JP2010063954A - 液体処理装置 - Google Patents
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Abstract
オゾン処理が適する除去対象と、後段の消毒工程が適する除去対象を分け、それぞれの処理工程により、水質目標を達成し、全体工程の運転コストを低減する。
【解決手段】
オゾン接触槽2の被処理水と反応するオゾンガスを注入するオゾン発生装置3,オゾン接触槽2に接続された流路の色度計8,流路に接続され紫外線ランプを具備した紫外線照射槽6又は流路に塩素剤を注入する塩素注入装置11,オゾン発生装置3,紫外線ランプ又は塩素注入装置11の制御を行う制御装置9に入力を行う入力手段10を備え、入力手段10からの第1の水質項目の目標値と水質計で計測された第1の水質項目の偏差によりオゾン発生装置3の出力を制御し、入力手段10からの第2の水質項目の目標値に基づいて、第1の水質項目と紫外線照射量との関係又は、第1の水質項目と塩素剤の注入率との関係により紫外線ランプの出力又は塩素注入装置11の塩素剤の注入率を制御する。
【選択図】図1
Description
2 オゾン接触槽
3 オゾン発生装置
4 オゾンガス
5,7 流路
6 紫外線照射槽
8 色度計
9 制御手段
10 入力手段
11 塩素注入装置
Claims (7)
- 被処理水が流入する第1の処理工程と、前記第1の処理工程に接続された流路に設けられた水質計と、該流路に接続された第2の処理工程と、前記第1の処理工程の水処理強度,第2の処理工程の水処理強度の制御を行う制御装置と、該制御装置に入力を行う入力装置とを備え、前記制御装置は、入力装置から入力された第1の水質項目の目標値と前記水質計で計測された第1の水質項目の測定値に基づいて前記第1の処理工程の水処理強度を制御し、前記入力装置から入力された第2の水質項目の目標値に基づいて、前記第1の水質項目と第2の処理工程における水処理との関係により前記第2の処理工程の水処理強度を制御する液体処理装置。
- 前記第1の処理工程がオゾン処理工程であり、前記第1の処理工程の水処理強度がオゾン注入率である請求項1に記載の液体処理装置。
- 前記第2の処理工程が紫外線照射工程であって、前記第2の処理工程の水処理強度が紫外線ランプの出力、又は前記第2の処理工程が塩素注入工程であって、前記第2の処理工程の水処理強度が塩素注入率である請求項1あるいは2に記載の液体処理装置。
- 前記水質計が色度計,前記第1の水質項目が色度,前記第2の水質項目が大腸菌・大腸菌群数である請求項1から3のいずれかに記載の液体処理装置。
- 前記水質計が濁度計であって、前記第1の水質項目が濁度、又は前記水質計が臭気計であって前記第1の水質項目が臭気である請求項1から3のいずれかに記載の液体処理装置。
- 前記水質計が有機物濃度計であって、前記第1の水質項目が有機物濃度であり、予め得ておいた有機物濃度と、色度,濁度,臭気のいずれか1つとの相関を用いる請求項1から3のいずれかに記載の液体処理装置。
- 第1の処理工程に、オゾン微細気泡を用いる請求項1から3のいずれかに記載の液体処理装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008230400A JP5142895B2 (ja) | 2008-09-09 | 2008-09-09 | 液体処理装置 |
CN200910166765.1A CN101671084B (zh) | 2008-09-09 | 2009-08-18 | 液体处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008230400A JP5142895B2 (ja) | 2008-09-09 | 2008-09-09 | 液体処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010063954A true JP2010063954A (ja) | 2010-03-25 |
JP5142895B2 JP5142895B2 (ja) | 2013-02-13 |
Family
ID=42018543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008230400A Active JP5142895B2 (ja) | 2008-09-09 | 2008-09-09 | 液体処理装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5142895B2 (ja) |
CN (1) | CN101671084B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011115309A1 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-22 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing gas barrier film, and gas barrier film thus manufactured |
JP2012045482A (ja) * | 2010-08-26 | 2012-03-08 | Takuma Co Ltd | 水処理方法およびそれを用いた水処理システム |
CN115838201A (zh) * | 2023-02-17 | 2023-03-24 | 清华大学 | 一种紫外线前处理方法及系统 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103466779B (zh) * | 2013-09-27 | 2015-02-11 | 广西贵港市蓝月亮水处理环保科技有限公司 | 一种污水脱色方法 |
WO2016121618A1 (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-04 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
CN106630279A (zh) * | 2016-12-15 | 2017-05-10 | 北京城市排水集团有限责任公司 | 城市污水再生利用病原微生物控制装置及运行方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07185575A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Meidensha Corp | オゾン処理装置の制御方法 |
JP2000051875A (ja) * | 1998-08-05 | 2000-02-22 | Fuji Electric Co Ltd | オゾンと紫外線による水処理運転制御方法 |
JP2001029966A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-06 | Ebara Corp | 内分泌攪乱物質又は発癌性物質を含有する有機性廃水の処理方法及び処理装置 |
JP2006224065A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Kobe Steel Ltd | 廃水処理方法及びその装置 |
JP2006223935A (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-31 | Hitachi Ltd | 中水製造装置および中水製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005305328A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-04 | Toshiba Corp | 水処理制御システム |
-
2008
- 2008-09-09 JP JP2008230400A patent/JP5142895B2/ja active Active
-
2009
- 2009-08-18 CN CN200910166765.1A patent/CN101671084B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07185575A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Meidensha Corp | オゾン処理装置の制御方法 |
JP2000051875A (ja) * | 1998-08-05 | 2000-02-22 | Fuji Electric Co Ltd | オゾンと紫外線による水処理運転制御方法 |
JP2001029966A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-06 | Ebara Corp | 内分泌攪乱物質又は発癌性物質を含有する有機性廃水の処理方法及び処理装置 |
JP2006223935A (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-31 | Hitachi Ltd | 中水製造装置および中水製造方法 |
JP2006224065A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Kobe Steel Ltd | 廃水処理方法及びその装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011115309A1 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-22 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing gas barrier film, and gas barrier film thus manufactured |
JP2012045482A (ja) * | 2010-08-26 | 2012-03-08 | Takuma Co Ltd | 水処理方法およびそれを用いた水処理システム |
CN115838201A (zh) * | 2023-02-17 | 2023-03-24 | 清华大学 | 一种紫外线前处理方法及系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101671084A (zh) | 2010-03-17 |
CN101671084B (zh) | 2014-01-15 |
JP5142895B2 (ja) | 2013-02-13 |
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A621 | Written request for application examination |
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A521 | Written amendment |
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