JP2010059136A5 - - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを含有する日焼け止め化粧料において、
（１）セバシン酸ジイソプロピル、トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル、テトラ２−エチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、コハク酸ジエチルヘキシル、２−エチルヘキサン酸セチル、炭素数１２〜１５のアルキルベンゾエート、イソノナン酸イソノニルの一種又は二種以上からなるエステル油を配合し、
（２）酸化亜鉛及び／又は酸化チタンを配合せず、
（３）さらに油中水型又は水中油型の乳化組成物に調製すること
を特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
（１）セバシン酸ジイソプロピル、トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル、テトラ２−エチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、コハク酸ジエチルヘキシル、２−エチルヘキサン酸セチル、炭素数１２〜１５のアルキルベンゾエート、イソノナン酸イソノニルの一種又は二種以上からなるエステル油を配合し、
（２）酸化亜鉛及び／又は酸化チタンを配合せず、
（３）さらに油中水型又は水中油型の乳化組成物に調製すること
を特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
「ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル」
本発明に用いるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルは、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤である。本発明においては、市販品（ユビナールＡ plus：ＢＡＳＦ製）を好ましく利用できる。
本発明に用いるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルは、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤である。本発明においては、市販品（ユビナールＡ plus：ＢＡＳＦ製）を好ましく利用できる。
Claims (5)
- ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルを含有する日焼け止め化粧料において、
（１）セバシン酸ジイソプロピル、トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル、テトラ２−エチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、コハク酸ジエチルヘキシル、２−エチルヘキサン酸セチル、炭素数１２〜１５のアルキルベンゾエート、イソノナン酸イソノニルの一種又は二種以上からなるエステル油を配合し、
（２）酸化亜鉛及び／又は酸化チタンの粉末を配合せず、
（３）さらに油中水型又は水中油型の乳化組成物に調製すること
を特徴とする日焼け止め化粧料。 - 前記ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルに対する前記エステル油の質量比が２以上であることを特徴とする請求項１記載の日焼け止め化粧料。
- 前記酸化亜鉛及び／又は酸化チタンの粉末が平均粒子径１０ｎｍ〜１００ｎｍの超微粒子粉末であることを特徴とする請求項１又は２記載の日焼け止め化粧料。
- さらに（４）オクチルメトキシシンナメート及び／又はオクトクリレンを配合することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項記載の日焼け止め化粧料。
- 前記ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルの配合量が、日焼け止め化粧料全量に対して１〜５質量％であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項記載の日焼け止め化粧料。
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Applications Claiming Priority (1)
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| JP2008229231A JP2010059136A (ja) | 2008-09-08 | 2008-09-08 | 日焼け止め化粧料 |
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Family
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Family Applications (1)
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2009
- 2009-09-03 WO PCT/JP2009/004344 patent/WO2010026755A1/ja active Application Filing
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