JP2010019985A - 単位粘着シート集合体、抜型および抜型の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】前記セパレーター3に、少なくとも一部の前記区画ライン4の位置に対応して、前記セパレーター3を断続的に貫通する切断ラインである切り離しライン6を形成する。
【選択図】図1
Description
前記セパレーターに、少なくとも一部の前記区画ラインの位置に対応して、前記セパレーターを断続的に貫通する切断ラインである切り離しラインが形成されていることを特徴とする。
前記区画ラインとは別に、少なくとも表面基材を貫通する連続した切断ラインで、前記粘着シートを複数に分割する分割ラインが形成されており、前記セパレーターに、前記分割ラインの位置に対応して、前記セパレーターを断続的に貫通する切り離しラインが形成されていることを特徴とする。
前記粘着剤層を覆って前記セパレーターが付設された状態での前記表面基材側からの抜き加工時に、少なくとも前記表面基材を貫通するが前記セパレーターは貫通しない凸条である半抜き刃が前記区画ラインに対応する位置に形成されており、少なくとも一部の前記半抜き刃の頂部長さ方向に沿って、前記抜き加工時に前記セパレーターを貫通する凸刃が断続的に突設されていることを特徴とする。
前記粘着剤層を覆って前記セパレーターが付設された状態での前記表面基材側からの抜き加工時に、少なくとも前記表面基材を貫通するが前記セパレーターは貫通しない凸条である半抜き刃が前記区画ラインおよび前記分割ラインに対応する位置に形成されており、少なくとも前記分割ラインに対応する位置に形成された前記半抜き刃の頂部長さ方向に沿って、前記抜き加工時に前記セパレーターを貫通する凸刃が断続的に突設されていることを特徴とする。
本発明に係る第一の抜型の製造方法であって、
基板の表面に、少なくとも一部の前記区画ラインに対応する位置に沿って、断続的な第一のレジスト膜を形成する工程と、
前記基板の表面に、前記第一のレジスト膜上を含む総ての前記区画ラインに対応する位置に沿って、連続的な第二のレジスト膜を形成する工程と、
前記第二のレジスト膜の形成後、前記基板の表面をエッチング処理して、第二のレジスト膜に沿った凸状部を形成する工程と、
前記エッチングの後、前記第二のレジスト膜を除去する工程と、
前記第二のレジスト膜の除去後、前記第一のレジスト膜が残留した前記基板の表面を再度エッチング処理工程と
を順次施すことで、前記粘着剤層を覆って前記セパレーターが付設された状態での前記表面基材側からの抜き加工時に、少なくとも前記表面基材を貫通するが前記セパレーターは貫通しない凸条である半抜き刃を前記区画ラインに対応する位置に形成し、少なくとも一部の前記半抜き刃の頂部長さ方向に沿って、前記抜き加工時に前記セパレーターを貫通する凸刃を断続的に形成することを特徴とする。
基板の表面に、少なくとも前記分割ラインに対応する位置に沿って、断続的な第一のレジスト膜を形成する工程と、
前記基板の表面に、前記第一のレジスト膜上を含む総ての前記区画ラインおよび前記分割ラインに対応する位置に沿って、連続的な第二のレジスト膜を形成する工程と、
前記第二のレジスト膜の形成後、前記基板の表面をエッチング処理して、第二のレジスト膜に沿った凸状部を形成する工程と、
前記エッチングの後、前記第二のレジスト膜を除去する工程と、
前記第二のレジスト膜の除去後、前記第一のレジスト膜が残留した前記基板の表面を再度エッチング処理工程と
を順次施すことで、前記粘着剤層を覆って前記セパレーターが付設された状態での前記表面基材側からの抜き加工時に、少なくとも前記表面基材を貫通するが前記セパレーターは貫通しない凸条である半抜き刃を前記区画ラインおよび前記分割ラインに対応する位置に形成し、少なくとも前記分割ラインに対応する位置に形成された前記半抜き刃の頂部長さ方向に沿って、前記抜き加工時に前記セパレーターを貫通する凸刃を断続的に形成することを特徴とする。
まず、図1を参照して、第一の単位粘着シート集合体の一例について説明する。
次に、図2を参照して、第二の単位粘着シート集合体の一例について説明する。
図3及び図4と共に、すでに説明した図1を参照して、第一の抜型の一例について説明する。
図5と共に、すでに説明した図1及び図4を参照して、第二の抜型の一例について説明する。
図6及び図7と共に、すでに説明した図1、図3及び図4を参照して、第一の抜型の製造方法の一例について説明する。
図6(a)及び図7(a)に示されるように、基板12を洗浄した後、その表面に第一のレジストを塗布し、露光し、現像することで、第一のレジスト膜21を形成する。このレジスト膜21は、図3に示される全抜き刃13に対応する位置と、ミシン刃14に対応する位置(図1の区画ライン4に対応する位置)とに形成する。全抜き刃13に対応する位置の第一のレジスト膜21は、線状に連続するパターンに形成し、ミシン刃14に対応する位置の第一のレジスト膜21は破線状のパターンに断続的に形成する。
次に、基板12の表面に第二のレジストを塗布し、露光し、現像することで、図6(b)及び図7(b)に示されるように、第一のレジスト膜21上から、直線状に連続するパターンの第二のレジスト膜22を、図3に示される全抜き刃13に対応する位置と、ミシン刃14に対応する位置とに形成する。第二のレジスト膜22としては、第一のレジスト膜21を溶解させない溶剤で溶解させることができる材質のものを選択することが好ましい。
次に、基板12の表面にエッチング処理を施し、図6(c)に示されるように、ほぼ第二のレジスト膜22に沿った凸状部23を形成する。この凸状部23は、図4で説明した半抜き刃15より若干高い高さのもとして形成する。
上記凸状部23を形成した後、図6(d)に示されるように、第二のレジスト膜22を除去する。この第二のレジスト膜22の除去は、第一のレジスト膜21は溶解させずに第二のレジスト膜22を溶解させることができる溶剤で洗浄することで容易に行うことができる。これにより、基板12上のレジストパターンは図7(a)の状態に戻る。
基板12の表面に第一のレジスト膜21のみが残留した状態で、再度基板12の表面にエッチング処理を施す。これにより、図6(c)に示される凸状部23において、全抜き刃13に対応する位置(図6の左側)は、第一のレジスト膜21でカバーされているので高さが若干増し、全抜き刃13が形成される。また、ミシン刃14に対応する位置(図6の右側)の第一のレジスト膜21で覆われた部分も高さが若干増して、図4に示される凸刃16が形成される。これらと同時に、ミシン刃14に対応する位置(図6の右側)の第一のレジスト膜21で覆われていない部分の高さは若干減少し、図4に示される半抜き刃15の高さとなって、全体としてミシン刃14が形成される。また、第一または第二のレジスト膜21,22のレジストパターンの太さを調整することにより、得られる凸刃16と半抜き刃15間の刃高差を調整しやすくすることができる。
図8及び図9と共に、すでに説明した図2、図5及び図4を参照して、第二の抜型の製造方法の一例について説明する。
図8(a)及び図9(a)に示されるように、基板12を洗浄した後、その表面に第一のレジストを塗布し、露光し、現像することで、第一のレジスト膜21を形成する。このレジスト膜21は、図5に示される全抜き刃13に対応する位置と、ミシン刃14に対応する位置(図2の分割ライン7に対応する位置)とに形成する。全抜き刃13に対応する位置の第一のレジスト膜21は、線状に連続するパターンに形成し、ミシン刃14に対応する位置の第一のレジスト膜21は破線状のパターンに断続的に形成する。
次に、基板12の表面に第二のレジストを塗布し、露光し、現像することで、図8(b)及び図9(b)に示されるように、第一のレジスト膜21上から、直線状に連続するパターンの第二のレジスト膜22を、図5に示される全抜き刃13に対応する位置と、ミシン刃14に対応する位置と、半抜き刃17に対応する位置(図2の区画ライン4に対応する位置)とに形成する。
次に、基板12の表面にエッチング処理を施し、図8(c)に示されるように、ほぼ第二のレジスト膜22に沿った凸状部23を形成する。この凸状部23は、図4で説明した半抜き刃15部分より若干高い高さのもとして形成する。
上記凸状部23を形成した後、図8(d)に示されるように、第二のレジスト膜22を除去し、基板12上のレジストパターンを図9(a)の状態に戻す。
基板12の表面に第一のレジスト膜21のみが残留した状態で、再度基板12の表面にエッチング処理を施す。これにより、図8(c)に示される凸状部23において、全抜き刃13に対応する位置(図8の左側)は、第一のレジスト膜21でカバーされているので高さが若干増し、全抜き刃13が形成される。また、ミシン刃14に対応する位置(図8の右側)の第一のレジスト膜21で覆われた部分も高さが若干増して、図4に示される凸刃16が形成される。これらと同時に、ミシン刃14に対応する位置(図8の中央)の第一のレジスト膜21で覆われていない部分の高さは若干減少し、図4に示される半抜き刃15の高さとなって、全体としてミシン刃14が形成される。さらに、図8(c)に示される凸状部23において、半抜き刃17に対応する位置(図8の中央)は、第一のレジスト膜21で覆われていないので、高さが若干減少し、図4に示される半抜き刃15と同じ高さとなって半抜き刃17が形成される。
本発明によれば、図10に示されるような第三の抜型11を容易に製造ずることができる。この第三の抜型11は、図5に示される抜型11のミシン刃14を取り除いた構造のものとなっている。つまり、図2に示される単位粘着シート1の外周縁を打ち抜く全抜き刃13と、区画ライン4に沿った半抜き刃17を備えているが、ミシン刃14は有していないもので、分離ライン7がない点以外図2に示される単位粘着シート1と同様のものを製造するものとなっている。
図11(a)及び図12(a)に示されるように、基板12を洗浄した後、その表面に第一のレジストを塗布し、露光し、現像することで、第一のレジスト膜21を形成する。このレジスト膜21は、図10に示される全抜き刃13に対応する位置に形成する。全抜き刃13に対応する位置の第一のレジスト膜21は、線状に連続するパターンに形成する。
次に、基板12の表面に第二のレジストを塗布し、露光し、現像することで、図11(b)及び図12(b)に示されるように、第一のレジスト膜21上から、直線状に連続するパターンの第二のレジスト膜22を、図10に示される全抜き刃13に対応する位置と半抜き刃17に対応する位置(図2の区画ライン4に対応する位置)とに形成する。
次に、基板12の表面にエッチング処理を施し、図11(c)に示されるように、ほぼ第二のレジスト膜22に沿った凸状部23を形成する。この凸状部23は、図4で説明した半抜き刃15部分より若干高い高さのもとして形成する。
上記凸状部23を形成した後、図11(d)に示されるように、第二のレジスト膜22を除去し、基板12上のレジストパターンを図12(a)の状態に戻す。
基板12の表面に第一のレジスト膜21のみが残留した状態で、再度基板12の表面にエッチング処理を施す。これにより、図11(c)に示される凸状部23において、全抜き刃13に対応する位置(図11の左側)は、第一のレジスト膜21でカバーされているので高さが若干増し、全抜き刃13が形成される。また、図11(c)に示される凸状部23において、半抜き刃17に対応する位置(図11の右側)は、第一のレジスト膜21で覆われていないので、高さが若干減少し、半抜き刃17が形成される。
基板12の表面に、前記単位粘着シート集合体1の外周縁に対応する位置に沿って連続的な第一のレジスト膜21を形成する工程と、
前記基板12の表面に、前記第一のレジスト膜21上と、前記区画ライン21に対応する位置とに沿って、連続的な第二のレジスト22膜を形成する工程と、
前記第二のレジスト膜22の形成後、前記基板12の表面をエッチング処理して、第二のレジスト膜22に沿った凸状部23を形成する工程と、
前記エッチングの後、前記第二のレジスト膜22を除去する工程と、
前記第二のレジスト膜22の除去後、前記第一のレジスト膜21が残留した前記基板12の表面を再度エッチング処理工程と
を順次施すことで、前記粘着剤層2bを覆って前記セパレーター3が付設された状態での前記表面基材2a側からの抜き加工時に、前記粘着シート2とセパレーター3を貫通する全抜き刃13を単位粘着シート集合体1の外周縁に対応する位置に形成し、前記抜き加工時に、少なくとも前記表面基材2aを貫通するが前記セパレーターは貫通しない凸条である半抜き刃を前記区画ラインに対応する位置に形成することを特徴とする抜型の製造方法を得ることができる。
2 粘着シート
2a 表面基材
2b 粘着剤層
3 セパレーター
4 区画ライン
5 単位粘着シート
6 切り離しライン
7 分割ライン
11 抜型
12 基板
13 全抜き刃
14 ミシン刃
15 半抜き刃
16 凸刃
17 半抜き刃
21 第一のレジスト膜
22 第二のレジスト膜
23 凸状部
Claims (6)
- 表面基材の裏面に粘着剤層が設けられた粘着シートに、少なくとも表面基材を貫通する連続した切断ラインである区画ラインにより、複数の単位粘着シートが区画されており、各単位粘着シートが、前記粘着剤層を覆って付設された一連のセパレーターに剥離可能に保持された単位粘着シート集合体において、
前記セパレーターに、少なくとも一部の前記区画ラインの位置に対応して、前記セパレーターを断続的に貫通する切断ラインである切り離しラインが形成されていることを特徴とする単位粘着シート集合体。 - 表面基材の裏面に粘着剤層が設けられた粘着シートに、少なくとも表面基材を貫通する連続した切断ラインである区画ラインにより、複数の単位粘着シートが区画されており、各単位粘着シートが、前記粘着剤層を覆って付設された一連のセパレーターに剥離可能に保持された単位粘着シート集合体において、
前記区画ラインとは別に、少なくとも表面基材を貫通する連続した切断ラインで、前記粘着シートを複数に分割する分割ラインが形成されており、前記セパレーターに、前記分割ラインの位置に対応して、前記セパレーターを断続的に貫通する切り離しラインが形成されていることを特徴とする単位粘着シート集合体。 - 請求項1に記載の単位粘着シート集合体の製造に用いられる抜型において、
前記粘着剤層を覆って前記セパレーターが付設された状態での前記表面基材側からの抜き加工時に、少なくとも前記表面基材を貫通するが前記セパレーターは貫通しない凸条である半抜き刃が前記区画ラインに対応する位置に形成されており、少なくとも一部の前記半抜き刃の頂部長さ方向に沿って、前記抜き加工時に前記セパレーターを貫通する凸刃が断続的に突設されていることを特徴とする抜型。 - 請求項2に記載の単位粘着シート集合体の製造に用いられる抜型において、
前記粘着剤層を覆って前記セパレーターが付設された状態での前記表面基材側からの抜き加工時に、少なくとも前記表面基材を貫通するが前記セパレーターは貫通しない凸条である半抜き刃が前記区画ラインおよび前記分割ラインに対応する位置に形成されており、少なくとも前記分割ラインに対応する位置に形成された前記半抜き刃の頂部長さ方向に沿って、前記抜き加工時に前記セパレーターを貫通する凸刃が断続的に突設されていることを特徴とする抜型。 - 請求項1に記載の単位粘着シート集合体の製造に用いられる抜型の製造方法において、
基板の表面に、少なくとも一部の前記区画ラインに対応する位置に沿って、断続的な第一のレジスト膜を形成する工程と、
前記基板の表面に、前記第一のレジスト膜上を含む総ての前記区画ラインに対応する位置に沿って、連続的な第二のレジスト膜を形成する工程と、
前記第二のレジスト膜の形成後、前記基板の表面をエッチング処理して、第二のレジスト膜に沿った凸状部を形成する工程と、
前記エッチングの後、前記第二のレジスト膜を除去する工程と、
前記第二のレジスト膜の除去後、前記第一のレジスト膜が残留した前記基板の表面を再度エッチング処理工程と
を順次施すことで、前記粘着剤層を覆って前記セパレーターが付設された状態での前記表面基材側からの抜き加工時に、少なくとも前記表面基材を貫通するが前記セパレーターは貫通しない凸条である半抜き刃を前記区画ラインに対応する位置に形成し、少なくとも一部の前記半抜き刃の頂部長さ方向に沿って、前記抜き加工時に前記セパレーターを貫通する凸刃を断続的に形成することを特徴とする抜型の製造方法。 - 請求項2に記載の単位粘着シート集合体の製造に用いられる抜型の製造方法において、
基板の表面に、少なくとも前記分割ラインに対応する位置に沿って、断続的な第一のレジスト膜を形成する工程と、
前記基板の表面に、前記第一のレジスト膜上を含む総ての前記区画ラインおよび前記分割ラインに対応する位置に沿って、連続的な第二のレジスト膜を形成する工程と、
前記第二のレジスト膜の形成後、前記基板の表面をエッチング処理して、第二のレジスト膜に沿った凸状部を形成する工程と、
前記エッチングの後、前記第二のレジスト膜を除去する工程と、
前記第二のレジスト膜の除去後、前記第一のレジスト膜が残留した前記基板の表面を再度エッチング処理工程と
を順次施すことで、前記粘着剤層を覆って前記セパレーターが付設された状態での前記表面基材側からの抜き加工時に、少なくとも前記表面基材を貫通するが前記セパレーターは貫通しない凸条である半抜き刃を前記区画ラインおよび前記分割ラインに対応する位置に形成し、少なくとも前記分割ラインに対応する位置に形成された前記半抜き刃の頂部長さ方向に沿って、前記抜き加工時に前記セパレーターを貫通する凸刃を断続的に形成することを特徴とする抜型の製造方法。
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