではなく、例えば、凹状のものであってもよい。
【0071】
図10は第2の参考例に係り、シール材を硬化させる工程における液晶装置及びその製造装置の概略構成を示す説明図である。本例は、対向基板本体116よりも紫外線透過率の高い材料で構成された光学部材130を介してシール材41に紫外線光を直接導く点が、上述の第1の実施の形態と異なる。この場合、光学部材130は、対向基板本体116の周面に沿って設けられ、光学部材130の外表面全域が紫外線光の入射面131として設定されている。従って、シール材41の硬化工程において、対向基板20には、入射面131に沿う形状のスリット86を有する単一の紫外線照射装置80が対向配置される。なお、上述の第1の実施の形態と同様の構成については同符号を付して説明を省略する。
【0072】
図10に示すように、対向基板20は、比較的紫外線透過率の低い石英等からなる対向基板本体116を有して構成されている。この場合、対向基板本体116は、少なくとも表示領域に対応して形成されている。本例においては、対向基板本体116の周面は、第2遮光膜42の外側に所定間隔離間する位置に設定されている。
【0073】
対向基板本体116の周面には、紫外線透過率の高い材料で構成された細長な基板からなる光学部材130が貼付されている。光学部材130は、シール材41が形成される位置に対応して設けられるもので、その外表面及び内面は、対向基板本体116と面一に設定されている。また、光学部材130の入射面131の幅は、シール材41の幅よりも広く設定されている。
【0074】
次に、シール材41の硬化工程での光学部材130の作用について説明する。
【0075】
図10に示すように、シール材41を介して素子基板10と対向基板20とが貼り合わされ両基板10,20のアライメントが施された状態において。液晶パネルには、対向基板20の外表面に対向して、紫外線照射装置80が対向配置される。その際、遮光マスク82は、スリット86が、光学部材130の入射面131に厳密に対向するよう配置される。
【0076】
その後、紫外線ランプ83から紫外線光が出射されると、出射された紫外線光の一部は、スリット86を通過し、入射面131から光学部材130に入射される。そして、入射面131から光学部材130に入射された紫外線光は、そのまま、シール材41に導かれる。これにより、シール材41は、紫外線硬化される。
【0077】
このように本例によれば、シール材41に沿う光学部材130を対向基板20に設け、この光学部材130を介してシール材41に紫外線光を導くことにより、表示領域の配向膜への紫外線光の漏洩を低減することができるとともに、紫外線光をシール材41に対して精度よく照射して、シール材を十分に紫外線硬化させることができる。
【0078】
具体的には、対向基板本体116を紫外線透過率の低い材料で構成するとともに、光学部材130を紫外線透過率の高い材料で構成することにより、たとえ、紫外線光の一部が表示領域に入射された場合にも、紫外線光による配向膜16,22へのダメージを最小限に抑えることができる。
【0079】
また、光学部材130は第2遮光膜42の外側に所定間隔離間して設けられるものなので、たとえ紫外線光の一部が入射面131に対して表示領域側にズレた場合にも、この紫外線光を第2遮光膜42によって遮光することができる。
【0080】
従って、スリット86を通過する紫外線光の光束の幅をシール材41に対して比較的広く設定することができ、入射面131への紫外線光の照射精度を向上して、シール材41への紫外線光の照射精度を向上することができる。
【0081】
また、対向基板本体116に紫外線透過率の高い細長な基板を貼り合わせただけの簡単な構成により、光学部材130を容易に得ることができる。
【0082】
なお、上述の各実施の形態においては、対向基板側に光学部材を設けた各例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、素子基板側に光学部材を設けてもよく、また、素子基板及び対向基板の両方に光学部材を設けてもよい。
【0083】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、表示領域上の配向膜への紫外線光の漏洩を低減することができるとともに、紫外線光をシール材に精度よく照射してシール材を十分に紫外線硬化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係るシール材を硬化させる工程における液晶装置及びその製造装置の概略構成を示す説明図
【図2】液晶装置の画素領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路
【図3】TFT基板等の素子基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図
【図4】素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置を、図3のH−H’線の位置で切断して示す断面図
【図5】液晶装置を詳細に示す断面図
【図6】パネル組立工程を示すフローチャート
【図7】対向基板に光学部材を形成する工程を示すフローチャート
【図8】エッチング処理された対向基板のマザーガラス基板を示す平面図
【図9】本発明の第2の実施の形態に係るシール材を硬化させる工程における液晶装置及びその製造装置の概略構成を示す説明図
【図10】本発明の第3の実施の形態に係るシール材を硬化させる工程における液晶装置及びその製造装置の概略構成を示す説明図
【符号の説明】
10…素子基板(液晶基板)
16…配向膜
20…対向基板(液晶基板)
22…配向膜
41…シール材
100…光学部材
101…入射面
106…テーパー面(反射面)
120…光学部材
121…入射面
122…光学レンズ
130…光学部材
131…入射面
Claims (1)
- シール材を介して相互に固着される一対の液晶基板の少なくとも一方に、前記シール材の硬化時に照射される紫外線光を前記シール材に選択的に導く光学部材を具備してなり、
前記光学部材は、前記一対の液晶基板の少なくとも一方の基板の縁辺部に形成されて、該基板の外側及び前記シール材側に向くテーパ面と、該テーパ面上に設けられた、該テーパ面を形成する基板とは屈折率が異なる接着剤と、からなることにより、前記液晶基板の周面側を紫外線光の入射面とし、前記テーパ面を、前記入射面から入射された紫外線光を反射して前記シール材に導く反射面としている、ことを特徴とする液晶装置。
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