JP2010008386A - 電子線照射装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】照射室の照射雰囲気に晒される窓枠部34の部分、具体的には、例えば窓枠部の、第一のオーリング38と照射雰囲気を封じることができるような接触している部分及び第二のオーリング39と照射雰囲気を封じることができるような接触している部分の外側に位置する外周部分には、図4に示すように、溶射法により溶射膜40が形成されている。オーリング38,39と照射雰囲気を封じることができるような接触している部分の内側は照射雰囲気が入り込めないので、この内側に位置する窓枠部の部分が照射雰囲気によって腐食されることはない。したがって、この内側に位置する窓枠部の部分には溶射膜を形成していない。
【選択図】図4
Description
(1)第一溶射膜
ベースとなる銅の窓枠部34上に、第一層として溶射膜であるステンレスSUS316の膜を200μmの厚さで形成し、その上に第二層として封孔材を刷毛塗りして封孔材の膜を形成し、焼き付けを行う。最後に、やすりで表面の小さな凹凸を削って、面仕上げを行った。
ベースとなる銅の窓枠部34上に、第一層として溶射膜であるNiCr系合金の膜を200μmの厚さで形成し、その上に第二層として封孔材を刷毛塗りして封孔材の膜を形成し、焼き付けを行う。最後に、やすりで表面の小さな凹凸を削って、面仕上げを行った。
ベースとなる銅の窓枠部34上に、第一層として溶射膜であるNiCr系合金の膜を50μmの厚さで形成し、その上に第二層として溶射膜であるセラミックス(TiO)の膜を150μmの厚さで形成し、更にその上に第三層として封孔材を刷毛塗りして封孔材の膜を形成し、焼き付けを行う。最後に、やすりで表面の小さな凹凸を削って、面仕上げを行った。なお、第三溶射膜を形成する際に、第一層としてNiCr系合金の膜を形成しているのは、溶射膜であるセラミックスの膜を直にベースである銅の上に形成する場合に比べて、NiCr系合金の膜を介在させることによりセラミックスと銅との密着性をより向上させることができると考えられるからである。したがって、セラミックスの膜を窓枠部の上に直に形成するようにしてもよい。
12 ターミナル
12a フィラメント
12b ガン構造体
12c グリッド
14 加速管
14a 照射用開口部
16a 加熱用電源
16b 制御用直流電源
16c 加速用直流電源
20 照射室
22 照射空間
24 ビームコレクタ
30 照射窓部
32 窓箔
34 窓枠部
34a 桟
34b 開口部
34c,34d オーリング溝
34e 流路
36 クランプ板
38 第一のオーリング
39 第二のオーリング
40 溶射膜
Claims (5)
- 電子線を発生する電子線発生部と、被処理物に前記電子線を照射する処理を行う照射室と、前記電子線発生部内の真空雰囲気と前記照射室内の照射雰囲気とを仕切ると共に前記電子線を前記照射室内に取り出す窓箔と、前記窓箔を支持するための窓枠部とを備える電子線照射装置であって、
前記窓枠部のうち前記照射室内の照射雰囲気に晒されている部分に前記窓枠部の材料より耐蝕性の高い溶射膜を形成したことを特徴とする電子線照射装置。 - 前記窓枠部はO字状の第一の気密部材を介して前記電子線発生部の照射用開口部に着脱自在に取着され、前記窓箔は前記照射室の側から枠状の押え板によりO字状の第二の気密部材を介して前記窓枠部に押し付けるようにして着脱自在に取着され、
前記窓枠部は前記第一の気密部材と接触をしている部分及び前記第二の気密部材と接触をしている部分の外側に位置する外周部分に前記溶射膜が形成されていることを特徴とする請求項1記載の電子線照射装置。 - 前記接触は、前記照射雰囲気を封じることができるような接触、又は、前記電子線発生部の真空を維持することができるような気密のための接触であることを特徴とする請求項1又は2記載の電子線照射装置。
- 前記溶射膜の上に、更に封孔材の膜が形成されていることを特徴とする請求項1、2又は3記載の電子線照射装置。
- 前記溶射膜は、ステンレスの膜、ニッケル・クロム系合金の膜或いはセラミックスの膜であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項記載の電子線照射装置。
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