JP2010066952A - 抵抗膜型入力装置、入力機能付き表示装置および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】一対の基板のうちの一方側のみにおいて抵抗膜に電位勾配を発生させる構成で、同時に押圧された複数個所の位置を特定することができる抵抗膜型入力装置、入力機能付き表示装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】抵抗膜型入力装置１では、第１絶縁基板１０に面状抵抗膜１１を形成し、第１絶縁基板１０に形成した第１給電電極１２ａ、１２ｂ、および第２給電電極１２ｃ、１２ｄを介して面状抵抗膜１１の両端部に電圧を印加することにより、面状抵抗膜１１に電位勾配を形成する。第２絶縁基板２０には、フローティング状態の複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lが形成されており、電位検出部４６は、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lの各々の電位を監視している。
【選択図】図２

Description

本発明は、指やペンなどが接触した１乃至複数の位置を検出可能な抵抗膜型入力装置、該抵抗膜型入力装置を備えた入力機能付き表示装置、および該入力機能付き表示装置を備えた電子機器に関するものである。

携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面に、タッチパネルと称せられる入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された画像を参照しながら、情報の入力が行えるものがある。このような入力装置のうち、抵抗膜型入力装置は、一般に、図９（ａ）に示すように、第１絶縁基板１０および第２絶縁基板２０において互いに対向する基板面に第１面状抵抗膜１６および第２面状抵抗膜２６が形成されている。従って、第２絶縁基板２０の所定個所を押圧すると、第１面状抵抗膜１６と第２面状抵抗膜２６とが局部的に接触する。それ故、帯状の第１給電電極１７ａ、１７ｂを介して第１面状抵抗膜１６にＹ方向の電圧を印加し、第２面状抵抗膜２６を介して電位Ｖｓｙを検出すれば、Ｙ方向での接触位置を検出することができる。また、図９（ｂ）に示すように、帯状の第２給電電極２７ａ、２７ｂを介して第２面状抵抗膜２６にＸ方向の電圧を印加し、第１面状抵抗膜１６を介して電位Ｖｓｘを検出すれば、Ｘ方向での接触位置を検出することができる。

このような抵抗膜型入力装置は、静電容量型入力装置と違って、ペン入力が可能であるなどの利点がある一方、２個所を同時に押圧すると、各接触位置からの抵抗が合成して検出されてしまうため、正確な検出を行なえないという欠点がある。

そこで、図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、第１絶縁基板１０に面状抵抗膜１８およびこの面状抵抗膜１８のＸ方向の両端部に電圧を印加する帯状の給電電極１９ａ、１９ｂを形成する一方、第２絶縁基板２０にＸ方向に延在する複数の帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆをＹ方向に並列させたものが提案されている（特許文献１参照）。

かかる抵抗膜型入力装置では、給電電極１９ａ、１９ｂを介して面状抵抗膜１８に電圧Ｖ₁を印加するとともに、複数の帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆの一方側端部２８１ａ、２８１ｂ・・・２８１ｆに定電位Ｖ₂を順次印加し、複数の帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆの他方側端部２８２ａ、２８２ｂ・・・２８２ｆの電位を順次検出する。このような抵抗膜型入力装置では、第１絶縁基板１０または第２絶縁基板２０が押圧されて面状抵抗膜１８と帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆとが接触した際、接触位置によって、帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆの他方側端部２８２ａ、２８２ｂ・・・２８２ｆと接触位置との間の抵抗値が変化する。従って、帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆの他方側端部２８２ａ、２８２ｂ・・・２８２ｆの他方側端部から検出される電位が変化するので、接触位置のＸ方向の位置を検出することができる。また、複数の帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆがＹ方向に並列しているので、接触位置のＹ方向の位置を検出することができる。さらに、第１絶縁基板１０または第２絶縁基板２０がＹ方向でずれた２位置で同時に押圧された場合でも、２つの押圧位置を特定することができる。
特開２００１−３４４１９号公報

しかしながら、抵抗膜は、膜厚の薄いＩＴＯ膜などで形成されることから、抵抗ばらつきが発生しやすいにもかかわらず、特許文献１に記載の構成では、第１絶縁基板１０および第２絶縁基板２０の双方に抵抗膜を形成する必要がある。このため、抵抗膜の抵抗ばらつきに起因する検出精度の低下が発生しやすいという問題点がある。しかも、特許文献１に記載の構成では、面状抵抗膜１８に比して帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆの抵抗値を１桁から２桁程度、大きくする必要があるため、帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆについては膜厚をかなり薄くする必要がある。それ故、帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆに抵抗ばらつきが発生しやすいので、検出精度の低下が発生しやすいという問題点がある。さらに、特許文献１に記載の構成では、第１絶縁基板１０側の面状抵抗膜１８に加えて、第２絶縁基板２０側の帯状抵抗膜２８ａ、２８ｂ・・・２８ｆにも電圧を印加し、さらに、第２絶縁基板２０側では、電位の検出も行なう。このため、構成が複雑であるという問題点がある。

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、一対の基板のうちの一方側のみにおいて抵抗膜に電位勾配を発生させる構成で、同時に押圧された複数個所の位置を特定することができる抵抗膜型入力装置、かかる抵抗膜型入力装置を備えた入力機能付き表示装置、およびかかる入力機能付き表示装置を備えた電子機器を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明では、第１絶縁基板と、該第１絶縁基板に隙間を介して対向配置された第２絶縁基板と、前記第１絶縁基板において前記第２絶縁基板と対向する基板面に形成された抵抗膜と、前記第１絶縁基板において前記抵抗膜の両端部に電圧を印加する給電電極と、前記第２絶縁基板において前記第１絶縁基板と対向する基板面上に形成され、電気的にフローティング状態の複数の検出用電極膜と、該複数の検出用電極膜のうち、前記第１絶縁基板または前記第２絶縁基板に対する押圧により前記抵抗膜と接触した検出用電極膜を介して当該抵抗膜の接触位置における電位を検出する電位検出部と、を有していることを特徴とする。

本発明では、第１絶縁基板に抵抗膜を形成し、第１絶縁基板に形成した給電電極を介して抵抗膜の両端部に電圧を印加することにより、抵抗膜に電位勾配を形成する。一方、第２絶縁基板には、フローティング状態の複数の検出用電極膜が形成されており、電位検出部は、複数の検出用電極膜の各々の電位を監視している。このため、第１絶縁基板または第２絶縁基板に対する押圧により、複数の検出用電極膜のいずれかが抵抗膜に接触すると、電位検出部は、抵抗膜に接触した検出用電極膜を介して接触位置における抵抗膜の電位を検出することができる。従って、第１絶縁基板または第２絶縁基板に対する押圧位置を特定することができる。ここで、検出用電極膜は複数形成されているため、第１絶縁基板または第２絶縁基板に対して複数個所が押圧された場合でも、押圧された位置が異なる検出用電極膜に相当する位置であれば、電位検出部は、同時に押圧された複数個所の各々の位置を特定することができる。また、本発明では、第１絶縁基板側のみで抵抗膜に電位勾配を発生させるため、第１絶縁基板には抵抗膜を形成する必要があるが、第２絶縁基板に形成する検出用電極膜については、シート抵抗が高い必要がない。それ故、抵抗ばらつきが発生しやすい抵抗膜は、第１絶縁基板の側のみに形成すればよいことになるので、抵抗膜の抵抗ばらつきに発生する検出誤差が発生しにくい。それ故、同時に押圧された複数個所の位置を確実に特定することができる。

本発明において、前記抵抗膜は、前記第１絶縁基板の基板面上でＸ方向および該Ｘ方向に交差するＹ方向に広がる面状抵抗膜であり、前記給電電極は、前記抵抗膜の前記Ｘ方向の両端部に電圧を印加する第１給電電極と、該第１給電電極とは異なるタイミングで前記抵抗膜の前記Ｙ方向の両端部に電圧を印加する第２給電電極と、を備えてなることが好ましい。このように構成すると、第１給電電極と第２給電電極による電圧印加のタイミングをずらすだけで、同時に押圧された複数個所の各々のＸ方向の位置およびＹ方向の位置を特定することができる。

本発明において、前記複数の検出用電極膜は、前記Ｘ方向および前記Ｙ方向のうちの一方方向に延在する複数の帯状電極が前記他方方向に並列してなる構成を採用することがで
きる。

本発明においては、前記抵抗膜は、前記第１絶縁基板の基板面上でＸ方向および該Ｘ方向に交差するＹ方向のうちの一方方向に延在する複数の帯状抵抗膜が他方方向に並列してなる構成を採用してもよい。この場合、前記複数の検出用電極膜は各々、前記他方方向に延在する複数の帯状電極が前記一方方向に並列してなる構成を採用する。また、前記給電電極は、前記複数の帯状抵抗膜の各々の前記一方方向の両端部に接続する複数対の電極であり、前記複数の帯状抵抗膜では、前記Ｘ方向の両端部に電圧が印加される前記帯状抵抗膜が前記他方方向で時系列的に切り換えられる構成を採用する。

本発明において、前記複数の検出用電極膜が各々、帯状に延在している構成を採用した場合、前記複数の検出用電極膜は各々、当該検出用電極膜の延在方向において２分割されていることが好ましい。

この場合、前記複数の検出用電極膜は各々、前記Ｘ方向および前記Ｙ方向の双方に交差する方向に延在するスリットにより２分割されていることが好ましい。

本発明では、前記複数の検出用電極膜において、前記電位検出部により電位が検出される検出用電極膜が時系列的に切り換えられることが好ましい。

本発明において、前記第１絶縁基板、前記第２絶縁基板、前記抵抗膜、および前記検出用電極膜はいずれも透光性を備えていることが好ましい。

この場合、本発明を適用した抵抗膜型入力装置は、入力機能付き表示装置に用いることができ、この場合、前記第１絶縁基板に対して前記第２絶縁基板側とは反対側に画像生成装置が重ねて配置される。

本発明を適用した入力機能付き表示装置は、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器に用いられる。

図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺や数を異ならしめてある。また、以下の説明では、対応関係が分りやすいように、図９および図１０を参照して説明した構成と共通する機能を有する部分には同一の符号を付して説明する。

［実施の形態１］
（全体構成）
図１（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力機能付き表示装置の全体構成を模式的に示す説明図、およびその断面構成を模式的に示す説明図である。なお、図１（ｂ）において、入力装置の各電極、および液晶装置の画素電極や対向電極などについては数などを簡略化して示してある。

図１（ａ）、（ｂ）において、本形態を適用した入力機能付き表示装置１００は、概ね、画像生成装置としての液晶装置５と、この液晶装置５において表示光を出射する側の面に重ねて配置された抵抗膜型入力装置１とを有している。液晶装置５は、透過型、反射型あるいは半透過反射型のアクティブマトリクス型の液晶パネル５ａを備えている。本形態において、液晶パネル５ａは、透過型であるため、表示光の出射側とは反対側にバックライト装置（図示せず）が配置される。液晶装置５において、液晶パネル５ａに対して表示光の出射側には第１偏光板８１が重ねて配置され、その反対側に第２偏光板８２が重ねて配置されている。液晶パネル５ａは、表示光の出射側に配置された透光性の素子基板５０と、この素子基板５０に対して対向配置された透光性の対向基板６０とを備えている。対向基板６０と素子基板５０とは、枠状のシール材７１により貼り合わされており、対向基板６０と素子基板５０との間においてシール材７１で囲まれた領域内に液晶層５５が保持されている。

素子基板５０において、対向基板６０と対向する面には複数の画素電極５８が形成され、対向基板６０において、素子基板５０と対向する面には共通電極６８が形成されている。なお、共通電極６８は素子基板５０の側に形成されることもある。また、対向基板６０が表示光の出射側に配置されることもある。素子基板５０において、対向基板６０の縁から張り出した張出領域５９には駆動用ＩＣ７５がＣＯＧ実装されているとともに、張出領域５９にはフレキシブル基板７３が接続されている。なお、素子基板５０には、素子基板５０上のスイッチング素子と同時に駆動回路を形成することもある。

抵抗膜型入力装置１は、液晶装置５に重ねて配置された抵抗膜型入力パネル２を備えており、抵抗膜型入力パネル２の中央領域が入力領域２ａとして利用される。抵抗膜型入力パネル２は、ガラス板やプラスチック板などからなる透光性の第１絶縁基板１０と、ガラス板、プラスチック板、プラスチックシートなどからなる透光性の第２絶縁基板２０とを備えており、本形態では、第１絶縁基板１０および第２絶縁基板２０のいずれにもガラス板が用いられている。第１絶縁基板１０と第２絶縁基板２０とは、第１面１０ａ、２０ａ同士が所定の隙間を介して対向するように、枠状のシール材３１によって貼り合わされている。なお、第１絶縁基板１０と第２絶縁基板２０との間に所定の隙間を確保するにあたって、第１絶縁基板１０と第２絶縁基板２０との間にスペーサを介在させることもある。

本形態では、第２絶縁基板２０が入力操作側に配置され、第１絶縁基板１０は液晶装置５の側に配置されている。このため、第２絶縁基板２０は、第２面２０ｂを入力操作側に向けており、第１絶縁基板１０は、第２面１０ｂを液晶装置５の側に向けている。このように構成した抵抗膜型入力パネル２では、入力を行なう際、第２絶縁基板２０が撓む必要があるので、第２絶縁基板２０は、第１絶縁基板１０より厚さが薄く、可撓性を備えている。第１絶縁基板１０および第２絶縁基板２０はいずれも、Ｘ方向およびＹ方向に基板辺が延在する矩形形状を有している。

第１絶縁基板１０の第１面１０ａにおいて、第２絶縁基板２０の縁からＹ方向に張り出した張出領域１０ｓにはフレキシブル基板３３が接続されている。かかるフレキシブル基板３３は、抵抗膜型入力パネル２と入力位置検出部（図示せず）などとを電気的に接続するための配線部材である。なお、第２絶縁基板２０にはフレキシブル基板などが接続されていないが、枠状のシール材３１に導電粒子を配合しておけば、第１絶縁基板１０と第２絶縁基板２０との間で電気的な接続を行なうことができる。それ故、第１絶縁基板１０と第２絶縁基板２０との間での給電や信号の授受が可能である。

（抵抗膜型入力装置１の詳細な構成）
図２（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る入力機能付き表示装置１００の抵抗膜型入力装置１において、第１絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図、および第２絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図である。以下の説明では、抵抗膜型入力装置に用いた第１絶縁基板および第２絶縁基板の基板面で互いに交差する方向（本形態では、直交する方向）を各々Ｘ方向およびＹ方向として説明する。なお、図２（ａ）、（ｂ）においては、検出用電極膜の数は減らして図示してある。

本形態の抵抗膜型入力装置１に用いた抵抗膜型入力パネル２では、図２（ａ）に示すように、第１絶縁基板１０の第１面１０ａの入力領域２ａ全体にわたってＩＴＯ膜（Indium Tin Oxide）からなる透光性の面状抵抗膜１１が形成されている。また、第１絶縁基板１０の第１面１０ａには、面状抵抗膜１１においてＸ方向で対向する両端部の各々にＹ方向の略全体にわたって電気的に接続する一対の第１給電電極１２ａ、１２ｂが形成されているとともに、面状抵抗膜１１においてＹ方向で対向する両端部の各々に対してＸ方向の略全体にわたって電気的に接続する一対の第２給電電極１２ｃ、１２ｄが形成されている。第１給電電極１２ａ、１２ｂおよび第２給電電極１２ｃ、１２ｄは、面状抵抗膜１１の端部の上層に積層された金属電極であり、銀や銀合金などからなる。このため、第１給電電極１２ａ、１２ｂおよび第２給電電極１２ｃ、１２ｄは、シート抵抗が例えば０．２Ω／□程度であるのに対して、面状抵抗膜１１のシート抵抗は、例えば５００Ω／□程度であり、第１給電電極１２ａ、１２ｂおよび第２給電電極１２ｃ、１２ｄは、面状抵抗膜１１に比較してシート抵抗がかなり低い。

図２（ｂ）に示すように、第２絶縁基板２０の第１面２０ａにおいて、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１と平面視で重なる領域には、電気的にフローティング状態の複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lが形成されている。ここで、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lは、Ｘ方向に延在する帯状電極が複数、Ｙ方向に等間隔で並列し、かつ、これらの帯状電極がＸ方向で２分割された構成になっている。このため、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lにおいて、検出用電極膜２１ａ、２１lは対になってＸ方向で並び、検出用電極膜２１ｂ、２１ｋは対になってＸ方向で並び、検出用電極膜２１ｃ、２１ｊは対になってＸ方向で並び、検出用電極膜２１ｄ、２１ｉは対になってＸ方向に並び、検出用電極膜２１ｅ、２１ｈは対になってＸ方向で並び、検出用電極膜２１ｆ、２１ｇは対になってＸ方向で並んでいる。

また、Ｘ方向に延在する帯状電極をＸ方向に分割するにあたって、本形態では、Ｘ方向およびＹ方向の双方に対して交差する方向に延在するスリット２１ｓによって分割されている。このため、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lは、いずれも直角三角形の平面形状を備え、かつ、Ｘ方向で隣接する検出用電極膜同士は、互いに斜辺を向けて隣接している。

このように構成した検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lは、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１と同様、ＩＴＯ膜などの透光膜により形成されている。但し、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lは、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１ほど、大きなシート抵抗である必要がない。それ故、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lは、十分な膜厚を備えたＩＴＯ膜からなる。

また、第２絶縁基板２０の第１面２０ａには、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lの各々の端部（三角形の底辺に相当する部分）に電気的に接続する配線２２ａ、２２ｂ・・２２lと、配線２２ａ、２２ｂ・・２２lを介して検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lの各々に電気的に接続する端子２３ａ、２３ｂ・・２３lとが形成されている。

図２（ａ）、（ｂ）に示すように、抵抗膜型入力パネル２に対しては、入力位置検出装置４０が構成されている。入力位置検出装置４０は、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１に電圧を印加するための給電回路４１と、第２絶縁基板２０の側に形成した検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lから信号検出を行なう信号検出回路４５とを備えている。また、入力位置検出装置４０は制御部４８を備えており、制御部４８は、給電回路４１および信号検出回路４５でのスイッチング動作を制御するとともに、信号検出回路４５から出力された信号に基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置を検出するための信号処理を行なう。

かかる入力位置検出装置４０において、給電回路４１は、定電圧電源４２とスイッチ４３とを備えている。スイッチ４３は、制御部４８による制御の下、図２（ａ）に実線で示すように、定電圧電源４２から第１給電電極１２ａ、１２ｂに対して定電圧を供給する状態と、図２（ａ）に点線で示すように、定電圧電源４２から第２給電電極１２ｃ、１２ｄに対して定電圧を供給する状態とに切り換える。従って、面状抵抗膜１１には、Ｘ方向の電圧とＹ方向の電圧とが交互に印加され、Ｘ方向に向かう電位勾配とＹ方向に向かう電位勾配とが交互に生成される。

入力位置検出装置４０において、信号検出回路４５は、電位検出部４６とスイッチ４７とを備えている。スイッチ４７は、制御部４８による制御の下、電位検出部４６と接続する端子２３ａ２３ａ、２３ｂ・・２３lを順次切り換えていく。従って、電位検出部４６は、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lの電位を順次検出することができる。

なお、図２（ａ）、（ｂ）に示すスイッチ４３、４７としては、機械式スイッチおよび電気スイッチのいずれをも用いることができる。

（抵抗膜型入力装置１の動作）
図３は、本発明の実施の形態１に係る抵抗膜型入力装置１の動作を示すタイミングチャート図である。

本形態の抵抗膜型入力装置１において、第１絶縁基板１０では、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、定電圧電源４２から第１給電電極１２ａ、１２ｂに対して定電圧を供給する状態と、定電圧電源４２から第２給電電極１２ｃ、１２ｄに対して定電圧を供給する状態とに時系列的に切り換える。従って、面状抵抗膜１１には、Ｘ方向の電圧とＹ方向の電圧とが交互に印加され、Ｘ方向に向かう電位勾配とＹ方向に向かう電位勾配とが交互に生成される。

また、図３（ｃ）に示すように、面状抵抗膜１１に対してＸ方向の電圧が印加されている期間中、電位検出部４６と接続する端子２３ａ、２３ｂ・・２３lが時系列的に順次切り換わっていくとともに、面状抵抗膜１１に対してＹ方向の電圧が印加されている期間中、電位検出部４６と接続する端子２３ａ、２３ｂ・・２３lが順次切り換わっていく。

従って、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、第２絶縁基板２０において、ペンや指によって位置ＰA1が押圧されて面状抵抗膜１１と検出用電極膜２１ｆとが接触した場合、図３（ｄ）に示すように、電位検出部４６は、時間ＴXA1において、面状抵抗膜１１の位置ＰA1における電位ＶXA1を検出し、制御部４８は、かかる電位ＶXA1のレベルに基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰA1のＸ方向における位置（Ｘ座標）を検出する。また、電位検出部４６は、時間ＴYA1において、面状抵抗膜１１の位置ＰA1における電位ＶYA1を検出し、制御部４８は、かかる電位ＶYA1のレベルに基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰA1のＹ方向における位置（Ｙ座標）を検出する。

ここで、第２絶縁基板２０の位置ＰA1が押圧された際、ペンや指によって第２絶縁基板２０の位置ＰB1も同時に押圧され、面状抵抗膜１１と検出用電極膜２１ｋとが接触したとする。このような場合、電位検出部４６は、時間ＴXB1において、面状抵抗膜１１の位置ＰB1における電位ＶXB1を検出するので、制御部４８は、かかる電位ＶXB1のレベルに基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰB1のＸ方向における位置（Ｘ座標）を検出することができる。また、電位検出部４６は、時間ＴYB1において、面状抵抗膜１１の位置ＰB1における電位ＶYB1を検出し、制御部４８は、かかる電位ＶYB1のレベルに基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰB1のＹ方向における位置（Ｙ座標）を検出する。それ故、第２絶縁基板２０が２個所同時に押圧された場合でも各々の押圧位置を検出することができる。

さらに、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、第２絶縁基板２０において、位置ＰA1を押圧していたペンや指が位置ＰA2に移動し、面状抵抗膜１１と検出用電極膜２１ｇとが接触した状態になったとする。同時に、位置ＰB1を押圧していたペンや指が位置ＰB2に移動し、面状抵抗膜１１と検出用電極膜２１ｊとが接触した状態になったとする。このような場合には、図３（ｅ）に示すように、電位検出部４６は、時間ＴXA2において、面状抵抗膜１１の位置ＰA2における電位ＶXA2を検出し、制御部４８は、かかる電位ＶXA2のレベルに基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰA2のＸ方向における位置（Ｘ座標）を検出する。また、電位検出部４６は、時間ＴYA2において、面状抵抗膜１１の位置ＰA2における電位ＶYA2を検出し、制御部４８は、かかる電位ＶYA2のレベルに基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰA2のＹ方向における位置（Ｙ座標）を検出する。

また、電位検出部４６は、時間ＴXB2において、面状抵抗膜１１の位置ＰB2における電位ＶXB2を検出し、制御部４８は、かかる電位ＶXB2のレベルに基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰB2のＸ方向における位置（Ｘ座標）を検出する。また、電位検出部４６は、時間ＴＹB2において、面状抵抗膜１１の位置ＰB2における電位VYB2を検出し、制御部４８は、かかる電位VYB2のレベルに基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰB2のＹ方向における位置（Ｙ座標）を検出する。

（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の抵抗膜型入力装置１では、第１絶縁基板１０に面状抵抗膜１１を形成し、第１絶縁基板１０に形成した第１給電電極１２ａ、１２ｂ、および第２給電電極１２ｃ、１２ｄを介して面状抵抗膜１１の両端部に電圧を印加することにより、面状抵抗膜１１に電位勾配を形成する。一方、第２絶縁基板２０には、フローティング状態の複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lが形成されており、電位検出部４６は、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lの各々の電位を監視している。このため、第２絶縁基板２０に対する押圧により、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lのいずれかが面状抵抗膜１１に接触すると、電位検出部４６は、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lのうち、面状抵抗膜１１に接触した検出用電極膜を介して接触位置における面状抵抗膜１１の電位を検出することができる。従って、第２絶縁基板２０に対する押圧位置を特定することができる。

ここで、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lは、複数形成されているため、第２絶縁基板２０に対して複数個所が押圧された場合でも、押圧された位置が、異なる検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lに相当する位置であれば、電位検出部４６は、同時に押圧された複数個所の各々の位置を特定することができる。それ故、本形態の抵抗膜型入力装置１は、ペンおよび指のいずれによっても入力可能なタッチパネルでありながら、同時に押圧された複数個所を検出することができる。

また、本形態では、第１絶縁基板１０の側のみで抵抗膜を電位勾配を発生させるため、第１絶縁基板１０には面状抵抗膜１１を形成する必要があるが、第２絶縁基板２０に形成する検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lについては、シート抵抗が高い必要がない。それ故、抵抗ばらつきが発生しやすい抵抗膜は、第１絶縁基板の１０側のみに形成すればよいことになるので、抵抗膜の抵抗ばらつきに発生する検出誤差が発生しにくい。それ故、同時に押圧された複数個所の位置を確実に特定することができる。

また、本形態では、第１絶縁基板１０に対してＸ方向およびＹ方向に広がる面状抵抗膜１１を形成したため、第１給電電極１２ａ、１２ｂによる電圧印加と、第２給電電極１２ｃ、１２ｄによる電圧印加のタイミングをずらすだけで、同時に押圧された複数個所の各々のＸ方向の位置およびＹ方向の位置を特定することができる。

さらに、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lは、Ｘ方向に延在する帯状の電極膜をＸ方向において２分割した構成になっているため、Ｙ方向における位置が等しい２箇所が同時に押圧された場合でも、各押圧個所の各々のＸ方向の位置およびＹ方向の位置を特定することができる。しかも、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lは、Ｘ方向およびＹ方向の双方に交差する方向に延在するスリット２１ｓによりＸ方向に２分割されているため、Ｙ方向にわずかにずれた位置が押圧された場合でも、異なる検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１lを押圧した状態となりやすい。そえ故、Ｙ方向にわずかにずれた２箇所が押圧された場合でも、時に押圧された複数個所の各々のＸ方向の位置およびＹ方向の位置を特定することができる。

［実施の形態２］
図４（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態２に係る入力機能付き表示装置の抵抗膜型入力装置において、第１絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図、および第２絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。

図４（ａ）に示すように、本形態の入力機能付き表示装置においても、実施の形態１と同様、抵抗膜型入力パネルでは、第１絶縁基板１０の第１面１０ａにＩＴＯ膜からなる透光性の面状抵抗膜１１が形成されている。また、第１絶縁基板１０の第１面１０ａには、面状抵抗膜１１においてＸ方向で対向する両端部の各々に対してＹ方向の略全体にわたって電気的に接続する一対の第１給電電極１２ａ、１２ｂが形成されているとともに、面状抵抗膜１１においてＹ方向で対向する両端部の各々に対してＸ方向の略全体にわたって電気的に接続する一対の第２給電電極１２ｃ、１２ｄが形成されている。

図４（ｂ）に示すように、第２絶縁基板２０の第１面２０ａにおいて、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１と平面視で重なる領域には、電気的にフローティング状態の複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆが形成されている。

ここで、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆは、Ｘ方向に延在する同一サイズの帯状電極が複数、Ｙ方向に等間隔で並列した構成になっている。かかる検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆも、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１と同様、ＩＴＯ膜などの透光膜により形成されている。但し、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆは、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１ほど、大きなシート抵抗である必要がない。それ故、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆは、十分な膜厚を備えたＩＴＯ膜からなる。

図４（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態でも、実施の形態１と同様、抵抗膜型入力パネル２に対しては、入力位置検出装置４０が構成されている。入力位置検出装置４０は、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１に電圧を印加するための給電回路４１と、第２絶縁基板２０の側に形成した検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆから信号検出を行なう信号検出回路４５とを備えている。また、入力位置検出装置４０は制御部４８を備えており、制御部４８は、給電回路４１および信号検出回路４５でのスイッチング動作を制御するとともに、信号検出回路４５から出力された信号に基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置を検出する。その他の構成は、実施の形態１と同様であるため、説明を省略する。

このように構成した抵抗膜型入力装置においても、実施の形態１と同様、面状抵抗膜１１には、Ｘ方向の電圧とＹ方向の電圧とが交互に印加され、Ｘ方向に向かう電位勾配とＹ方向に向かう電位勾配とが交互に生成される。また、面状抵抗膜１１に対してＸ方向の電圧が印加されている期間中、電位検出部４６と接続する端子２３ａ、２３ｂ・・２３ｆが順次切り換わっていくともに、面状抵抗膜１１に対してＹ方向の電圧が印加されている期間中、電位検出部４６と接続する端子２３ａ、２３ｂ・・２３ｆが順次切り換わっていく。従って、図３を参照して説明したように、第２絶縁基板２０が押圧されて面状抵抗膜１１と検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆのいずれかが接触すると、電位検出部４６は、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆのうち、面状抵抗膜１１に接触した検出用電極膜を介して接触位置における面状抵抗膜１１の電位を検出する。従って、本形態によれば、第２絶縁基板２０に対して複数個所が押圧された場合でも、押圧された位置が、異なる検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆに相当する位置であれば、電位検出部４６は、同時に押圧された複数個所の各々の位置を特定することができる。

［実施の形態３］
図５（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態３に係る入力機能付き表示装置の抵抗膜型入力装置において、第１絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図、および第２絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１、２と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。

図５（ａ）に示すように、本形態の入力機能付き表示装置においても、実施の形態１、２と同様、抵抗膜型入力パネルでは、第１絶縁基板１０の第１面１０ａにＩＴＯ膜からなる透光性の面状抵抗膜１１が形成されている。また、第１絶縁基板１０の第１面１０ａには、面状抵抗膜１１においてＸ方向で対向する両端部の各々に対してＹ方向の略全体にわたって電気的に接続する一対の第１給電電極１２ａ、１２ｂ（第１給電給電電極）が形成されているとともに、面状抵抗膜１１においてＹ方向で対向する両端部の各々に対してＸ方向の略全体にわたって電気的に接続する一対の第２給電電極１２ｃ、１２ｄ（第２給電給電電極）が形成されている。

図５（ｂ）に示すように、第２絶縁基板２０の第１面２０ａにおいて、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１と平面視で重なる領域には、電気的にフローティング状態の複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆが形成されている。

ここで、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆは、Ｙ方向に延在する同一サイズの帯状電極が複数、Ｘ方向に等間隔で並列した構成になっている。かかる検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆも、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１と同様、ＩＴＯ膜などの透光膜により形成されている。但し、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆは、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１ほど、大きなシート抵抗である必要がない。それ故、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆは、十分な膜厚を備えたＩＴＯ膜からなる。

図５（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態でも、実施の形態１、２と同様、抵抗膜型入力パネル２に対しては、入力位置検出装置４０が構成されている。入力位置検出装置４０は、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１に電圧を印加するための給電回路４１と、第２絶縁基板２０の側に形成した検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆから信号検出を行なう信号検出回路４５とを備えている。また、入力位置検出装置４０は制御部４８を備えており、制御部４８は、給電回路４１および信号検出回路４５でのスイッチング動作を制御するとともに、信号検出回路４５から出力された信号に基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置を検出する。その他の構成は、実施の形態１、２と同様であるため、説明を省略する。

このように構成した抵抗膜型入力装置においても、実施の形態１、２と同様、面状抵抗膜１１には、Ｘ方向の電圧とＹ方向の電圧とが交互に印加され、Ｘ方向に向かう電位勾配とＹ方向に向かう電位勾配とが交互に生成される。また、面状抵抗膜１１に対してＸ方向の電圧が印加されている期間中、電位検出部４６と接続する端子２３ａ、２３ｂ・・２３ｆが順次切り換わっていくともに、面状抵抗膜１１に対してＹ方向の電圧が印加されている期間中、電位検出部４６と接続する端子２３ａ、２３ｂ・・２３ｆが順次切り換わっていく。従って、図３を参照して説明したように、第２絶縁基板２０が押圧されて面状抵抗膜１１と検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆのいずれかが接触すると、電位検出部４６は、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆのうち、面状抵抗膜１１に接触した検出用電極膜を介して接触位置における面状抵抗膜１１の電位を検出する。従って、本形態によれば、第２絶縁基板２０に対して複数個所が押圧された場合でも、押圧された位置が、異なる検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆに相当する位置であれば、電位検出部４６は、同時に押圧された複数個所の各々の位置を特定することができる。

［実施の形態４］
図６（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態４に係る入力機能付き表示装置の抵抗膜型入力装置において、第１絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図、および第２絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１〜３と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。

図６（ａ）に示すように、本形態の入力機能付き表示装置においても、実施の形態１、２と同様、抵抗膜型入力パネルでは、第１絶縁基板１０の第１面１０ａに抵抗膜が形成されている。但し、本形態では、面状の抵抗膜と違って、Ｙ方向に延在する複数の帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆが同一サイズに形成され、これらの帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆは、Ｘ方向に等間隔で並列している。

また、第１絶縁基板１０の第１面１０ａには、複数の帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆのＹ方向の一方側端部に第１給電電極１２１ａ、１２１ｂ・・１２１ｆが接続し、複数の帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆのＹ方向の他方側端部に第２給電電極１２２ａ、１２２ｂ・・１２２ｆが接続している。

さらに、第１絶縁基板１０の第１面１０ａには、第１給電電極１２１ａ、１２１ｂ・・１２１ｆ、および第２給電電極１２２ａ、１２２ｂ・・１２２ｆから配線１３１ａ、１３１ｂ・・１３１ｆ、および配線１３２ａ、１３２ｂ・・１３２ｆが延在している。また、配線１３１ａ、１３１ｂ・・１３１ｆ、および配線１３２ａ、１３２ｂ・・１３２ｆの端部には端子１４１ａ、１４１ｂ・・１４１ｆ、および端子１４２ａ、１４２ｂ・・１４２ｆが形成されている。

本形態でも、複数の帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆはいずれも、薄いＩＴＯ膜からなり、第１給電電極１２１ａ、１２１ｂ・・１２１ｆおよび第２給電電極１２２ａ、１２２ｂ・・１２２ｆは銀や銀合金からなる。

図６（ｂ）に示すように、第２絶縁基板２０の第１面２０ａにおいて、第１絶縁基板１０の側で帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆが配列されている領域に平面視で重なる領域には、電気的にフローティング状態の複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆが形成されている。ここで、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆは、Ｘ方向に延在する帯状電極が複数、Ｙ方向に等間隔で並列した構成になっている。かかる検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆも、第１絶縁基板１０の側に形成した帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆと同様、ＩＴＯ膜などの透光膜により形成されている。但し、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆは、第１絶縁基板１０の側に形成した面状抵抗膜１１ほど、大きなシート抵抗である必要がない。それ故、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆは、十分な膜厚を備えたＩＴＯ膜からなる。また、第２絶縁基板２０の第１面２０ａには、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆの各々の端部に電気的に接続する配線２２ａ、２２ｂ・・２２ｆと、配線２２ａ、２２ｂ・・２２ｆを介して検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆの各々に電気的に接続する端子２３ａ、２３ｂ・・２３ｆとが形成されている。

図６（ａ）、（ｂ）に示すように、抵抗膜型入力パネルに対しては、入力位置検出装置４０が構成されている。入力位置検出装置４０は、第１絶縁基板１０の側に形成した複数の帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆに順次、電圧を印加するための給電回路４１と、第２絶縁基板２０の側に形成した検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆから信号検出を行なう信号検出回路４５とを備えている。また、入力位置検出装置４０は制御部４８を備えており、制御部４８は、給電回路４１および信号検出回路４５でのスイッチング動作を制御するとともに、信号検出回路４５から出力された信号に基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置を検出する。

（抵抗膜型入力装置１の動作）
図７は、本発明の実施の形態４に係る抵抗膜型入力装置１の動作を示すタイミングチャート図である。

図７（ａ）〜（ｆ）に示すように、本形態の抵抗膜型入力装置１において、第１絶縁基板１０では、複数の帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆに順次、時系列的に電圧が印加されていく。また、図７（ｇ）に示すように、複数の帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆの各々に電圧が印加されている各期間において、電位検出部４６と接続する端子２３ａ、２３ｂ・・２３ｆが順次時系列的に切り換わっていく。

従って、図６（ａ）、（ｂ）に示すように、第２絶縁基板２０において、位置ＰCが押圧されて帯状抵抗膜１１ｂと検出用電極膜２１ｂとが接触した場合、図７（ｈ）に示すように、電位検出部４６は、時間ＴCにおいて、面状抵抗膜１１ｂの位置ＰCにおける電位ＶCを検出し、制御部４８は、かかる電位ＶCのレベルに基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰCのＹ方向における位置（Ｙ座標）を検出する。また、制御部４８は、電位が検出されたタイミングが、複数の帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆのいずれに電圧が印加されたタイミングかを判定し、かかる判定結果に基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰCのＸ方向における位置（Ｘ座標）を検出する。

ここで、第２絶縁基板２０の位置ＰCが押圧された際、第２絶縁基板２０の位置ＰDも同時に押圧され、帯状抵抗膜１１ｃと検出用電極膜２１ｄとが接触したとする。このような場合、電位検出部４６は、時間ＴDにおいて、面状抵抗膜１１ｃの位置ＰDにおける電位ＶDを検出し、制御部４８は、かかる電位ＶDのレベルに基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰDのＹ方向における位置（Ｙ座標）を検出する。また、制御部４８は、電位が検出されたタイミングが、複数の帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆのいずれに電圧が印加されたタイミングかを判定し、かかる判定結果に基づいて、第２絶縁基板２０が押圧された位置ＰCのＸ方向における位置（Ｘ座標）を検出する。

（本形態の主な効果）
このように、本形態の抵抗膜型入力装置１では、第１絶縁基板１０に帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆを形成し、第１絶縁基板１０に形成した第１給電電極１２１ａ、１２１ｂ・・１２１ｆ、および第２給電電極１２２ａ、１２２ｂ・・１２２ｆを介して帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆの両端部に電圧を印加することにより、帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆに電位勾配を形成する。一方、第２絶縁基板２０には、フローティング状態の複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆが形成されており、電位検出部４６は、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆの各々の電位を監視している。このため、第２絶縁基板２０に対する押圧により、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆのいずれかが、帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆのいずれかに接触すると、電位検出部４６は、帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆにおける接触位置の電位を検出することができる。また、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆは、複数形成されているため、第２絶縁基板２０に対して複数個所が押圧された場合でも、押圧された位置が、異なる検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆに相当する位置であれば、電位検出部４６は、同時に押圧された複数個所の各々の位置を特定することができる。

また、本形態では、第１絶縁基板１０には帯状抵抗膜１１ａ、１１ｂ・・１１ｆを形成する必要がある一方、第２絶縁基板２０に形成する検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆについては、シート抵抗が高い必要がない。それ故、抵抗ばらつきが発生しやすい抵抗膜は、第１絶縁基板の１０側のみに形成すればよいことになるので、抵抗膜の抵抗ばらつきに発生する検出誤差が発生しにくい。それ故、同時に押圧された複数個所の位置を確実に特定することができる。

なお、本形態でも、図２（ｂ）を参照して説明したように、検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｆをＸ方向で２分割した構成を採用してもよい。

［その他の構成］
上記の実施の形態１〜４では、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｍから電位検出部４６への出力をスイッチ４７により時系列的に行なう構成であったが、複数の検出用電極膜２１ａ、２１ｂ・・２１ｍから電位検出部４６への出力を並行して同時に行なってもよい。

上記の実施の形態１〜４では、画像生成装置としての液晶装置５を用いたが、有機エレクトロルミネッセンス装置やプラズマ表示装置を画像生成装置として用いてもよい。

［電子機器への搭載例］
次に、上述した実施形態に係る入力機能付き表示装置１００を適用した電子機器について説明する。図８（ａ）に、入力機能付き表示装置１００を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ２０００は、表示ユニットとしての入力機能付き表示装置１００と本体部２０１０を備える。本体部２０１０には、電源スイッチ２００１及びキーボード２００２が設けられている。図８（ｂ）に、入力機能付き表示装置１００を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１及びスクロールボタン３００２、並びに表示ユニットとしての入力機能付き表示装置１００を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、入力機能付き表示装置１００に表示される画面がスクロールされる。図８（ｃ）に、入力機能付き表示装置１００を適用した情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）の構成を示す。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４００１及び電源スイッチ４００２、並びに表示ユニットとしての入力機能付き表示装置１００を備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が入力機能付き表示装置１００に表示される。

なお、入力機能付き表示装置１００が適用される電子機器としては、図８に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、銀行端末などの電子機器などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した入力機能付き表示装置１００が適用可能である。

（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力機能付き表示装置の全体構成を模式的に示す説明図、およびその断面構成を模式的に示す説明図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る入力機能付き表示装置の抵抗膜型入力装置において、第１絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図、および第２絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図である。 本発明の実施の形態１に係る抵抗膜型入力装置の動作を示すタイミングチャート図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態２に係る入力機能付き表示装置の抵抗膜型入力装置において、第１絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図、および第２絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態３に係る入力機能付き表示装置の抵抗膜型入力装置において、第１絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図、および第２絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態４に係る入力機能付き表示装置の抵抗膜型入力装置において、第１絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図、および第２絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図である。 本発明の実施の形態４に係る抵抗膜型入力装置の動作を示すタイミングチャート図である。 本発明に係る入力機能付き表示装置を用いた電子機器の説明図である。 従来の抵抗膜型入力装置において接触位置を検出する原理を示す説明図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、別の従来の抵抗膜型入力装置において、第１絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図、および第２絶縁基板側の構成を模式的に示す説明図である。

符号の説明

１・・入力装置、２・・抵抗膜型入力パネル、２ａ・・入力領域、５・・液晶装置（画像生成装置）、１０・・第１絶縁基板、１１・・面状抵抗膜、１１ａ〜１１ｆ・・帯状抵抗膜、２０・・第２絶縁基板、２１ａ〜２１l・・検出用電極膜、４０・・入力位置検出装置、４５・・信号検出回路、４６・・電位検出部、１００・・入力機能付き表示装置

Claims (10)

1. 第１絶縁基板と、
   該第１絶縁基板に隙間を介して対向配置された第２絶縁基板と、
   前記第１絶縁基板において前記第２絶縁基板と対向する基板面上に形成された抵抗膜と、
   前記第１絶縁基板において前記抵抗膜の両端部に電圧を印加する給電電極と、
   前記第２絶縁基板において前記第１絶縁基板と対向する基板面上に形成され、電気的にフローティング状態の複数の検出用電極膜と、
   該複数の検出用電極膜のうち、前記第１絶縁基板または前記第２絶縁基板に対する押圧により前記抵抗膜と接触した検出用電極膜を介して当該抵抗膜の接触位置における電位を検出する電位検出部と、
   を有していることを特徴とする抵抗膜型入力装置。
2. 前記抵抗膜は、前記第１絶縁基板の基板面上でＸ方向および該Ｘ方向に交差するＹ方向に広がる面状抵抗膜であり、
   前記給電電極は、前記抵抗膜の前記Ｘ方向の両端部に電圧を印加する第１給電電極と、該第１給電電極とは異なるタイミングで前記抵抗膜の前記Ｙ方向の両端部に電圧を印加する第２給電電極と、を備えてなることを特徴とする請求項１に記載の抵抗膜型入力装置。
3. 前記複数の検出用電極膜は、前記Ｘ方向および前記Ｙ方向のうちの一方方向に延在する複数の帯状電極が他方方向に並列してなることを特徴とする請求項２に記載の抵抗膜型入力装置。
4. 前記抵抗膜は、前記第１絶縁基板の基板面上でＸ方向および該Ｘ方向に交差するＹ方向のうちの一方方向に延在する複数の帯状抵抗膜が他方方向に並列してなり、
   前記複数の検出用電極膜は各々、前記他方方向に延在する複数の帯状電極が前記一方方向に並列してなり、
   前記給電電極は、前記複数の帯状抵抗膜の各々の前記一方方向の両端部に接続する複数対の電極であり、
   前記複数の帯状抵抗膜では、前記Ｘ方向の両端部に電圧が印加される帯状抵抗膜が前記他方方向で時系列的に切り換えられることを特徴とする請求項１に記載の抵抗膜型入力装置。
5. 前記複数の検出用電極膜は各々、当該検出用電極膜の延在方向において２分割されていることを特徴とする請求項３または４に記載の抵抗膜型入力装置。
6. 前記複数の検出用電極膜は各々、前記Ｘ方向および前記Ｙ方向の双方に交差する方向に延在するスリットにより２分割されていることを特徴とする請求項５に記載の抵抗膜型入力装置。
7. 前記複数の検出用電極膜において、前記電位検出部により電位が検出される検出用電極膜が時系列的に切り換えられることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の抵抗膜型入力装置。
8. 前記第１絶縁基板、前記第２絶縁基板、前記抵抗膜、および前記検出用電極膜はいずれも透光性を備えていることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載の抵抗膜型入力装置。
9. 請求項１乃至８の何れか一項に記載の抵抗膜型入力装置を備えた入力機能付き表示装置であって、
   前記第１絶縁基板に対して前記第２絶縁基板が位置する側とは反対側、あるいは前記第２絶縁基板に対して前記第１絶縁基板が位置する側とは反対側に画像生成装置が重ねて配置されていることを特徴とする入力機能付き表示装置。
10. 請求項９に記載の入力機能付き表示装置を備えていることを特徴とする電子機器。

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