JP2010010664A - 太陽電池及びその作製方法 - Google Patents
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Abstract
【課題を解決するための手段】周期的傾斜構造を有する基板上にその周期よりも小さな厚さの電極層と半導体光電変換層からなる多層膜が積層された表面を平滑にすることで平滑面に多層膜断面の繰り返し構造を出現させた太陽電池及び周期的傾斜構造を有する基板を用意する工程、該基板上にその周期よりも小さな厚さの電極層と半導体光電変換層からなる多層膜を繰り返し順次積層する工程及び表面を切削又は研磨することで表面を平滑にしてその平滑面に多層膜断面の繰り返し構造を出現させる工程を含む太陽電池の作製方法。
【選択図】図1
Description
(1)周期的傾斜構造を有する基板上にその周期よりも小さな厚さの電極層と半導体光電変換層からなる多層膜が積層された表面を平滑にすることで平滑面に多層膜断面の繰り返し構造を出現させた太陽電池。
(2)周期的傾斜構造を有する基板を用意する工程、該基板上にその周期よりも小さな厚さの電極層と半導体光電変換層からなる多層膜を繰り返し順次積層する工程及び表面を切削又は研磨することで表面を平滑にしてその平滑面に多層膜断面の繰り返し構造を出現させる工程を含む太陽電池の作製方法。
(3)上記基板は、異方性エッチング、機械加工又はナノインプリントによって基板表面に周期的傾斜構造が作製されていることを特徴とする(2)に記載の太陽電池の作製方法。
さらに多層膜断面が表面に出ているため、多層膜内での光電変換が効率よく行われる。特に、半導体層の電気抵抗が大きいために半導体層の厚さを薄くする必要がある場合でも、十分な吸収効率を実現できる。
上記周期的傾斜構造は、異方性エッチング、研削、切削、押し出し成形等の機械加工、ナノインプリントなどによって基板表面に作製される。
図2から分かるように、光は半導体光電変換層の断面から入射し、電極層により複数回反射している。このため半導体光電変換層での変換効率の向上及び複数回反射による入射光活用の効率化が期待される。したがって太陽電池の光の吸収効率を高めることができる。
(1)基板1の材料として、100面を露出したシリコンウェーハを用いた場合、フォトリソグラフィーで酸化膜6などのマスクを成膜する。それをTMAHやKOHなどのエッチング液7に浸すことで、異方性エッチングを進展させ、略三角形の溝からなる周期的傾斜構造を形成する(図3のA図参照)。あるいは、等方性エッチングを利用し、基板8を溶解する等方性エッチング液10と、それに対して不溶なマスク9を用いて、マスクの開口部を小さくとることで、断面が半円状の溝を形成してもよい(図3のB図参照)。
(2)基板1の表面にエッチングによって形成された周期的な溝の上に、その周期よりも小さな厚さの電極層2と半導体光電変換層となるN型半導体層3及びP型半導体層4と電極層5からなる多層膜をCVDやPVD等により積層する。次に電極層5上に半導体光電変換層となるP型半導体層4及びN型半導体層3を順次積層する。すなわち電極層2、5と半導体光電変換層3、4からなる多層膜が繰り返し積層される(図1のA図参照)。
(3)次に電極層2、5と半導体光電変換層3、4からなる多層膜が積層された表面を切削又は研磨することで表面を平滑にしてその平滑面に多層膜断面の繰り返し構造を出現させて本発明の太陽電池を得る(図1のB図参照)。
基板表面には、電極層と半導体層が交互に露出している。この無数に並んだ電極膜から電力を取り出すためには、フォトリソグラフィーによって配線をパターニングする。
フォトリソグラフィーによる配線が困難な場合は、電極層2と電極層5にそれぞれ異なる材料を用いて、エッチング、機械研磨、スパッタリングなどの手段を組み合わせて、選択的に電極層2と電極層5のどちらかの電極を基板表面に露出させ、それぞれに対して配線を行ってもよい。
電極層2に金、電極層5に鉄を用いた場合に機械研磨を行うと、鉄の層の高さが高くなる。また、塩化第二鉄の水溶液等を用いて腐食させれば、鉄のみが溶融し金の高さが高くなる。一方、アルゴンガスイオンやガリウムイオン等を用いてスパッタリングを行えば、金のスパッタレートが鉄よりも大きいために、スパッタリング時間が長くなるほど金が余分に削れて、鉄の高さが高くなる。このような手法によって、2種類の電極用金属のうち、任意の金属を露出させ、配線に利用出来るようになる。
また図5の例では、塩化第二鉄の水溶液によるエッチング後(a)と、ガリウムイオンを利用したスパッタリング後(b)によって、それぞれ金、鉄といった異なる金属の高さが他方に比べて高くなっている様子を示している。
図7の例においては、多層膜を積層するプロセスにおいて、傾斜構造部分に露出される金属膜が図6のようになるように、マスクによって電極が形成された部分を覆い、マスクを段階的にずらしながら多層膜を積層する(図7(b)〜(d)参照)。多層膜を積層した後に基板1の受光面のみを研磨することで(図7(e)参照)、傾斜構造部分に電極層を露出することができる。あるいは、多層膜を一様に積層した後に、マスクによって保護する部分を段階的にずらしながらエッチングを繰り返すことで、図6の構造を得てもよい。
いずれかの方法で形成された電極層はそれぞれ、正負の配線用電極として利用することができる。
2 電極層
3 N型半導体層
4 P型半導体層
5 電極層
6 酸化膜
7 異方性エッチング液
8 等方性のエッチングに供される基板
9 等方性エッチング液に対して不溶なマスク
10 等方性エッチング液
Claims (3)
- 周期的傾斜構造を有する基板上にその周期よりも小さな厚さの電極層と半導体光電変換層からなる多層膜が積層された表面を平滑にすることで平滑面に多層膜断面の繰り返し構造を出現させた太陽電池。
- 周期的傾斜構造を有する基板を用意する工程、該基板上にその周期よりも小さな厚さの電極層と半導体光電変換層からなる多層膜を繰り返し順次積層する工程及び表面を切削、研削又は研磨することで表面を平滑にしてその平滑面に多層膜断面の繰り返し構造を出現させる工程を含む太陽電池の作製方法。
- 上記基板は、異方性エッチング、機械加工又はナノインプリントによって基板表面に周期的傾斜構造が作製されていることを特徴とする請求項2に記載の太陽電池の作製方法。
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