JP2010002580A - レジスト剥離液 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 N−(2−ヒドロキシエチル)モルホリンと有機溶媒をを含んでなる成分の組合せによるレジスト剥離液はモリブデン酸化物を腐食させることなく用いることができる。剥離液全体に対して、N−(2−ヒドロキシエチル)モルホリンが1〜80重量%の範囲、有機溶媒が20〜99重量%の範囲であることが好ましい。
【選択図】 なし
Description
MO:モリブデン酸化物
MEA:モノエタノールアミン
DMSO:ジメチルスルホキシド
NMP:N−メチルピロリドン
γ−BL:γ−ブチロラクトン
BEE:ブトキシエトキシエタノール
TMAH:水酸化テトラメチルアンモニウム
EGEE:エチレングリコールモノエチルエーテル
DEGEE:ジエチレングリコールモノエチルエーテル
DB:1,2−ジクロロベンゼン
DMF:N,N’−ジメチルホルムアミド
MOR:モルホリン
CA:クエン酸
OA:シュウ酸
AA:酢酸
実施例1〜12、比較例1〜3:
(洗浄評価)
現像、エッチング後、不要となったノボラック系フォトレジスト層を有する基板を表1、表2に記載の剥離液に、室温で5分浸漬した。これを水洗乾燥し、洗浄度を確認した。洗浄できたものは「○」、洗浄できなかったものは「×」と評価した。それらの結果を表1、表2にあわせて示す。
ガラス基板上に0.1μmの厚さでMOを成膜した。この基板を表1、表2に記載の洗浄液に、室温で5分浸漬した。これを水洗乾燥し、SEMで表面を観察した。処理前に比べ表面状態が変化したものを「×」、変化しなかったものは「○」と評価した。それらの結果を表1、表2にあわせて示す。
Claims (8)
- モリブデン酸化物上のポジ型フォトレジストを除去するための組成物であって、N−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン及び有機溶媒を含むポジ型フォトレジスト用剥離液。
- 有機溶媒が、アルコール系溶媒として、メチルアルコール、エチルアルコール、1−プロピルアルコール、2−プロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、1,6−ヘキサンジオール、エーテル系溶媒として、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、アミド系溶媒として、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−エチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−エチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、含硫黄系溶媒として、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、イミダゾリジノン系溶媒として、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジエチル−2−イミダゾリジノン、及びラクトン系溶媒として、γ−ブチロラクトンからなる群より選ばれる一種又は二種以上であることを特徴とする請求項1に記載の剥離液。
- さらに水を含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の剥離液。
- さらにカルボン酸を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の剥離液。
- カルボン酸が、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸、シュウ酸、リンゴ酸、マロン酸、クエン酸、及びグルタル酸からなる群より選ばれる少なくとも一種又は二種以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の剥離液。
- 水で10倍に希釈したときのpHが4〜11の範囲であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の剥離液。
- 剥離液全体に対し、N−(2−ヒドロキシエチル)モルホリンが1〜80重量%の範囲、及び有機溶媒が99〜20重量%の範囲であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の剥離液。
- モリブデン酸化物が露出した基板上、又はモリブデン酸化物上にフォトレジストパターンが形成された基板上のポジ型フォトレジストを、請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の剥離液により除去することを特徴とするポジ型フォトレジストの剥離方法。
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