JP2009544990A - 光拡散板、フォトマスク、およびこれらの製造方法 - Google Patents

光拡散板、フォトマスク、およびこれらの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009544990A
JP2009544990A JP2009520989A JP2009520989A JP2009544990A JP 2009544990 A JP2009544990 A JP 2009544990A JP 2009520989 A JP2009520989 A JP 2009520989A JP 2009520989 A JP2009520989 A JP 2009520989A JP 2009544990 A JP2009544990 A JP 2009544990A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light transmissive
randomly
predetermined distance
mask
random
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009520989A
Other languages
English (en)
Inventor
ル,チジャン
Original Assignee
ル,チジャン
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ル,チジャン filed Critical ル,チジャン
Publication of JP2009544990A publication Critical patent/JP2009544990A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/36Masks having proximity correction features; Preparation thereof, e.g. optical proximity correction [OPC] design processes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/12Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0215Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having a regular structure
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0221Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having an irregular structure
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0231Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having microprismatic or micropyramidal shape
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0268Diffusing elements; Afocal elements characterized by the fabrication or manufacturing method
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0273Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0278Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in transmission
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
    • G03F7/70433Layout for increasing efficiency or for compensating imaging errors, e.g. layout of exposure fields for reducing focus errors; Use of mask features for increasing efficiency or for compensating imaging errors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0033Means for improving the coupling-out of light from the light guide
    • G02B6/005Means for improving the coupling-out of light from the light guide provided by one optical element, or plurality thereof, placed on the light output side of the light guide
    • G02B6/0051Diffusing sheet or layer
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336Illuminating devices
    • G02F1/133602Direct backlight
    • G02F1/133606Direct backlight including a specially adapted diffusing, scattering or light controlling members

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

光透過性のアパーチャのランダムなパターンを有する小型のマスク(セル・マスクとも呼ばれる)を形成し、次いでこのマスクを反復的に複製して大型のマスクを作製することによって、ランダムなアパーチャを有する大型のマスクを形成することができる。ランダムなパターンは、アパーチャの位置を少量だけ摂動させることによって作製されてもよく、または特定の基準を満たしていれば、アパーチャをセル・マスク内にランダムに配置してもよい。あるいは、セル・マスクを使用せずに光透過性のアパーチャのランダムなパターンを有する大型のマスクを形成してもよい。このような大型のマスクは、非ランダムにパターン形成された構造を有するデバイスに生じる干渉、回折、またはその他の光学作用を受けない拡散板またはその他のデバイスを製造するために使用することができる。

Description

本出願は、参照によって本明細書に組み込まれる2006年7月20日に出願された米国特許出願第11/489715号の優先権を主張するものである。
本発明は、一般には光拡散板、フォトマスク、およびこれらの製造方法に関し、より詳細には、ランダムに配置された構造を有する光拡散板、ランダムに配置されたアパーチャを有するフォトマスク、およびこれらの製造方法に関する。
フォトマスクは光拡散板、およびその他の多くの光学デバイスを製造するために使用できる。典型的には、ほとんどのマスクは、規則的で極めて整列したアパーチャを有している。しかし、製造された光学デバイスはマスクによって生じるフィーチャが規則的で極めて整列しているために生じる回折、干渉またはその他の光学的な作用を受ける。
米国特許出願第11/489715号 米国特許出願第11/439437号 米国特許出願第60/677837号
したがって、この分野では上記の問題に対処するデバイスおよびマスクに対する強い需要がある。
本発明の1つの態様は、複数の領域を有するマスクを含むフォトマスクを提供することである。複数の領域の各々は、ほぼ同一のランダムに位置する光透過性アパーチャ・パターンを有する。
本発明の別の態様は、光透過性アパーチャの位置をランダムに生成することによって光透過性アパーチャ・パターンを選択することと、光透過性アパーチャ・パターンをマスクの複数の領域に形成することとを含む、フォトマスクの製造方法を提供することである。
本発明の別の態様は、基板上にランダムに位置するデバイス構造を有する少なくとも1つの領域を備えるデバイスであって、それらのランダムに位置するデバイス構造のそれぞれが底面と上面とを有するデバイスを含む光学デバイスを提供することである。底面は、上面と基板との間にあり、ランダムに位置するデバイス構造の上面に隣接する断面は、ランダムに位置するデバイス構造の底面に隣接する断面よりも小さい面積を有する。ランダムに位置するデバイス構造は、光透過性の重合性材料から製造される。
本発明の別の態様は、光透過性アパーチャの位置をランダムに生成することによって光透過性アパーチャ・パターンを選択することと、マスクの少なくとも1つの領域に光透過性アパーチャ・パターンを形成することと、基板上に光重合性材料の層を形成することと、光重合性材料の層を選択的に光重合化するためにマスクに光を照射することと、少なくとも1つの領域が、ランダムに位置するデバイス構造を基板上に含むように、マスクに光を照射した後に重合化されずに残された光重合性材料を除去することとを含む、光学デバイスの形成方法を提供することである。ランダムに位置するデバイス構造のそれぞれは、底面と上面とを有し、底面は上面との間にある。ランダムに位置するデバイス構造の上面に隣接する断面は、ランダムに位置するデバイス構造の前記底面に隣接する断面よりも小さい面積を有する。光重合性材料は、重合後に光透過性になる。
ランダムに位置する構造を形成するための材料の混合物への照射を示す図である。 本発明による別の例示的な拡散板を示す図である。 実質的に光を透過する材料の塗膜を有する構造を含む別の例示的な拡散板を示す図である。 実質的に光を透過する材料の塗膜が散乱粒子をも含むこと以外は図3の拡散板と同様の別の例示的な拡散板を示す図である。 本発明による拡散板を含む例示的な液晶ディスプレーのバックライトを示す図である。 本発明による拡散板を含む別の示的な液晶ディスプレーのバックライトを示す図である。 重複しないセル・マスクの一部の円形アパーチャのランダムなパターンの写真である。 重複可能なセル・マスクの一部の円形アパーチャのランダムなパターンの写真である。 実施例1により製造された拡散板の走査電子顕微鏡側面図である。 実施例1により製造された拡散板の走査電子顕微鏡上面図である。 実施例2により製造された拡散板の走査電子顕微鏡側面図である。 実施例2により製造された拡散板の走査電子顕微鏡上面図である。 実施例3により製造された拡散板の走査電子顕微鏡側面図である。 実施例3により製造された拡散板の走査電子顕微鏡上面図である。 実施例4により製造された拡散板の走査電子顕微鏡側面図である。 実施例4により製造された拡散板の走査電子顕微鏡上面図である。 実施例5により製造された拡散板の走査電子顕微鏡側面図である。 実施例5により製造された拡散板の走査電子顕微鏡上面図である。 実施例6により製造された拡散板の走査電子顕微鏡側面図である。 実施例6により製造された拡散板の走査電子顕微鏡側面図である。 実施例1および2により製造された、広いFWHM(半値全幅)角度を有する例示的な拡散板の測定された角度分布を示すグラフである。 実施例5および6により製造された、より狭いFWHM(半値全幅)角度を有する例示的な拡散板の測定された角度分布を示すグラフである。 大型のマスクを構成するセル・マスクの5×5の行列を示す図である。
同様の参照番号が同様の素子を示す以下の図面を参照して、本発明を詳細に説明する。
規則的でも、極めて整列しているのでもないフィーチャを伴って製造された拡散板などの光学デバイスは、これらのフィーチャが規則的で極めて整列している場合に生じる機能を損なう回折、干渉またはその他の光学的な作用を受けない。それを行う方法の1つは、フィーチャの配置を規則的ではなくするか、極めて整列しているのではなくするか、またはその両方である。それを達成する第1の方法は、先ず規則的な設計から開始し、次いでフィーチャの配置をランダムに摂動させることである。それを達成する第2の方法は、フィーチャをランダムに配置することである。それを達成する第3の方法は、第1の方法または第2の方法で記載するような小領域を生成し、次いでその小領域を複製することである。例えば、光透過性のアパーチャのランダムなパターンを有する小型のマスク(セル・マスクとも呼ばれる)を形成し、次いでこのマスクをXYステップで反復的に複製し、パターンを反復して、大型のマスクを作製することによって、ランダムなアパーチャを有する大型のマスクを形成することができる。この大型のマスクを使用して、非ランダムにパターン形成された構造を有するデバイスに生じる干渉および回折作用を受けない拡散板またはその他のデバイスを製造することができる。さらに、大型のマスクは、大型のマスクの領域にわたって同じランダムなパターンが均一に複製されるため、かつセル・マスクが複製される際に光透過性のアパーチャ間の適切な間隔が確実に保持されるようにするアルゴリズムで、セル・マスクの境界がチェックされるため、巨視的には均一に見える。
大型のマスクの設計プロセスはセル・マスクのサイズの選択から開始される。このステップは、セル・マスクと大型のマスクとが同じサイズである場合は省かれる。セル・マスクは、セル・マスク内のアパーチャがランダムであり、ひいては絶対的に均一ではないことで生ずる大型マスクのパターンのような外見にならないように十分に大きくなければならない。したがって、大型マスクの領域をカバーするために小型セル・マスクが反復的に複製される場合、セル・マスクのアパーチャの配置では明白ではない僅かな不均一性が、大型マスクではある種のパターンとして明白になることがある。このような大型マスクのパターンは、大型マスクが巨視的に均一に見えることを妨げる可能性がある。大型マスク内のこのパターンの外見を避けるために、セル・マスクのサイズを増大してもよい。残念なことには、セル・マスクのサイズが増大すると、設計時間およびコンピュータの容量も増加する。そこで、セル・マスクのサイズを2mm×2mmから20mm×20mの間にすることによって、大型マスクの空間的な均一性が許容できるものとなり、適正な時間内で、ほとんどのパーソナル・コンピュータまたはノート型コンピュータで設計できることが判明している。あるいは、セル・マスクが正方形以外の形状を有していてもよい。
次いで、セル・マスク内のアパーチャの形状、サイズおよび数が選択される。円形のアパーチャによって一般に、マスクで製造された光学デバイスの軸対称分布が生ずる。他の形状のアパーチャを使用してもよい。アパーチャのサイズは主として、所望のデバイス性能およびデバイスの製造工程によって決定される。例えば、セル・マスク内のアパーチャのサイズは、円形のアパーチャの場合、直径が5μmから250μmの範囲でよい。所定の形状およびサイズ(密度)でのマスク内のアパーチャ数は、角度分布を決定する設計上のパラメータの1つである。重複しないアパーチャの数が多いほど、拡散板による光の散乱が大きくなり、ひいては角度分布が広くなる。以下に詳述する幾つかのランダム化方法では、アパーチャのセット数ではなく最小数が規定されてもよい。
次いで、ランダム化方法が選択される。1つの方法は、非ランダムにパターン形成されたアパーチャ配列を用い、非ランダムにパターン形成されたアパーチャ配列位置からパターニングする位置を所定の最大量を有するランダムな量だけランダムに摂動させることである。最大摂動距離はアパーチャのサイズ、摂動前のアパーチャの中心間の距離、およびアパーチャの許容重複量またはアパーチャ間の最小間隔距離によって決定されてもよい。必ずしも必要ではないが、摂動距離はある最小量を有していてもよい。摂動の方向はいずれかのランダムな方向でもよく、その他のいずれかの適宜なパターンでもよい。
第2のランダム化方法は、アパーチャの中心をランダムにセル・マスクに配置し、アパーチャの中心間に少なくともある一定量の間隔が確実にあるようにすることである。アパーチャの中心間に所望の間隔がない場合のアパーチャはセル・マスクに含まず、別のランダムな選択がなされる。このようなランダムな選択は、セル・マスクが指定のアパーチャ数を有するまで行われる。より大型のマスクはセル・マスクのアパーチャ・パターンの行列(マトリックス)によって形成されるので、アルゴリズムによって、対向または隣接する境界(例えば上/底、右/左)に所望の間隔があるか否かをチェックする。この対向または隣接する境界のチェックは、巨視的な均一性を確実にするために行われる。さもなければ、大型マスクおよび/または大型マスクによって製造されるデバイスは、格子パターンを有するように見える可能性がある。間隔の量はアパーチャが互いに重複不能であるような量でもよく、または間隔の量はアパーチャが互いに重複可能であるような量でもよい。デバイスの製造中に形成される特有の構造を有するために必要な間隔の量は、アパーチャのサイズ、およびデバイスを製造するために使用される紫外線システムまたはその他の適宜のシステムの細部(例えばコリメート角度)に左右される。拡散板での光分散の量は、その特有の構造の単位面積当たりの数(密度)が多くなると増大する。2つの構造が重複すると、これらの構造はより大きいサイズの単一の特有の構造を形成する。したがって、重複により密度が効果的に低減し、それによって垂直角度での光透過を増やし、非垂直角度での拡散を減らすことができる。
あるいは、アパーチャは1つまたは複数の種類のアパーチャを含んでいてもよい。例えば、アパーチャは円形、楕円形、長方形、五角形、六角形、八角形、これらの形状の組み合わせ、またはその他のいずれかの所望の形状のものでよい。非円形アパーチャの配向方向はランダムに決定してもよい。異なる種類のアパーチャが使用される場合は、各々のアパーチャの数はランダムでもよい。さらに、セル・マスクは境界から対向する(または隣接する)境界までのアパーチャの重なり(ラッピング)を考慮にいれてもよい。言い換えると、より大型のマスクを形成するためにセル・マスクが使用される際に、セル・マスク内のアパーチャがセル・マスクの縁部近くにあることでアパーチャが部分的に欠けている場合、隣接する(対向する)2つのセル・マスクによって完全なアパーチャが形成されるように、その欠けたアパーチャの残りの部分が隣接する(対向する)セル・マスクの境界に形成される。
本発明によってマスクでデバイスを製造するには適切などの方法を用いてもよい。例えば、ランダムなアパーチャ位置を有するマスクで拡散板を製造する例示的な一実施形態は、材料の混合物を作製することから開始される。材料の混合物は1つまたは複数の成分に加えて光重合開始剤または複数の光重合開始剤を含んでいる。あるいは、光重合開始剤を必要としない光重合性材料が使用される場合は、光重合開始剤を省いてもよい。混合物はさらに、固体粒子、液体、コロイド、気体(例えば空気または窒素)、またはその他の有効な成分などの1つまたは複数の非光重合性材料成分を含んでいてもよい。混合物は光重合の前には均質である必要がある。次いで、図1に示すように、PETフィルム、PMMAフィルム、PVAフィルム、またはその他のいずれかの適宜のフィルムなどの(基板と呼ばれてもよい)キャリヤ・フィルム101がフォトマスク103上に被覆される。フォトマスク103はいずれかの適宜のランダムな構成のものでよい。加えて、イソプロパノール・アルコールなどの屈折率整合流体をキャリヤ・フィルム101とフォトマスク103との間に塗布してもよい。次いで、材料の混合物の層102が、ドクター・ブレード・コーティング、スロット・ダイ・コーティング、またはその他のいずれかの適宜のコーティング技術によってキャリヤ・フィルム101上に被覆される。層102の厚さは約5μm(0.2ミル)から約508μm(20ミル)の間でよく、約50.8μm(2ミル)と約254μm(10ミル)が一般的である。
次いで、図1に示すように、コリメートされた、または準コリメートされた紫外線または可視光線104がフォトマスク103の透過性アパーチャを通過し、層102を選択的に重合する。コリメートされた、または準コリメートされた紫外線または可視光線104によって重合、および固体構造の形成が引き起こされる。位相分離材料が使用される場合は、層102の第1の材料が重合して固体構造を形成し、一方、(層102の第1の材料とは実質的に異なる)第2の材料は、コリメートされた、または準コリメートされた紫外線または可視光線104の照射中に第1の材料から位相分離する。第2の材料は非重合性材料、すなわちコリメートされた、または準コリメートされた紫外線または可視光線104によって重合しない材料でよい。例えば、第2の材料は熱重合性材料(例えばサーモポリマー)、またはコリメートされた、または準コリメートされた紫外線または可視光線104を照射した結果、重合しない他のいずれかの重合性材料でよい。第2の材料が重合性である場合は、この材料は、層102の非露光領域を除去した後で重合されてもよい。第2の材料はさらに、紫外線または可視光線の照射により重合する重合性材料であってもよい。例えば、第2の材料は、紫外線または可視光線が照射される第1の材料と同じ重合度で、または実質的に異なる重合度で重合してもよく、重合後は第1の材料とは不相溶である。結果として生じた構造、特に側面および/または上面は、位相分離材料が使用される場合は、一般的には粗く、非位相分離材料または単一成分の材料が使用される場合は、一般的には平滑である。
層102に使用される混合物は付加的な材料を含んでいてもよい。例えば、第1の材料は2つ以上の材料の組み合わせであってもよく、および/または第2の材料は2つ以上の材料の組み合わせであってもよい。さらに、混合物に2つ以上の光重合開始剤が含まれてもよく、染料または顔料などの他の材料が含まれていてもよいであろう。さらに、混合物は、(例えば液晶材料などの)高価な材料ではなく安価な材料に限定してもよい。
次いで、選択的に重合された層102は、層102の非露光領域が除去されるように溶剤(例えばメタノール、アセトン、水、イソプロパノール、またはその他の適宜の溶剤または複数の溶剤)で洗浄される。それに加えて、位相分離材料の場合は、露光領域と非露光領域との境界に位置する層102の露光領域内の第2の材料も、それが重合した第1の材料によって完全に囲まれていないので除去される。それによって、デバイス構造206のファセットの平滑な表面ではなく、でこぼこの窪みのある表面を有する光拡散デバイス構造206が生ずる。このような拡散板のさらに別の実施例は、参照として全体が本明細書に組み込まれる米国特許出願第11/439437号明細書に記載されている。複数のこれらの構造206が、広範囲の拡散角度を有する優れた拡散板を形成する。他の製造方法を用いて同様の構造の拡散板を製造してもよい。このような同様の構造の拡散板は位相分離された材料から製造されてもよく、位相分離されない材料から製造されてもよく、単一の材料でもよい。
位相分離材料で形成されたデバイス構造206は、各構造206上に複数の光散乱ファセットを備えるでこぼこの窪みのある表面を有している。これらの光散乱ファセットのあるものは平行ファセット202であり、他のものは傾斜ファセット204である。点であってよい平行ファセット202はキャリヤ・フィルム101と概して平行であるのに対し、傾斜ファセット204はキャリヤ・フィルム101と0°から90°の角度をなす。しかし、位相分離の性質がランダムで、サイズが小さいことが、ファセットの幅広いバリエーションを確実にする一助になり、それによって広い光分布角度を確実にする一助になる。加えて、混合物内の第1の材料と第2の材料との相対的な量を制御することによって、光重合開始剤の相対的な量、および/または層102の照射、構造206の表面の特性(例えばサイズ、密度、形状)を選択してもよい。表面の特性を決定することができることによって、結果として生ずる構造206の光分布角度の特性を選択することが可能になる。
図3は、実質的に光を透過する材料の塗膜302を有する構造206を含む別の例示的な拡散板300を示している。実質的に光を透過する材料の塗膜302は、構造302の屈折率とは異なる屈折率を有している。屈折率の差が大きいほど、光の分布角度は広くなる。一般的には、屈折率の差は約0.005を上回り、さらに屈折率の差は約0.01を上回ることも多い。例えば、構造206はエトキシレート(3)ビスフェノールAジアクリレートとポリエチレングリコール(600)ジアクリレートとの混合物から製造されてもよく、平均屈折率は1.52である。実質的に光を透過する材料の塗膜302は屈折率がより低いものでもよく(例えばシリコン、フッ化アクリル酸塩またはフッ化メタクリル酸塩、フッ化エポキシ、フッ化シリコンまたはその他のそのような材料)、または屈折率がより高いものでもよい(例えば、ポリスルフォン、ポリフェニルスルフォン、ポリエーテルスルフォン、またはその他の適宜の材料)。
図4は、拡散板400が実質的に光を透過する材料の塗膜302に散乱粒子402をも含んでいること以外には図3の拡散板300と同様の別の例示的拡散板400を示している。散乱粒子402はガラスビード、ポリマー(例えばポリスチレン、アクリル、ポリカーボネート、オレフィン、またはその他の光学的に透明なポリマー材料)粒子、または他のいずれかの適宜の材料のものでよい。
本発明を様々な種類の光源およびその他のデバイスに組み込んでもよい。例えば、図5は、本発明による拡散板を含む例示的な液晶バックライト(LCDバックライト)500を示している。光源502は導光板503に沿って発光する。光源502は冷陰極蛍光ランプ、発光ダイオード、またはその他のいずれかの光源でよい。光源502からの光は導光板503内に結合され、導光板503によって上方に向けられる。導光板内での光の再配向は、導光板503の構造化された底面によって、導光板503の底面上の印刷散乱ドットによって、またはその他のいずれかの手段によって行ってもよい。導光板503の上面から出る光は一般的には十分な均質性に欠けており、望ましくない角度分布を有している。したがって、均質性を高め、光の角度分布を再成形するために拡散板および/またはその他の光学デバイスが使用される。例えば、第1の光拡散板504、第2の光拡散板506、および光学フィルム505を使用してもよい。光学フィルム505は光をさらに再配向するために使用され、3M社の輝度上昇フィルム、参照として本明細書に組み込まれる米国特許出願第60/677837号明細書に記載の光学フィルム、またはその他のいずれかの適宜のフィルムでよい。第1の拡散板と第2の拡散板504、506のいずれか、または両方は本発明による拡散板でよい。それ以外の数および種類のフィルムを本発明による1つまたは複数の拡散板と組み合わせてもよい。あるいは、フォルムを追加せずに1つまたは複数の拡散板を使用してもよい。
図5Aは、本発明による拡散板551を含む別の例示的な液晶バックライト(LCDバックライト)550を示している。LCDバックライト550は、発光ダイオード(LED)、冷陰極蛍光ランプ(CCFL)管のアレイ、またはLCDバックライト550の空洞553内に位置するその他のいずれかの適宜の光源でよい光源552を含んでいる。LEDは一般に点光源であり、CCFL管は一般に線状光源である。LEDまたはCCFL管のアレイから発する光の空間分布は極度に不均質である。本発明による拡散板551は、光源552のアレイから発される光を均質化し、光を空間的に均質化する。LCDバックライト550のこのような配置は、一般照明などの他の目的にも使用してもよい。
図6は、重複しないセル・マスクの一部の円形アパーチャのランダムなパターンの写真である。透過性の円形アパーチャは隣接する円形の周縁間で最小4.2μmだけ分離され、透過性の円形アパーチャの直径は30.4μmである。
図7は重複可能にされたセル・マスクの一部の円形アパーチャのランダムなパターンの写真である。隣接する透過性の円形アパーチャの中心どうしの間隔は7.5μmを上回り、透過性の円形アパーチャの直径は28.1μmである。
図8は実施例1によって製造された拡散板の走査電子顕微鏡側面図である。傾斜した側面ファセットの実質的な表面積、およびデバイス構造の平行ファセットの比較的小さな表面積が明確に示されている。実際に、デバイス構造の上表面は点に近い。図8に示されているように、ファセットの表面は粗い。図9は、実施例1により製造された拡散板の走査電子顕微鏡上面図である。図10は、実施例2によって製造された拡散板の走査顕微鏡側面図である。デバイス構造の一部は隣接するデバイス構造と接続しており、それはフォトマスク内の透過性アパーチャの中心が僅かに分離された結果である。図11は実施例2により製造された拡散板の走査顕微鏡上面図である。図12は、実施例3により製造された拡散板の走査顕微鏡側面図である。光重合された材料と混合されたガラスビードがデバイス構造の表面上、またはその表面の極めて近傍にある場合は、それらを目視することができるのに対して、デバイス構造内に埋め込まれたガラスビードは目視できない。図13は、実施例3により製造された拡散板の走査顕微鏡上面図である。図14は実施例4により製造された拡散板の走査顕微鏡側面図である。これらのデバイス構造は比較的大きい傾斜表面積を有し、表面は比較的平滑である。図15は、実施例4により製造された拡散板の走査顕微鏡上面図である。図16は、実施例5により製造された拡散板の走査顕微鏡側面図である。これらのデバイス構造はより大きい平行ファセットの領域を有し、その結果、角度分布が狭い拡散板が生ずる。図17は、実施例5により製造された拡散板の走査顕微鏡上面図である。図18は、実施例6により製造された拡散板の走査顕微鏡側面図である。図19は、実施例6により製造された拡散板の走査顕微鏡上面図である。
図8から図19から分かるように、ランダムに配置されたデバイス構造は、デバイス構造を形成する同じ材料によって実質的に連結されている。構造は完全には分離されておらず、底部で画定されている。この連結によって、光漏れの防止が支援され、結果として生ずる拡散板の性能が向上する。
図20は、実施例1および2により製造された、広いFWHM(半値全幅)角を有する2つの例示的な拡散板の、測定された角度分布を示されている。縦軸は正規化された輝度であり、横軸は極角である。広い角度分布は、図2に示されているように、平行ファセット202の小さい表面積と、傾斜ファセット204の大きい表面積とを有する拡散板の構造の結果である。例示的な拡散板の構造は図8から図15に示されている。
図21は、実施例5および6により製造された、狭いFWHM角を有する2つの例示的な拡散板の、測定された角度分布を示す。縦軸は正規化された輝度であり、横軸は極角である。角度分布は、図2に示されているように、平行ファセット202の比較的大きい面積を有する拡散板の構造の結果である。
図20および図21に示されているデータは、フランスのELDIM S.A社のEZContrast 160D ELDIM測定システムを使用して測定されたものである。コリメートされた白光が基板の側面から拡散板に入射し、拡散した光が集光され、ELDIM測定システムによって解析されている。
図22は、製造マスク2200を構成するセル・マスク2202の5×5の行列を示している。大型のマスク2200はセル・マスク2202による逐次反復工程(例えばXY逐次反復工程)、または他のいずれかの適宜の方法によって形成されてもよい。
圧縮空気ミキサを使用して、15.0重量%のモノマーエトキシレート(6)トリメチロールピロパントリアクリレート、19.5重量%の金属アクリレートエステルオリゴマー、44.0重量%のSartomer社の低粘性オリゴマー、19.5重量%のウレタンアクリレートオリゴマー、および2.0重量%の2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−1−オンが調製された。次いで、被覆する前に気泡を除去するために混合物が〜10−1トールの真空を用いて脱気された。厚さ7ミルのPET基板がイオン化空気を吹き込んで洗浄された。混合物は、ドクター・ブレードを用いて湿潤状態の厚さ8.5ミル(〜215μm)で基板上に被覆された。図6のパターンを含むマスクが基板の近傍に配置され、フォトマスクを通してコーティングを照射するために、〜1.5°のコリメート角を有する金属アーク・ランプからの紫外線量75mJ/cm2の紫外光が使用された。次いで、重合されないモノマーを除去するため、(基板と共に)紫外光照射されたコーティングが、撹拌されたメタノール浴に約25秒間浸漬された。いずれかの残存溶剤を吹き飛ばすことによって、基板および重合化したモノマーが乾燥された。最後に、608mJ/cm2の紫外線量を照射することによって後硬化が行われた。
圧縮空気ミキサを使用して、15.0重量%のモノマーエトキシレート(6)トリメチロールピロパントリアクリレート、19.5重量%の金属アクリレートエステルオリゴマー、44.0重量%のSartomer社の低粘性オリゴマー、19.5重量%のウレタンアクリレートオリゴマー、および2.0重量%の2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−I−オンが調製された。次いで、被覆する前に気泡を除去するために混合物が〜10−1トールの真空を用いて脱気された。厚さ7ミルのPET基板にイオン化空気を吹き込んでPETフィルムを洗浄した。混合物は、ドクター・ブレードを用いて湿潤状態の厚さ8.5ミル(〜215μm)にPET上に被覆された。図7のパターンを含むマスクが基板の近傍に配置され、フォトマスクを通してコーティングを照射するために、〜1.5°のコリメート角を有する金属アーク・ランプからの紫外線量75mJ/cm2の紫外光が使用された。次いで、重合されないモノマーを除去するため、(基板と共に)紫外光照射されたコーティングが、撹拌されたメタノール浴に約25秒間浸漬された。いずれかの残存溶剤を吹き飛ばすことによって、基板および重合化したモノマーが乾燥された。最後に、606mJ/cm2の紫外線量を照射することによって後硬化が行われた。
圧縮空気ミキサを使用して、44.3重量%のモノマーエトキシレート(3)ビスフェノールAジアクリレート、44.3重量%のモノマーポリエチレングリコール(600)ジアクリレート、8.9重量%の金属アクリレートエステルオリゴマー、0.5%の(直径が3から5μmの)ガラスビード、および2.0重量%の光重合開始剤2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−I−オン(ベンジルジメチルケタール)が調製された。次いで、被覆する前に気泡を除去するために混合物が〜10−1トールの真空を用いて脱気された。厚さ7ミルのPET基板がイオン化空気を吹き込んでPETフィルムを洗浄した。混合物は、ドクター・ブレードを用いて湿潤状態の厚さ8.5ミル(〜215μm)にPET上に被覆された。図6のパターンを含むマスクが基板の近傍に配置され、フォトマスクを通してコーティングを照射するために、〜1.5°のコリメート角を有する金属アーク・ランプからの紫外線量55mJ/cm2の紫外光が使用された。次いで、重合されないモノマーを除去するため、(基板と共に)紫外光照射されたコーティングが、撹拌されたメタノール浴に約25秒間浸漬された。いずれかの残存溶剤を吹き飛ばすことによって、基板および重合化したモノマーが乾燥された。最後に、607mJ/cm2の紫外線量を照射することによって後硬化が行われた。
圧縮空気ミキサを使用して、98重量%のモノマーエトキシレート(6)トリメチロールピロパントリアクリレート、および2.0重量%の光重合開始剤2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−I−オン(ベンジルジメチルケタール)が調製された。次いで、被覆する前に気泡を除去するために混合物が〜10−1トールの真空を用いて脱気された。厚さ7ミルのPET基板がイオン化空気を吹き込んで洗浄された。混合物は、ドクター・ブレードを用いて湿潤状態の厚さ8.5ミル(〜215μm)にPET上に被覆された。図6のパターンを含むマスクが基板の近傍に配置され、フォトマスクを通してコーティングを照射するために、〜1.5°のコリメート角を有する金属アーク・ランプからの紫外線量75mJ/cm2の紫外光が使用された。次いで、重合されないモノマーを除去するため、(基板と共に)紫外光照射されたコーティングが、撹拌されたメタノール浴に約25秒間浸漬された。いずれかの残存溶剤を吹き飛ばすことによって、基板および重合化したモノマーが乾燥された。最後に、608mJ/cm2の紫外線量を照射することによって後硬化が行われた。
圧縮空気ミキサを使用して、89.8重量%のモノマーエトキシレート(6)トリメチロールピロパントリアクリレート、および9.0重量%の二官能性アミン共開始剤、0.3重量%の光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、および1.0重量%の光重合開始剤2、4、6−トリメチルベンゾール−ジフェニル−フォスフィンオキシドが調製された。次いで、被覆する前に気泡を除去するために混合物が〜10−1トールの真空を用いて脱気された。厚さ7ミルのPET基板がイオン化空気を吹き込んでPETフィルムを洗浄した。混合物は、ドクター・ブレードを用いて湿潤状態の厚さ8.5ミル(〜215μm)にPET上に被覆された。図6のパターンを含むマスクが基板の近傍に配置され、フォトマスクを通してコーティングを照射するために、〜1.5°のコリメート角を有する金属アーク・ランプからの紫外線量55mJ/cm2の紫外光が使用された。次いで、重合されないモノマーを除去するため、(基板と共に)紫外光照射されたコーティングが、撹拌されたメタノール浴に約25秒間浸漬された。いずれかの残存溶剤を吹き飛ばすことによって、基板および重合化したモノマーが乾燥された。最後に、609mJ/cm2の紫外線量を照射することによって後硬化が行われた。
圧縮空気ミキサを使用して、13.4重量%のモノマーエトキシレート(6)トリメチロールピロパントリアクリレート、17.9重量%の金属アクリレートエステルオリゴマー、40.6重量%のSartomer社の低粘性オリゴマー、17.9重量%のウレタンアクリレートオリゴマー、および8.9重量%の二官能性アミン共開始剤、0.3重量%の光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、および1.0重量%の光重合開始剤2、4、6−トリメチルベンゾール−ジフェニル−フォスフィンオキシドが調製された。次いで、被覆する前に気泡を除去するために混合物が〜10−1トールの真空を用いて脱気された。厚さ7ミルのPET基板がイオン化空気を吹き込んでPETフィルムを洗浄した。混合物は、ドクター・ブレードを用いて湿潤状態の厚さ8.5ミル(〜215μm)にPET上に被覆された。図6のパターンを含むマスクが基板の近傍に配置され、フォトマスクを通してコーティングを照射するために、〜1.5°のコリメート角を有する金属アーク・ランプからの紫外線量55mJ/cm2の紫外光が使用された。次いで、重合されないモノマーを除去するため、(基板と共に)紫外光照射されたコーティングが、撹拌されたメタノール浴に約25秒間浸漬された。いずれかの残存溶剤を吹き飛ばすことによって、基板および重合化したモノマーが乾燥された。最後に、607mJ/cm2の紫外線量を照射することによって後硬化が行われた。
モノマーエトキシレート(6)トリメチロールピロパントリアクリレート、金属アクリレートエステルオリゴマー、Sartomer社の低粘性オリゴマー、ウレタンアクリレートオリゴマー、二官能性アミン共開始剤、モノマーエトキシレート(3)ビスフェノールAジアクリレート、およびモノマーポリエチレングリコール(600)ジアクリレートはペンシルバニア州のSartomer社から入手可能であり、2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−I−オン、光重合開始剤2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−I−オン(ベンジルジメチルケタール)、光重合開始剤1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、光重合開始剤2、4、6−トリメチルベンゾール−ジフェニル−フォスフィンオキシドはニューヨーク州タリータウンのCiba Specialty Chemicals社から入手可能である。PET基板はカリフォルニア州Tekra of Orange社から入手可能である。
光透過性の重合性材料は単一の材料から製造されてもよく、2つ以上の材料の混合物から製造されてもよい。光透過性の重合性材料は光重合性材料と非光重合材料とを含んでいる。例えば、光重合性材料は光重合性モノマー、ダイマー、またはその他の適宜の材料、または光重合性材料の組み合わせでよく、一方、非光重合性材料は固体、固体粒子、液体、コロイド、気体(例えば空気または窒素)、またはこれらの材料の組み合わせから選択されてもよい。光透過性の重合性材料は1つまたは複数の光重合開始剤を含んでいてもよい。
上記の実施例ではある特定の材料が使用されたが、いずれかの適宜の材料を使用してもよいことを理解されたい。さらに、大型のランダムなマスク、およびランダムなセル・マスクの無限の変形形態を作製してもよく、マスクの実施例は例示的なものであることも理解されたい。
本発明の幾つかの実施形態とその利点を詳細に記載したが、本発明の教示、添付の請求項に記載の本発明の趣旨と範囲から逸脱することなく、変更、代替、変形、修正、変形形態、置き換え、および改変を行ってもよいことを理解されたい。

Claims (51)

  1. 複数の領域を有するマスクを備えるフォトマスクであって、
    前記複数の領域の各々が、ランダムに位置する光透過性アパーチャのほぼ同一のパターンを有するフォトマスク。
  2. 前記光透過性アパーチャのほぼ同一のパターンの前記複数の領域が、巨視的にはほぼ均一に見える請求項1に記載のフォトマスク。
  3. 前記透過性アパーチャのほぼ同一のパターン内の前記光透過性アパーチャの位置が、非ランダムな位置パターンに対応し、次いで前記非ランダムなパターンが各位置でランダムな方向、および0から所定距離までの範囲にあるランダムな距離だけ摂動される請求項1に記載のフォトマスク。
  4. 前記光透過性アパーチャのほぼ同一のパターンの前記光透過性アパーチャが、少なくとも所定の距離だけ互いに分離される請求項1に記載のフォトマスク。
  5. 前記所定の距離は、隣接する光透過性アパーチャが互いに重複可能であるように選択される請求項4に記載のフォトマスク。
  6. 前記所定の距離は、隣接する光透過性アパーチャが互いに重複不能であるように選択される請求項4に記載のフォトマスク。
  7. 前記マスクの前記光透過性アパーチャが、少なくとも所定の距離だけ互いに分離される請求項4に記載のフォトマスク。
  8. フォトマスクの製造方法であって、
    光透過性アパーチャの位置をランダムに生成することによって光透過性アパーチャ・パターンを選択することと、
    前記光透過性アパーチャ・パターンをマスクの複数の領域に形成することとを含む方法。
  9. 前記光透過性アパーチャ・パターンを有する前記複数の領域が、巨視的にはほぼ同一に見える請求項8に記載の方法。
  10. 前記ランダムに生成される光透過性アパーチャの位置が非ランダムな位置パターンから生成され、次いで前記非ランダムなパターンが各位置でランダムな方向、および0から所定距離までの範囲にあるランダムな距離だけ摂動される請求項8に記載の方法。
  11. 前記ランダムに生成する光透過性アパーチャの位置が、少なくとも所定の距離だけ互いに分離される位置を生成する請求項8に記載の方法。
  12. 前記所定の距離は、隣接する光透過性アパーチャが互いに重複不能であるように選択される請求項11に記載の方法。
  13. 前記所定の距離は、隣接する光透過性アパーチャが互いに重複可能であるように選択される請求項11に記載の方法。
  14. 前記マスクの前記光透過性アパーチャが、少なくとも所定の距離だけ互いに分離される請求項11に記載の方法。
  15. ランダムに位置するデバイス構造を基板上に有する少なくとも1つの領域を有するデバイスであって、前記ランダムに位置するデバイス構造のそれぞれが底面と上面とを有するデバイスを備える光学デバイスにおいて、
    前記底面が、前記上面と前記基板との間にあり、
    前記ランダムに位置するデバイス構造の前記上面に隣接する断面が、前記ランダムに位置するデバイス構造の前記底面に隣接する断面よりも小さい面積を有し、
    前記ランダムに位置するデバイス構造が、光透過性の重合性材料から製造される光学デバイス。
  16. ランダムに位置するデバイス構造の前記少なくとも1つの領域が巨視的には同一に見える請求項15に記載のデバイス。
  17. 前記ランダムに位置するデバイス構造の位置が非ランダムな位置パターンに対応し、次いで前記非ランダムなパターンが各位置でランダムな方向、および0から所定距離までの範囲にあるランダムな距離だけ摂動される請求項15に記載のデバイス。
  18. 前記ランダムに位置するデバイス構造の中心位置が、少なくとも所定の距離だけ互いに分離される請求項15に記載のデバイス。
  19. 前記所定の距離は、隣接するランダムに位置するデバイス構造が互いに重複可能であるように選択される請求項18に記載のデバイス。
  20. 前記所定の距離は、隣接するランダムに位置するデバイス構造が互いに重複不能であるように選択される請求項18に記載のデバイス。
  21. 前記少なくとも1つの領域が2つ以上の領域であり、前記2つ以上の領域がランダムに位置するデバイス構造のパターンとほぼ同一である請求項15に記載のデバイス。
  22. 前記2つ以上の領域の前記ランダムに位置するデバイス構造の中心位置が、少なくとも所定の距離だけ互いに分離される請求項21に記載のデバイス。
  23. 前記ランダムに位置するデバイス構造が各々、平滑な側面または平滑な上面を有する請求項15に記載のデバイス。
  24. 前記ランダムに位置するデバイス構造が各々、粗い側面または粗い上面を有する請求項15に記載のデバイス。
  25. 前記ランダムに位置するデバイス構造の前記上面が各々、点である請求項15に記載のデバイス。
  26. 前記光透過性の重合性材料が単一の材料から形成される請求項15に記載のデバイス。
  27. 前記光透過性の重合性材料が2つ以上の材料の混合物から形成される請求項15に記載のデバイス。
  28. 前記光透過性の重合性材料が光重合性材料と非光重合性材料とを含む請求項27に記載のデバイス。
  29. 前記非光重合性材料が、固体、固体粒子、液体、コロイド、および気体からなる1つまたは複数の群から選択される請求項28に記載のデバイス。
  30. 前記気体が空気または窒素である請求項29に記載のデバイス。
  31. 前記ランダムに位置するデバイス構造がほぼ光を透過する材料で被覆される請求項15に記載のデバイス。
  32. 前記ほぼ光を透過する材料が散乱粒子を含む請求項31に記載のデバイス。
  33. 前記散乱粒子がガラスビード、重合材料のいずれかまたは両方である請求項32に記載のデバイス。
  34. 前記デバイスが拡散板である請求項15に記載のデバイス。
  35. 光学デバイスの形成方法であって、
    光透過性アパーチャの位置をランダムに生成することによって光透過性アパーチャ・パターンを選択することと、
    マスクの少なくとも1つの領域に前記光透過性アパーチャ・パターンを形成することと、
    基板上に光重合性材料の層を形成することと、
    前記光重合性材料の層を選択的に光重合化するために前記マスクに光を照射することと、
    前記少なくとも1つの領域が、ランダムに位置するデバイス構造を前記基板上に含むように、前記マスクに光を照射した後に重合化されずに残された光重合性材料を除去することと、を含み、
    前記ランダムに位置するデバイス構造のそれぞれが、底面と上面とを有し、
    前記底面が、前記上面と前記基板との間にあり、
    前記ランダムに位置するデバイス構造の前記上面に隣接する断面が、前記ランダムに位置するデバイス構造の前記底面に隣接する断面よりも小さい面積を有し、
    前記光重合性材料が、重合後に光透過性になる方法。
  36. 光透過性アパーチャの位置をランダムに生成することによって光透過性アパーチャ・パターンを選択することが、前記マスクの前記少なくとも1つの領域の前記光透過性アパーチャ・パターンのランダムに位置するデバイス構造が巨視的には均一に見えるように実行される請求項35に記載の方法。
  37. 光透過性アパーチャの位置をランダムに生成することによって光透過性アパーチャ・パターンを選択することが、前記ランダムに位置するデバイス構造が非ランダムな位置パターンに対応し、次いで前記非ランダムなパターンが各位置でランダムな方向、および0から所定距離までの範囲にあるランダムな距離だけ摂動されるように実行される請求項35に記載の方法。
  38. 光透過性アパーチャの位置をランダムに生成することによって光透過性アパーチャ・パターンを選択することが、前記ランダムに位置するデバイス構造の中心位置が少なくとも所定の距離だけ互いに分離されるように実行される請求項35に記載の方法。
  39. 前記所定の距離が、隣接するランダムに位置するデバイス構造が互いに重複可能であるように選択される請求項38に記載の方法。
  40. 前記所定の距離が、隣接するランダムに位置するデバイス構造が互いに重複不能であるように選択される請求項38に記載の方法。
  41. 前記少なくとも1つの領域が2つ以上の領域であり、前記2つ以上の領域がランダムに位置するデバイス構造とほぼ同一のパターンを有する請求項35に記載方法。
  42. 前記2つ以上の領域の前記ランダムに位置するデバイス構造の中心位置が、少なくとも所定の距離だけ互いに分離される請求項41に記載の方法。
  43. 前記ランダムに位置するデバイス構造が各々、平滑な側面または平滑な上面を有する請求項35に記載の方法。
  44. 前記ランダムに位置するデバイス構造が各々、粗い側面または粗い上面を有する請求項35に記載の方法。
  45. 前記ランダムに位置するデバイス構造の前記上面が各々、点である請求項35に記載の方法。
  46. 前記光重合性材料の層が単一の材料から形成される請求項35に記載の方法。
  47. 前記光重合性材料の層が2つ以上の材料の混合物から形成される請求項35に記載の方法。
  48. 前記光重合性材料の層が光重合性材料と非光重合性材料とを含む請求項47に記載の方法。
  49. 前記非光重合性材料が、固体、固体粒子、液体、コロイド、および気体からなる1つまたは複数の群から選択される請求項48に記載の方法。
  50. 前記気体が空気または窒素である請求項49に記載の方法。
  51. 前記ランダムに位置するデバイス構造が光を拡散する請求項35に記載の方法。
JP2009520989A 2006-07-20 2007-07-19 光拡散板、フォトマスク、およびこれらの製造方法 Pending JP2009544990A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/489,715 US7670726B2 (en) 2006-07-20 2006-07-20 Optical diffusers, photomasks and their methods of fabrication
PCT/US2007/073845 WO2008011497A2 (en) 2006-07-20 2007-07-19 Optical diffusers, photomasks and their methods of fabrication

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009544990A true JP2009544990A (ja) 2009-12-17

Family

ID=38957608

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009520989A Pending JP2009544990A (ja) 2006-07-20 2007-07-19 光拡散板、フォトマスク、およびこれらの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (3) US7670726B2 (ja)
JP (1) JP2009544990A (ja)
KR (1) KR20090033178A (ja)
CN (1) CN101523288A (ja)
WO (1) WO2008011497A2 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006094108A1 (en) 2005-03-01 2006-09-08 Masimo Laboratories, Inc. Multiple wavelength sensor equalization
US7842376B2 (en) * 2006-05-24 2010-11-30 Zhijian Lu Diffusers and methods of manufacture
US7670726B2 (en) * 2006-07-20 2010-03-02 Zhijian Lu Optical diffusers, photomasks and their methods of fabrication
US8374665B2 (en) 2007-04-21 2013-02-12 Cercacor Laboratories, Inc. Tissue profile wellness monitor
TW200949369A (en) 2008-02-15 2009-12-01 3M Innovative Properties Co Brightness enhancing film and film based diffuser for improved illumination uniformity of displays
KR20100081831A (ko) * 2009-01-07 2010-07-15 삼성전자주식회사 포토 마스크
US9839381B1 (en) 2009-11-24 2017-12-12 Cercacor Laboratories, Inc. Physiological measurement system with automatic wavelength adjustment
GB2487882B (en) 2009-12-04 2017-03-29 Masimo Corp Calibration for multi-stage physiological monitors
CN101964024B (zh) * 2010-10-20 2012-05-09 东南大学 一种快速确定固相颗粒所在气相非结构网格的方法
EP2613367A3 (en) 2012-01-06 2013-09-04 Imec Method for producing a led device .
US8601409B1 (en) * 2012-07-12 2013-12-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co, Ltd. Compression method and system for use with multi-patterning
USD765884S1 (en) * 2015-09-01 2016-09-06 Lumicor Inc. Architectural panel with repurposed metal shapes
WO2017204748A1 (en) * 2016-05-25 2017-11-30 Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. Microlens array diffusers
JP2023031994A (ja) * 2021-08-26 2023-03-09 デクセリアルズ株式会社 光硬化性材料及び画像表示装置

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5538817A (en) * 1994-06-17 1996-07-23 Litel Instruments Gray level imaging masks and methods for encoding same
US5521726A (en) 1994-08-26 1996-05-28 Alliedsignal Inc. Polarizer with an array of tapered waveguides
JP3388986B2 (ja) * 1996-03-08 2003-03-24 株式会社東芝 露光用マスク及びその製造方法
US6303276B1 (en) 1998-05-08 2001-10-16 Physical Optics Corporation Method and apparatus for making optical master surface diffusers suitable for producing large format optical components
US6752505B2 (en) * 1999-02-23 2004-06-22 Solid State Opto Limited Light redirecting films and film systems
US6291146B1 (en) 1999-04-09 2001-09-18 Industrial Technology Research Institute Method for reforming a reflection-type light diffuser
US7230764B2 (en) * 2000-08-18 2007-06-12 Reflexite Corporation Differentially-cured materials and process for forming same
TW567392B (en) * 2001-09-07 2003-12-21 Nec Corp Device for generating ragged pattern data in random arrangement, computer program, mask and manufacturing device, light reflection member manufacturing device, liquid crystal manufacturing device, liquid crystal display device, portable terminal device
JP4174344B2 (ja) 2002-03-15 2008-10-29 日東電工株式会社 反射防止フィルム、その製造方法、光学素子および画像表示装置
JP3733923B2 (ja) * 2002-04-10 2006-01-11 セイコーエプソン株式会社 マスク及び表示装置の製造方法
JP2003302742A (ja) * 2002-04-10 2003-10-24 Seiko Epson Corp マスク、光反射膜付き基板、光反射膜の製造方法、および液晶表示装置、並びに電子機器
JP4252262B2 (ja) * 2002-07-11 2009-04-08 株式会社オクテック 露光用転写マスクの製造方法
US7160649B2 (en) * 2002-07-11 2007-01-09 Hitachi Via Mechanics, Ltd. Gray level imaging masks, optical imaging apparatus for gray level imaging masks and methods for encoding mask and use of the masks
JP4240966B2 (ja) * 2002-09-06 2009-03-18 キヤノン株式会社 近接場光マスク、これを用いた近接場露光装置、これを用いたドットパターン作製方法
US6859326B2 (en) * 2002-09-20 2005-02-22 Corning Incorporated Random microlens array for optical beam shaping and homogenization
US6952627B2 (en) * 2002-12-18 2005-10-04 General Electric Company Method and apparatus for fabricating light management substrates
JP2005024754A (ja) * 2003-06-30 2005-01-27 Shin Sti Technology Kk フォトマスク、拡散反射板及びその製造方法並びにカラーフィルタ
US7316498B2 (en) * 2003-12-31 2008-01-08 General Electric Company Faceted optical substrate and method of fabricating a faceted optical substrate and a backlight display comprising the faceted optical substrate
US7808706B2 (en) * 2004-02-12 2010-10-05 Tredegar Newco, Inc. Light management films for displays
US7246343B2 (en) * 2004-09-01 2007-07-17 Invarium, Inc. Method for correcting position-dependent distortions in patterning of integrated circuits
KR100717851B1 (ko) * 2004-12-14 2007-05-14 엘지전자 주식회사 미세가공 기술을 이용한 마이크로렌즈 배열 시트 및 그제조방법
US7220026B2 (en) * 2004-12-30 2007-05-22 3M Innovative Properties Company Optical film having a structured surface with offset prismatic structures
CN2791693Y (zh) * 2005-04-29 2006-06-28 群康科技(深圳)有限公司 聚光片及采用该聚光片的背光模组
US7232250B2 (en) * 2005-05-16 2007-06-19 Chih-Lun Chuang Prism sheet
KR101372024B1 (ko) * 2005-06-09 2014-03-07 유브라이트 옵트로닉스 코포레이션 불규칙 프리즘 구조를 갖는 광학기판
KR100784551B1 (ko) * 2005-10-19 2007-12-11 엘지전자 주식회사 백라이트 장치에 사용되는 프리즘시트
KR20070103544A (ko) * 2006-04-19 2007-10-24 삼성전자주식회사 액정 표시 장치 및 그에 사용되는 프리즘 시트
KR20070109134A (ko) * 2006-05-09 2007-11-15 엘지전자 주식회사 프리즘 시트, 이를 구비한 백라이트 유닛 및 액정표시장치
US7842376B2 (en) * 2006-05-24 2010-11-30 Zhijian Lu Diffusers and methods of manufacture
US7670726B2 (en) * 2006-07-20 2010-03-02 Zhijian Lu Optical diffusers, photomasks and their methods of fabrication
US20080101759A1 (en) * 2006-10-26 2008-05-01 K Laser Technology, Inc. Prism matrix with random phase structures

Also Published As

Publication number Publication date
CN101523288A (zh) 2009-09-02
US20080020291A1 (en) 2008-01-24
WO2008011497A2 (en) 2008-01-24
US7670726B2 (en) 2010-03-02
KR20090033178A (ko) 2009-04-01
US8409789B2 (en) 2013-04-02
US20100112490A1 (en) 2010-05-06
WO2008011497A3 (en) 2008-11-20
US7838204B2 (en) 2010-11-23
US20100302641A1 (en) 2010-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009544990A (ja) 光拡散板、フォトマスク、およびこれらの製造方法
US8101282B2 (en) Diffusers and methods of manufacture
TWI383192B (zh) 光準直裝置
DE60101270T2 (de) Beleuchtungseinheit
TWI452414B (zh) Method of Making Surface Bump
WO2007116671A1 (ja) 表面凹凸の作製方法
JP2008542797A (ja) 光学フィルム、その製造方法及び使用方法
TW202122835A (zh) 擴散板、顯示裝置、投影裝置及照明裝置
KR20100015838A (ko) 표면 요철의 제작방법
WO2009116429A1 (ja) 光制御フィルム、これを用いたバックライト装置および凹凸パターン形成用型の作製方法
JP2006504987A (ja) 略平行化された光を生成するための装置及びこの装置を使用して光重合可能な層を硬化する方法
US7258966B2 (en) Method for manufacturing a diffuser for a backlight module
WO2023190682A1 (ja) 拡散板および装置
KR101906906B1 (ko) 도광판용 몰드 프레임과 이의 제조방법 및 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법
CN112703433B (zh) 光学体的制造方法
JP3490732B2 (ja) プラスチック製非球面マイクロレンズの製造方法
WO2006124789A2 (en) Diffusers and methods of manufacturing
JP2023152876A (ja) 拡散板および装置
KR20240056813A (ko) 광학 필름, 디스플레이 모듈 및 디스플레이 스크린
TW200925683A (en) Light guide plate, manufacturing method and application thereof
JP2004070122A (ja) マイクロレンズシートおよびその製造方法
JPS63231302A (ja) 光拡散板状体およびその製造法