JP2010096690A - マスク欠陥レビュー方法及びマスク欠陥レビュー装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】検査結果である複数の欠陥からレビューする欠陥を選択する(S102)。選択された欠陥が設計データ上で繰り返し表現されたパターンの欠陥である場合、設計データ上で繰り返し表現された他のパターンを抽出し(S106)、他のパターンにある欠陥を抽出する(S108)。選択された欠陥の周辺パターンと、抽出された欠陥の周辺パターンとを抽出し(S110)、抽出した周辺パターンが相互に類似するか否かを判別する(S112)。周辺パターンが相互に類似する場合、選択された欠陥と、抽出された欠陥とをグループ化する(S114)。選択された欠陥が実欠陥か擬似欠陥かを判定し(S128)、その判定結果をグループ化された他の欠陥に適用する(S130)。
【選択図】図10
Description
尚、周辺パターンを切り出す所定領域のサイズは、パターン抽出ステップで抽出されるパターンのサイズに応じて適宜設定するようにしてもよい。
120 画像比較部
150 制御部
200 レビュー装置
202 処理部
204 表示部
206 入力部
Claims (5)
- パターンが描画されたマスクの光学画像と基準画像とを比較することで得られた複数の欠陥を取得する取得ステップと、
前記マスクの設計データ上で繰り返し表現された複数のパターンを抽出するパターン抽出ステップと、
前記取得ステップで取得された複数の欠陥の中から、前記パターン抽出ステップで抽出された複数のパターンの対応する位置又はその近傍にある少なくとも2以上の欠陥を抽出する欠陥抽出ステップと、
前記欠陥抽出ステップで抽出された欠陥をグループ化するグループ化ステップと、
前記グループ化ステップでグループ化された欠陥のうちの一の欠陥が実欠陥であるか擬似欠陥であるかを判定し、その判定結果をグループ化された他の欠陥に対して適用する判定ステップとを含むことを特徴とするマスク欠陥レビュー方法。 - パターンが描画されたマスクの光学画像と基準画像とを比較することで得られた複数の欠陥を取得する取得ステップと、
前記マスクの設計データ上で所定の配列規則に従っており、かつ、パターン形状が同一もしくは類似する複数のパターンを抽出するパターン抽出ステップと、
前記取得ステップで取得された複数の欠陥の中から、前記パターン抽出ステップで抽出された複数のパターンの対応する位置又はその近傍にある少なくとも2以上の欠陥を抽出する欠陥抽出ステップと、
前記欠陥抽出ステップで抽出された欠陥をグループ化するグループ化ステップと、
前記グループ化ステップでグループ化された欠陥のうちの一の欠陥が実欠陥であるか擬似欠陥であるかを判定し、その判定結果をグループ化された他の欠陥に対して適用する判定ステップとを含むことを特徴とするマスク欠陥レビュー方法。 - 前記パターン抽出ステップで抽出された前記パターン形状が同一又は類似する複数のパターンは、前記光学画像と基準画像との比較を行うマスク検査装置に入力されるデータ形式のパターンであることを特徴とする請求項2記載のマスク欠陥レビュー方法。
- 前記欠陥抽出ステップは、欠陥を含む所定領域の周辺パターンをそれぞれ切り出すステップと、切り出した周辺パターンが相互に類似するか否かを判別するステップとを有し、前記周辺パターンが相互に類似すると判別された場合に、該欠陥を前記抽出された複数のパターンを構成する図形のそれぞれ対応する位置又はその近傍にある欠陥として抽出することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載のマスク欠陥レビュー方法。
- パターンが描画されたマスクの光学画像と基準画像との比較結果である複数の欠陥を取得する欠陥取得手段と、
前記マスクの設計データ上で繰り返し表現された複数のパターン、又は、前記設計データ上で所定の配列規則に従っており、かつ、パターン形状が同一もしくは類似する複数のパターンを抽出するパターン抽出手段と、
前記欠陥取得手段により取得された複数の欠陥の中から、前記パターン抽出手段により抽出された複数のパターンの対応する位置又はその近傍にある少なくとも2以上の欠陥を抽出する欠陥抽出手段と、
前記欠陥抽出手段により抽出された欠陥をグループ化するグループ化手段と、
前記グループ化手段によりグループ化された欠陥のうちの一の欠陥が実欠陥であるか擬似欠陥であるか判定された結果をグループ化された他の欠陥に対して適用する判定手段とを備えたことを特徴とするマスク欠陥レビュー装置。
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