JP2007199450A - 液晶装置の製造方法、及び液晶装置、並びに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】表示される画像のコントラストを高め、且つ配向膜の劣化が抑制する。
【解決手段】配向膜16が形成されたTFTアレイ基板10をステージ100の載置下の後、配向膜16の第1部分16a及び第2部分16bの表面全体にUV光を照射する。UV光は、第1部分16aが狙いのプレチルト角で液晶分子の配向を規制できるように最適な照射条件で照射される。次に、汎用のスポットUV光照射装置110から第2部分16bにのみUV光を照射する。これにより、第1部分16aに比べて第2部分16bの改質が進み、第2部分16b及びシール材52の密着力が高められる。
【選択図】図7
【解決手段】配向膜16が形成されたTFTアレイ基板10をステージ100の載置下の後、配向膜16の第1部分16a及び第2部分16bの表面全体にUV光を照射する。UV光は、第1部分16aが狙いのプレチルト角で液晶分子の配向を規制できるように最適な照射条件で照射される。次に、汎用のスポットUV光照射装置110から第2部分16bにのみUV光を照射する。これにより、第1部分16aに比べて第2部分16bの改質が進み、第2部分16b及びシール材52の密着力が高められる。
【選択図】図7
Description
本発明は、例えば、無機材料が蒸着されてなる配向膜を備えた液晶パネル等の液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法、及びそのような液晶装置の製造方法によって製造された液晶装置、並びにそのような液晶装置を具備してなるプロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
この種の液晶装置では、例えばシール材によって貼り合わされた一対の基板間に挟持される液晶層の配向制御は、例えば、一対の基板のうち少なくとも一方の基板における、液晶層と対向する側の基板面上に形成された無機配向膜によって行われる。液晶装置の製造時、無機配向膜は、例えば斜方蒸着法によって形成される。斜方蒸着法により基板面上に形成された無機配向膜には、洗浄、乾燥、及び液晶層のプレチルト角を安定化させるための各種処理が施される。
特許文献1は、光透過率を高めることによって高コントラストで画像を表示する技術を開示している。特許文献2では、無機配向膜の表面に存在するシラノール基に対して、シラン処理剤で疎水性処理する技術が開示されている。
しかしながら、無機配向膜は、膜形成後に施される洗浄、乾燥及び各種処理等によって表面形状或いは表面における化学的性質が変化してしまうことが多く、液晶分子の狙いのプレチルト角に合わせて洗浄、乾燥及び各種処理の処理条件を設定した場合であっても、液晶分子のプレチルト角が狙いのプレチルト角がずれてしまうことが多く、コントラストの低下を招いてしまう技術的問題点がある。加えて、無機配向膜は、装置外部から侵入する水分等の異物によって劣化しやすいため、液晶層を装置外部から確実にシールする必要がある。
よって、本発明は上記問題点等に鑑みてなされたものであり、例えば、コントラストが高められており、且つ無機配向膜の劣化が抑制された信頼性の高い液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法、及び液晶装置、並びにそのような液晶装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。
本発明の第1の発明に係る液晶装置の製造方法は上記課題を解決するために、液晶層を挟持する一対の第1基板及び第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方の基板上に無機材料を蒸着させてなり、前記液晶層の配向状態を規制する配向膜と、前記第1基板及び前記第2基板上で平面的に見て前記液晶層により表示が行われる表示領域の周囲に沿った周辺領域において前記第1基板及び前記第2基板を相互に貼り合わせるシール材とを備えた液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法であって、前記配向膜のうち前記表示領域に形成された第1部分及び前記周辺領域に形成された第2部分にUV光を照射する第1工程と、前記UV光が照射された第2部分に選択的にUV光を照射する第2工程とを備える。
本発明の第1の発明に係る液晶装置の製造方法によれば、一対の第1及び第2基板は、例えば画像表示領域、複数の画素部が配列された画素領域或いは画素アレイ領域等である、表示領域の周囲に沿った周辺領域においてシール材によって相互に貼り合わされている。一対の第1及び第2基板間には、例えば一種又は数種類のネマティック液晶が混合された液晶が挟持されている。液晶装置を駆動させない状態で、無機材料からなる配向膜、即ち無機配向膜における表面形状効果により、液晶層に含まれる液晶分子は一対の第1及び第2基板間で、その配向状態が規制され、所定の配向状態をとる。液晶装置の駆動時には、液晶層に、例えば表示領域を構成する画素毎に画像信号に応じた電圧を印加することにより、液晶分子の配向状態を変えることで、例えば光源から入射される光を変調する。そして、液晶層によって変調された光が表示光として出射されることにより、画像表示が行われる。
無機配向膜は、液晶分子の配向を狙いのプレチルト角で規制できるように無機配向膜を形成する際の形成条件が設定されている。より具体的には、無機配向膜は、典型的には、シリカ(SiO2)等をPVD(Physical Vapor Deposition)法として例えば最適な条件に設定された斜方蒸着法又はイオンビームスパッタ法により形成される。ここで、第1基板面上には、予め無機配向膜の下地として、例えば画素電極を駆動するための配線や駆動素子が作りこまれた積層構造が形成され、この積層構造の最上層に画素電極が画素毎に所定のパターンで島状やストライプ状に形成される。或いは、第2基板面上には、画素毎に開口領域を規定するための遮光膜が作りこまれるとともに、複数の画素電極と対向することになる対向電極が最上層に配置された積層構造を形成するようにしてもよい。
本発明では、第1工程において、無機配向膜のうち、典型的には第1及び第2基板上で平面的に見て中央寄りを占める、表示領域に形成された第1部分及び表示領域の周囲に沿った周辺領域に形成された第2部分にUV光が照射することによって配向膜の表面を洗浄する。より具体的は、例えば第1部分及び第2部分に同時にUV光を照射することによって第1部分及び第2部分を洗浄する。
ここで、第1部分は、配向膜のうち実質的に液晶層の配向を規制する部分であるため、洗浄時にUV光が第1部分に過剰に照射された場合には、第1部分の改質(即ち、表面形状及び化学的性質の変化)が進み、液晶分子のプレチルト角が狙いのプレチルト角からずれてしまい、画像を表示する際のコントラストが低下してしまう場合がある。そこで、本発明では、特に第1工程で照射するUV光における、例えば波長、光強度及び照射時間等の照射条件は、第1部分の表面が過剰に改質されないように実験的或いは理論的に予め最適な条件に調整される。ここで、「最適な条件」とは、液晶分子のプレチルト角が狙いのプレチルト角になるUV光の照射条件を意味する。
第2工程では、UV光が照射された第2部分に選択的にUV光を照射する。ここで、第2部分に選択的にUV光を照射することによって、第2部分の改質、より具体的は、第2部分の表面における化学的性質の変化、或いは物理的形状(表面の凹凸)の発生がより顕著に促進され、周辺領域における第2部分及びシール材の密着力を高めることができる。これにより、第1及び第2基板間をシール材によって強固に接着することが可能になると共に、シール性を高めることができ、実質的に液晶分子の配向を規制する第1部分が、装置外部から侵入する水分等の異物によって劣化することを低減できる。
尚、「選択的に」とは、第1部分にUV光を照射することなく、第2部分にのみUV光を照射することを意味する。第2部分にのみUV光を照射するためには、例えばスポットUV照射法、或いは第2部分に照射されたUV光をスキャンニングすれば容易に第2部分にのみUV光を照射できる。
したがって、第2部分の改質を促進させる際に、実質的に液晶分子の配向を規制する第1部分は改質されることがなく、第1部分の表面状態を狙いのプレチルト角で液晶分子の配向を規制できる状態に維持できる。
以上説明したように、本発明の第1の発明に係る液晶装置の製造方法によれば、高いコントラストで優れた品位の画像を表示できる。加えて、配向膜及びシール材の密着性を向上させることによって、配向膜のうち実質的に液晶分子の配向を規制する部分が劣化することを低減でき、表示領域における画像表示の品質の劣化が低減或いは防止され、信頼性に優れた液晶装置を製造することが可能である。
本発明の第2の発明に係る液晶装置の製造方法は上記課題を解決するために、液晶層を挟持する一対の第1基板及び第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方の基板上に無機材料を蒸着させてなり、前記液晶層の配向状態を規制する配向膜と、前記第1基板及び前記第2基板上で平面的に見て前記液晶層により表示が行われる表示領域の周囲に沿った周辺領域において前記第1基板及び前記第2基板を相互に貼り合わせるシール材とを備えた液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法であって、前記配向膜のうち前記表示領域に形成された第1部分及び前記周辺領域に形成された第2部分にO2プラズマ処理を施す第1工程と、前記O2プラズマ処理が施された第2部分に選択的にO2プラズマ処理を施す第2工程とを備えている。
本発明の第2の発明に係る液晶装置の製造方法によれば、上述の第1の発明に係る液晶装置の製造方法で用いたUV光に代わってO2プラズマ処理を用いて第1部分及び第2部分に処理を施す。
第1工程において、第1部分及び第2部分にO2プラズマ処理を施すことによって無機材料からなる配向膜の表面を洗浄する。O2プラズマ処理の処理条件は、実質的に液晶層の配向を規制する第1部分の表面が過剰に改質されないように実験的或いは理論的に予め最適な条件に調整される。
第2工程では、O2プラズマ処理が施された第2部分に選択的にO2プラズマ処理を施す。これにより、上述の第1の発明に係る液晶装置の製造方法と同様に、第2部分の改質がより顕著に促進され、周辺領域における第2部分及びシール材の密着力を高めることができる。よって、第1及び第2基板間をシール材によって強固に接着することが可能になると共に、シール性を高めることができ、実質的に液晶分子の配向を規制する第1部分が、装置外部から侵入する水分等の異物によって劣化することを低減できる。
したがって、第2部分の改質を促進させる際に、実質的に液晶分子の配向を規制する第1部分は改質されることがなく、第1部分の表面状態を狙いのプレチルト角で液晶分子の配向を規制できる状態に維持できる。
以上説明したように、本発明の第2の発明に係る液晶装置の製造方法によれば、高いコントラストで優れた品位の画像を表示できる。加えて、配向膜及びシール材の密着性を向上させることによって、配向膜のうち実質的に液晶分子の配向を規制する部分が劣化することを低減でき、表示領域における画像表示の品質の劣化が低減或いは防止され、信頼性に優れた液晶装置を製造することが可能である。
本発明の第2の発明に係る液晶装置の製造方法の一の態様では、前記第2工程のプラズマパワーを前記第1工程より大きくしてもよい。
本発明の第1及び第2の発明に係る液晶装置の製造方法の他の態様では、前記第2部分は、シール領域を含んでいてもよい。
本発明の第3の発明に係る液晶装置は上記課題を解決するために、液晶層を挟持する一対の第1基板及び第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方の基板上に無機材料を蒸着させてなり、前記液晶層の配向状態を規制する配向膜と、前記第1基板及び前記第2基板上で平面的に見て前記液晶層により表示が行われる表示領域の周囲に沿った周辺領域において前記第1基板及び前記第2基板を相互に貼り合わせるシール材とを備え、前記配向膜は、前記表示領域に形成されており且つUV光が照射された第1部分と、前記周辺領域に形成されており且つ前記第1部分に比べてUV光の照射量が多い第2部分とを有している。
本発明の第3の発明に係る液晶装置では、「照射量」とは、UV光の波長、光強度、照射時間、照射回数等に応じて改質される第2部分の改質度合いに対応した指標である。言い換えれば、「照射量が多い」とは、UV光が照射されることに起因して第1部分に比べて第2部分の改質度合いが大きいことを意味している。
したがって、本発明の第3の発明に係る液晶装置によれば、上述の第1の発明に係る液晶装置の製造方法と同様に、高いコントラストで優れた品位の画像を表示できる。加えて、配向膜及びシール材の密着性を向上させることによって、配向膜のうち実質的に液晶分子の配向を規制する部分が劣化することを低減でき、表示領域における画像表示の品質の劣化が低減或いは防止され、信頼性に優れた液晶装置を提供できる。
本発明の第3の発明に係る液晶装置の一の態様では、前記第2部分に照射するUV光の強度を前記第1部分に照射するUV光の強度より大きくしてもよい。
本発明の第4の発明に係る液晶装置は上記課題を解決するために、液晶層を挟持する一対の第1及び第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方の基板上に無機材料を蒸着させてなり、前記液晶層の配向状態を規制する配向膜と、前記第1基板及び前記第2基板上で平面的に見て前記液晶層により表示が行われる表示領域の周囲に沿った周辺領域において前記第1基板及び前記第2基板を相互に貼り合わせるシール材とを備え、前記配向膜は、前記表示領域に形成されており且つO2プラズマ処理が施された第1部分と、前記周辺領域に形成されており且つ前記第1部分に比べてO2プラズマ処理による処理回数が多い第2部分とを有している。
本発明の第4の発明に係る液晶装置では、「処理回数」とは、文字通り第2部分がO2プラズマ処理によって処理される回数が、第1部分より多いことを意味しており、より具体的には、例えば第1部分及び第2部分に同時にO2プラズマ処理を施した後、第2部分にのみO2プラズマ処理を施す場合を意味する。
したがって、本発明の第4の発明に係る液晶装置によれば、上述に第2の発明に係る液晶装置の製造方法と同様に、高いコントラストで優れた品位の画像を表示できる。加えて、配向膜及びシール材の密着性を向上させることによって、配向膜のうち実質的に液晶分子の配向を規制する部分が劣化することを低減でき、表示領域における画像表示の品質の劣化が低減或いは防止され、信頼性に優れた液晶装置を提供できる。
本発明の第3又は第4の発明に係る液晶装置の一の態様では、前記シール材は、前記周辺領域の一部であるシール領域において前記第1基板及び前記第2基板を相互に貼り合わせていてもよい。
この態様によれば、シール領域のみにシール材を配置することによって、高いシール性を可能にすると共にシール材を低減することが可能である。
本発明に係る電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の液晶装置を具備してなる。
本発明に係る電子機器によれば、上述した本発明に係る液晶装置を具備してなるので、高品位の表示が可能な、投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明に係る電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置等も実現することが可能である。
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。
以下図面を参照しながら、本発明の第1及び第2の発明に係る液晶装置の製造方法の各実施形態、本発明の第3及び第4の発明に係る液晶装置の製造方法、並びに本発明に係る電子機器の実施形態を説明する。以下の実施形態では、本発明の第3及び第4の発明に係る液晶装置の一例である駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例に挙げる。
<第1実施形態>
(液晶装置の構成)
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図1及び図2を参照して説明する。ここに図1は、TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素とともに対向基板の側からみた平面図であり、図2は、図1のH−H´断面図である。尚、以下で参照する各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
(液晶装置の構成)
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図1及び図2を参照して説明する。ここに図1は、TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素とともに対向基板の側からみた平面図であり、図2は、図1のH−H´断面図である。尚、以下で参照する各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
図1及び図2において、本実施形態の液晶装置1では、本発明の「第1基板」の一例であるTFTアレイ基板10と、本発明の「第2基板」の一例である対向基板20とが対向配置されている。TFTアレイ基板10と対向基板20との間に液晶層50が封入されており、TFTアレイ基板10と対向基板20とは、本発明の「表示領域」の一例である画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されている。
シール材52は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂、又は紫外線・熱併用型硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてTFTアレイ基板10上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材52中には、TFTアレイ基板10と対向基板20との間隔(ギャップ)を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材56が散布されている。図2には、ギャップ材56として略球状のガラスビーズを、シール材52に混入した構成を示してある。尚、ギャップ材56を、シール材52に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域10a又は画像表示領域10aの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。
図1において、シール材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、対向基板20側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜53の一部又は全部は、TFTアレイ基板10側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
周辺領域のうち、シール材52が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域よりも内側に、サンプリング回路7が額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。また、走査線駆動回路104は、この一辺に隣接する2辺に沿ったシール領域の内側に、額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。
TFTアレイ基板10上には、対向基板20の4つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材107で接続するための上下導通端子106が配置されている。これらにより、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的な導通をとることができる。
図2において、TFTアレイ基板10上には、駆動素子である画素スイッチング用のTFT(Thin Film Transistor)や走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図2には図示を省略してあるが、この積層構造の最上層に、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明材料からなる画素電極9aが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。そして、画素電極9a上には、例えばシリカ(SiO2)等の無機材料からなる配向膜16が設けられている。
他方、対向基板20におけるTFTアレイ基板10との対向面上に、遮光膜23が形成されている。遮光膜23は、例えば対向基板20における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板20において、遮光膜23によって非開口領域が規定され、遮光膜23によって区切られた領域が開口領域となる。尚、遮光膜23をストライプ状に形成し、該遮光膜23と、TFTアレイ基板10側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
そして、遮光膜23上に、ITO等の透明材料からなる対向電極21が複数の画素電極9aと対向して形成される。また、遮光膜23上に、画像表示領域10aにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図2には図示しないカラーフィルタが形成されるようにしてもよい。
対向基板20の対向面上における、これら各種の構成要素が作り込まれた積層構造上には、例えばシリカ(SiO2)等の無機材料からなる配向膜22が形成されている。対向電極21は、対向基板20上の積層構造の最上層に配置されると共に、対向電極21上に配向膜22が形成されている。
尚、図1及び図2に示したTFTアレイ基板10上には、これらのデータ線駆動回路101、走査線駆動回路104等に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
液晶装置1が備える配向膜16及び22は、液晶分子を垂直配向モードで配向制御するように、基板面に対して所定の角度で結晶成長させた柱状結晶からなる無機垂直配向膜である。液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、画素電極9aからの電界が印加されていない状態で、一対の配向膜16及び22間で、所定の配向状態をとる。後に詳述するように、配向膜16は、液晶装置1の製造時にUV光が照射され、その表面が洗浄される。本実施形態では、配向膜16は、UV光を照射することによって生じる改質の程度が互いに異なる部分を有している。
次に、図3を参照しながら配向膜16における液晶分子の配向状態を説明する。図3は、図2に対応する液晶装置の断面の一部を拡大して示した拡大図であり、特に、TFTアレイ基板10上に形成された配向膜16による液晶の配向について模式的に示してある。
図3において、TFTアレイ基板10において液晶層50と対向する側の基板面上に、TFT等の各種構成要素が作り込まれた積層構造90が形成されており、積層構造90の最上層に画素電極9aが画素毎に形成されている。そして、画素電極9a上に、無機材料の柱状構造物16aがTFTアレイ基板10の基板面に対して所定の角度をなして配列することにより、無機材料が堆積して、配向膜16が形成されている。このように形成された配向膜16は、表面形状効果により、液晶分子50aの配向状態を垂直配向モードによって規制できる。尚、対向基板20上に形成された配向膜22も、図3を参照して説明した配向膜16による液晶の配向と同様に配向を規制する。
シリカ(SiO2)等の無機材料からなる配向膜16は、外部の水分と反応しやすく、プレチルト角のずれの原因の一つになる。したがって、狙いのプレチルト角で、画像表示領域10aにおける配向膜による配向規制力を維持しながら、液晶装置の内部に水分等の異物を侵入させないようにすること(シール性の向上)が、高品質の画像表示を長期間に亘って行う液晶装置の信頼性を高めるための有効な手段の一つとなる。
そこで、図4に示すように、本実施形態では特に、配向膜16のうち画像表示領域10aに形成された第1部分16aと、シール領域52aに形成された第2部分16bとでは、洗浄時に照射されるUV光の照射量が異なっている。より具体的には、第2部分16bは、第1部分16aに比べてUV光の照射量が多く、第2部分16bは、第1部分16aに比べてUV光を照射することによって生じる改質の度合いが大きい。
シール材52は、第2部分16bに形成されており、第2部分16b及びシール材52の密着力は、第1部分16a及びシール材52を密着させた場合の密着力より格段に高められている。TFTアレイ基板10及び対向基板20は、第2部分16bに密着させたシール材52を相互に張り合わせられているため、配向膜16の洗浄時に第1部分16aに比べて第2部分16bに照射されるUV光の照射量を多くしておくことにより、シール材52及び第2部分16bの接着部分におけるシール性を高めることが可能である。
したがって、液晶装置1の外部から液晶装置1の内部、より具体的には平面的に見てTFTアレイ基板10上におけるシール材52より内側の領域に水分等の異物が侵入することを抑制できる。このような異物の侵入が抑制されたことによって、配向膜16のうち実質的に液晶分子の配向を規制する第1部分16aが序々に劣化していくことを低減できる。
加えて、配向膜16の洗浄時に第1部分16aに照射されるUV光の照射量は第2部分16bに照射される照射量より少ない。より具体的には、第1部分の表面が過剰に改質されないように、UV光における、例えば波長、光強度及び照射時間等の照射条件が、実験的或いは理論的に予め最適な条件に調整される。これにより、第1部分16aは、狙いのプレチルト角で液晶分子の配向を規制でき、液晶装置1による高品位の画像表示が可能になる。
尚、シール材52が形成されるシール領域は、周辺領域の一部であってもよく、周辺領域全体にシール材52を形成する場合に比べてシール性を高めつつ、シール材52の量を減らすことが可能である。したがって、液晶装置を構成する部材に要するコストを下げることが可能である。
次に、以上の如く構成された液晶装置1における回路構成及び動作について、図5を参照して説明する。図5は、液晶装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。
図5において、本実施形態における液晶装置1の画像表示領域10aを構成するマトリクス状に形成された複数の画素には、それぞれ、画素電極9aと当該画素電極9aをスイッチング制御するためのTFT30とが形成されており、画像信号が供給されるデータ線6aが当該TFT30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信号S1、S2、・・・、Snは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
また、TFT30のゲートにゲート電極3aが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線11a及びゲート電極3aにパルス的に走査信号G1、G2、・・・、Gmを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極9aは、TFT30のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるTFT30を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、・・・、Snを所定のタイミングで書き込む。
画素電極9aを介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、・・・、Snは、対向基板20に形成された対向電極21との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射する。
ここで保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極9aと対向電極21との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量70を付加する。この蓄積容量70は、走査線11aに並んで設けられ、固定電位側容量電極を含むとともに定電位に固定された容量電極300を含んでいる。このような回路構成により液晶装置1は画像を表示する。
以上説明したように本実施形態の液晶装置1によれば、配向膜16のうち実質的に液晶分子の配向を規制する第1部分16aによって狙いのプレチルト角で液晶の配向を規制でき、且つ第2部分16bと密着するシール材52によって液晶装置1のシール性が高められている。したがって、本実施形態の液晶装置によれば、高品位の画像を長期に亘って表示できる格別の効果を奏する。
(液晶装置の製造方法)
次に図6及び図7を参照しながら、本発明の第1の発明に係る液晶装置の実施形態であって、上述の液晶装置1を製造するための液晶装置の製造方法を説明する。図6は、液晶装置1の製造プロセスの各工程を説明するためのフローチャートである。図7は、洗浄工程をより詳細に示した工程断面図である。
次に図6及び図7を参照しながら、本発明の第1の発明に係る液晶装置の実施形態であって、上述の液晶装置1を製造するための液晶装置の製造方法を説明する。図6は、液晶装置1の製造プロセスの各工程を説明するためのフローチャートである。図7は、洗浄工程をより詳細に示した工程断面図である。
図6において、TFTアレイ基板10上に、例えば蒸着やスパッタリング等による成膜、エッチングやフォトグラフィ等によるパターンニング、熱処理などによって、データ線6aや走査線11a、TFT30等が作り込まれた積層構造90(図3参照)の最上層に、例えばスパッタリングによりITOから画素電極9aを形成する(ステップS11)。
続いて、配向膜形成工程によって、例えば斜方蒸着法をTFTアレイ基板10に対して施すことで、TFTアレイ基板10における画素電極9aが形成された基板面上にシリカ(SiO2)からなる配向膜16を例えば約40nmの膜厚で形成する(ステップS12)。尚、配向膜16は、異方性スパッタリング等の成膜法によって形成してもよい。斜方蒸着法によれば、蒸着源から発生されたシリカ(SiO2)等の無機材料の蒸気流が、TFTアレイ基板10の基板面上において、積層構造90の最表面と接触することにより、積層構造90上に無機材料が蒸着する。基板面上に蒸着した無機材料の柱状構造物16aが基板面に対して所定の角度をなして配列することで、無機材料が基板面上に堆積する。尚、配向膜16を形成する際には、蒸着角度等の蒸着条件を最適化することによって狙いのプレチルト角で液晶分子の配向を規制できるように配向膜16を形成する。
次に、シラン化合物を溶剤に溶解させたシラン化合物溶液を用いてTFTアレイ基板10が備える配向膜16の液晶層50に面する側の表面を処理する(ステップS13)。表面処理を施すことによって、配向膜16の耐光性を高める効果が得られる。
次に、表面処理された配向膜16にUV光を照射することによって配向膜16の表面を洗浄する(ステップ14)。
ここで、図7を参照しながら配向膜16を洗浄する洗浄工程を詳細に説明する。図7(a)に示すように、配向膜16が形成されたTFTアレイ基板10をステージ100の載置した後、配向膜16の第1部分16a及び第2部分16bの表面全体にUV光を照射する。UV光は、第1部分16aが狙いのプレチルト角で液晶分子の配向を規制できるように最適な照射条件で照射される。
次に、図7(b)に示すように、汎用のスポットUV光照射装置110から第2部分16bにのみUV光を照射する。これにより、第1部分16aに比べて第2部分16bの改質が進み、第2部分16b及びシール材52の密着力が高められる。尚、第2部分16bにのみUV光を照射する際には、図示するようにスポットUV光照射装置110を移動させることによって、平面的な広がりを有する第2部分16bにUV光を照射してもよし、ステージ100を移動させることによって第2部分16bに平面的にUV光を照射してもよい。
尚、本実施形態の液晶装置の製造方法では、このようなUV光の照射方法に限定されるものではなく、第1部分16a及び第2部分16bに同時にUV光を照射するに先んじて、第2部分16bにUV光を照射してもよい。即ち、図7(a)に示したUV光の照射工程及び図7(b)に示したUV光の照射工程は、相前後して行われてもよく、結果的にUV光を照射することによる第2部分16bの改質が第1部分16aより進んでいればよい。
再び、図6において、対向基板20には、ステップ11乃至14と相前後して遮光膜及び対向電極が形成される(ステップ21)と共に、配向膜22が形成される(ステップ22)。TFTアレイ基板10の場合と同様に、対向基板20に形成された配向膜22も、表面処理される(ステップ23)。表面処理された配向膜22は、洗浄(ステップ24)される。尚、配向膜16と同様に、配向膜22のうち画像表示領域10aに形成された部分に比べて画像表示領域10aの周辺領域に形成された部分に対してUV光を多く照射することによって周辺領域における配向膜22及びシール材52の密着力を高めておけば、より一層液晶装置のシール性を高めることが可能である。
その後、洗浄工程まで終了したTFTアレイ基板10及び対向基板20を、TFTアレイ基板10において配向膜16が形成された側と、対向基板20において配向膜22が形成された側とをシール材52を介して貼り合わせる(ステップS31)。
続いて、互いに貼り合わされた状態のTFTアレイ基板10及び対向基板20間に液晶を注入し(ステップS32)、液晶装置1が形成される。
以上説明したように、本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、上述した液晶装置を製造することができる。本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、表示領域における画像表示の品質の劣化を低減或いは防止できる。加えて、配向膜及びシール材の密着性を向上させることによって、配向膜のうち実質的に液晶分子の配向を規制する部分が劣化することを低減でき、信頼性に優れた液晶装置を製造することが可能である。
<第2実施形態>
次に、図8を参照しながら本発明の第2の発明に係る液晶装置の製造方法、及び第4の発明に係る液晶装置の各実施形態を説明する。尚、以下では第1実施形態と共通する部分について共通の参照符号し、詳細な説明は省略する。加えて本実施形態に係る液晶装置の製造方法は、配向膜の洗浄方法が第1実施形態と異なるのみであるため、洗浄工程を主に説明する。
次に、図8を参照しながら本発明の第2の発明に係る液晶装置の製造方法、及び第4の発明に係る液晶装置の各実施形態を説明する。尚、以下では第1実施形態と共通する部分について共通の参照符号し、詳細な説明は省略する。加えて本実施形態に係る液晶装置の製造方法は、配向膜の洗浄方法が第1実施形態と異なるのみであるため、洗浄工程を主に説明する。
図8(a)に示すように、プラズマ処理装置内において、配向膜16が形成されたTFTアレイ基板10をステージ100の載置した後、配向膜16の第1部分16a及び第2部分16bの表面全体にO2プラズマ処理を施す。O2プラズマ処理は、第1部分16aが狙いのプレチルト角で液晶分子の配向を規制できるように最適な条件で施される。
次に、図8(b)に示すように、第2部分16bにのみO2プラズマ処理を施す。これにより、第1部分16aに比べて第2部分16bの改質が進み、第2部分16b及びシール材52の密着力が高められる。
尚、本実施形態に係る液晶装置の製造方法では、第1部分16a及び第2部分16bに同時にO2プラズマ処理を施すに先んじて、第2部分16bにO2プラズマ処理を施しておいてもよい。即ち、図8(a)に示したO2プラズマ処理工程及び図8(b)に示したO2プラズマ処理工程は、相前後して行われてもよく、結果的に第2部分16bに施されるO2プラズマ処理の処理回数が第1部分16aに対するO2プラズマ処理の処理回数より多いことによって、第1部分16aの改質に比べて第2部分16bの改質が進んでいれば、本発明による作用効果が相応に得られる。
以上、本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、表示領域における画像表示の品質の劣化を低減或いは防止できる。加えて、配向膜及びシール材の密着性を向上させることによって、配向膜のうち実質的に液晶分子の配向を規制する部分が劣化することを低減でき、信頼性に優れた液晶装置を製造することが可能である。
尚、本発明の第4の発明に係る液晶装置の一実施形態である液晶装置は、第1実施形態において配向膜16の洗浄時にUV光を照射する工程に代えて、O2プラズマ処理を施すことによって形成されており、このようなO2プラズマ処理を施す場合でも、第2部分16bに施すO2プラズマ処理の処理回数を第1部分16aに施すO2プラズマ処理の処理回数より多くすることによって、上述の液晶装置1と同様の効果を奏する液晶装置を提供できる。
(電子機器)
次に、上述した液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。
次に、上述した液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。
まず、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。図10は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。図10に示されるように、プロジェクタ1100内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット1102が設けられている。このランプユニット1102から射出された投射光は、ライトガイド1104内に配置された4枚のミラー1106および2枚のダイクロイックミラー1108によってRGBの3原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gに入射される。
液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるR、G、Bの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム1112に3方向から入射される。このダイクロイックプリズム1112においては、RおよびBの光が90度に屈折する一方、Gの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ1114を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
ここで、各液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gによる表示像について着目すると、液晶パネル1110Gによる表示像は、液晶パネル1110R、1110Bによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
なお、液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gには、ダイクロイックミラー1108によって、R、G、Bの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
以上のように構成されるプロジェクタ等の電子機器は、上述の液晶装置を備えているため、従来のプロジェクタに比べて高品位の画像を長期間に亘って表示できる優れた信頼性を備えている。
1・・・液晶装置、10・・・TFTアレイ基板、16、22・・・配向膜、16a・・・第1部分、16b・・・第2部分、20・・・対向基板、50・・・液晶層、50a・・・液晶分子
Claims (9)
- 液晶層を挟持する一対の第1基板及び第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方の基板上に無機材料を蒸着させてなり、前記液晶層の配向状態を規制する配向膜と、前記第1基板及び前記第2基板上で平面的に見て前記液晶層により表示が行われる表示領域の周囲に沿った周辺領域において前記第1基板及び前記第2基板を相互に貼り合わせるシール材とを備えた液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法であって、
前記配向膜のうち前記表示領域に形成された第1部分及び前記周辺領域に形成された第2部分にUV光を照射する第1工程と、
前記UV光が照射された第2部分に選択的にUV光を照射する第2工程と
を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 液晶層を挟持する一対の第1基板及び第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方の基板上に無機材料を蒸着させてなり、前記液晶層の配向状態を規制する配向膜と、前記第1基板及び前記第2基板上で平面的に見て前記液晶層により表示が行われる表示領域の周囲に沿った周辺領域において前記第1基板及び前記第2基板を相互に貼り合わせるシール材とを備えた液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法であって、
前記配向膜のうち前記表示領域に形成された第1部分及び前記周辺領域に形成された第2部分にO2プラズマ処理を施す第1工程と、
前記O2プラズマ処理が施された第2部分に選択的にO2プラズマ処理を施す第2工程と
を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 前記第2工程のプラズマパワーを前記第1工程より大きくすること
を特徴とする請求項2に記載の液晶装置の製造方法。 - 前記第2部分は、シール領域を含むこと
を特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の液晶装置の製造方法。 - 液晶層を挟持する一対の第1基板及び第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方の基板上に無機材料を蒸着させてなり、前記液晶層の配向状態を規制する配向膜と、前記第1基板及び前記第2基板上で平面的に見て前記液晶層により表示が行われる表示領域の周囲に沿った周辺領域において前記第1基板及び前記第2基板を相互に貼り合わせるシール材とを備え、
前記配向膜は、前記表示領域に形成されており且つUV光が照射された第1部分と、前記周辺領域に形成されており且つ前記第1部分に比べてUV光の照射量が多い第2部分とを有すること
を特徴とする液晶装置。 - 前記第2部分に照射するUV光の強度を前記第1部分に照射するUV光の強度より大きくすること
を特徴とする請求項5に記載の液晶装置。 - 液晶層を挟持する一対の第1及び第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方の基板上に無機材料を蒸着させてなり、前記液晶層の配向状態を規制する配向膜と、前記第1基板及び前記第2基板上で平面的に見て前記液晶層により表示が行われる表示領域の周囲に沿った周辺領域において前記第1基板及び前記第2基板を相互に貼り合わせるシール材とを備え、
前記配向膜は、前記表示領域に形成されており且つO2プラズマ処理が施された第1部分と、前記周辺領域に形成されており且つ前記第1部分に比べてO2プラズマ処理による処理回数が多い第2部分とを有すること
を特徴とする液晶装置。 - 前記シール材は、前記周辺領域の一部であるシール領域において前記第1基板及び前記第2基板を相互に貼り合わせていること
を特徴とする請求項5から7の何れか一項に記載の液晶装置。 - 請求項5から8の何れか一項に記載の液晶装置を具備してなること
を特徴とする電子機器。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006018605A JP2007199450A (ja) | 2006-01-27 | 2006-01-27 | 液晶装置の製造方法、及び液晶装置、並びに電子機器 |
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Family
ID=38454116
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Cited By (2)
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JP2011064866A (ja) * | 2009-09-16 | 2011-03-31 | Canon Inc | 液晶表示素子の製造方法及びその製造方法にて作成された液晶表示素子を用いた画像表示装置 |
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-
2006
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