KR101906906B1 - 도광판용 몰드 프레임과 이의 제조방법 및 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법 - Google Patents

도광판용 몰드 프레임과 이의 제조방법 및 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법 Download PDF

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Abstract

도광판의 제조 비용 및 제조 시간을 단축시킬 수 있는 도광판용 몰드 프레임과 이의 제조방법 및 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법이 제공된다. 도광판용 몰드 프레임은, 표면에 연속적인 형태의 제1 패턴을 갖는 기판 및 상기 제1 패턴 상에 형성되며, 소정 간격을 갖도록 서로 이격된 형태로 형성된 제2 패턴을 포함한다.

Description

도광판용 몰드 프레임과 이의 제조방법 및 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법{Mold frame for light guide plate, manufacturing method for light guide plate comprising the same and method for pattern forming using mold frame}
본 발명은 도광판용 몰드 프레임과 이의 제조방법 및 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 도광판의 제조 비용 및 제조 시간을 단축시킬 수 있는 도광판용 몰드 프레임과 이의 제조방법 및 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법에 관한 것이다.
디스플레이장치는 시각정보 전달매체로서, 브라운관 면에 문자나 도형의 형식으로 데이터를 시각적으로 표시하는 것을 말한다.
일반적으로 평판디스플레이(Flat Panel Display : FPD)장치는 TV 또는 컴퓨터 모니터 브라운관을 이용하여 보다 두께가 얇고 가벼운 영상표시장치로서, 그 종류에는 액정을 이용한 LCD(Liquid Crystal Display), 가스 방전을 이용한 PDP(Plasma Display Panel : PDP), 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 발광현상을 이용하여 만든 유기물질인 OLED(Organic Light Emitting) 및 전기장내 하전된 입자가 양극 또는 음극쪽으로 이동하는 현상을 이용하는 EPD (Electric Paper Display) 등이 있다.
평판디스플레이장치 중 가장 대표적인 LCD는 액티브 매트릭스(Active Matrix) 형태로 배열된 화소들에 화상정보에 따른 데이터신호를 개별적으로 공급하여 화소들의 광투과율을 조절함으로써 원하는 화상을 표시한다.
이러한 LCD는 자체적으로 발광하지 못하므로 화상 정보를 디스플레이하기 위해서는 액정 패널을 조명할 수 있는 발광장치가 필요하다.
LCD의 발광장치는 액정 패널의 배면에 결합되므로 백라이트 유니트(backlight unit)로 불리는데, 이 백라이트 유니트는 균일한 면광원을 형성하여 액정 패널에 광원을 제공한다.
일반적인 백라이트 유니트는 광원, 도광판, 확산시트, 프리즘 및 보호시트 등을 포함하며, 광원으로는 형광램프 또는 발광 다이오드 등이 사용될 수 있다.
여기서, 도광판은 광원으로부터 입사된 광은 면광원으로 변환하는 역할을 하며, 도광판에 형성되는 패턴의 형성과 크기 및 밀도에 따라 광의 진행 방향이 달라지게 된다. 이러한 도광판에 패턴을 형성하는 방법에는 실크 프린팅(silk printing) 방법, 사출 및 레이저를 이용한 방법들이 있다.
도 1 내지 도 4는 종래 도광판에 패턴을 형성하는 방법을 나타내는 도면이고, 도 5는 종래 도광판에 패턴을 형성하기 위한 2차원 마스크를 나타내는 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 먼저, 도광판(10)에 패턴을 형성하기 위한 실크 프린팅 방법으로서, 잉크가 통과되는 부분과 통과되지 않는 부분으로 구성되어 있는 매쉬 패턴(mesh pattern, 20)을 사용하여 산란입자(12)가 포함된 화이트 잉크를 도광판(10)에 코팅하는 방법이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 사출 방법은 도광판에 패턴을 형성하기 위해 메탈 몰드(metal mode, 30)를 사용한다. 이때, 메탈 몰드(30)의 표면에 소정의 패턴이 형성되어 있으며, 표면에 형성된 패턴들은 레이저 또는 바이트(bite) 등을 사용하여 형성할 수 있다. 그리고, 도광판 물질로 사용되는 폴리메칠 메타크릴레이트(PMMA, 40)를 메탈 몰드에 주입하여 사출시 폴리메칠 메타크릴레이트(40) 표면에 패턴(42)이 형성된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 레이저를 이용한 방법은 도광판 표면에 설계된 밀도 데이터를 사용하여 직접 가공하는 방법으로, 레이저 방법은 열을 이용하여 도광판(60) 표면을 녹여 패턴(62)을 형성하고, 레이저 빔의 프로파일(profile) 즉, 포커스 위치와 반경 등에 의해 제한적이지만 여러가지 패턴을 만들수 있다. 레이저 방법을 사용하여 도광판(60)에 패턴을 형성한 경우, 도광판(60)의 가운데 부분이 움푹 들어간 모양으로 패턴이 형성될 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 포토 리소그래피 공정은 기판(80) 상에 포토 레지스트(82)를 형성하고, 포토 레지스트(82) 상에 소정의 패턴이 형성되어 있는 마스크(90)를 배치한 후, 자외선(UV)을 이용하여 패턴을 형성하는 방법이다. 이에 따라 노광 및 현상 공정을 실시하여 수 ㎛ 또는 ㎚ 크기의 미세 패턴을 형성할 수 있다.
그러나, 도 1에서와 같이 실크 프린팅 방법은 잉크의 점성과 매쉬 패턴의 크기의 한계로 인하여 패턴의 크기를 최소화하기 어려운 단점이 있다. 예를 들면, 매쉬 패턴의 크기는 직경 200㎛ 이상일 수 있다.
또한, 도 2에서와 같이, 사출 방법은 사출을 위한 메인 코어(main core) 금형을 제작해야 하며, 패턴이 형성된 메탈 몰드가 필요하다. 메인 코어와 메탈 몰드의 제작 시간이 최소한 10일 이상 걸리고, 메탈 몰드의 패턴이 잘못 형성된 경우, 부분 수정이 불가능하여 새로 제작해야 하는 번거로움이 있다. 또한, 사출기의 성능에 따라 패턴이 형성되지 않을 수 도 있다.
아울러, 도 3에서와 같이, 레이저 방법은 레이저 파워의 불안정성으로 인해 패턴이 불균일하게 형성될 수 있다. 또한, 패턴 크기는 광학계의 의존하며, 일반적으로 형성할 수 있는 패턴의 크기는 예를 들면, 100㎛이며, 미세 패턴 형성시 제조 시간이 증가하는 단점이 있다.
그리고, 도 4에서와 같이, 포토 리소그래피 공정은 2차원 마스크와 기판의 한계로 인하여 구현할 수 있는 패턴의 한계가 있다. 도 5는 2차원 마스크를 나타내는 평면도로서, 패턴의 두께를 형성하기 위해서는 광의 진행 방향 및 포토 레지스트의 두께를 변경해야 한다. 일반적으로 3차원 패턴을 구현하기 위해 확산기(diffuser)를 사용하여 평행 광을 산란 광으로 변화시켜 패터닝 할 수 있으나, 광의 진행 방향을 변경하여 패터닝할 경우, 광 조절의 한계 즉, 광의 세기 방향에 대한 분포 차이 및 회절로 인하여 원하는 패턴을 구현하기 어려운 단점이 있다.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 도광판의 제조 비용 및 제조 시간을 단축시킬 수 있는 도광판용 몰드 프레임과 이의 제조방법 및 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법을 제공함에 있다.
본 발명의 다른 목적 및 특징들은 후술되는 발명의 구성 및 특허청구범위에서 설명될 것이다.
상기한 목적들을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임은, 표면에 연속적인 프리즘형상의 제1 패턴을 갖는 기판과, 상기 제1 패턴 상에 형성되고 소정 간격을 갖도록 서로 불연속적으로 이격된 개구부를 가진 3차원의 제2 패턴을 포함하며, 연속적인 형태의 제1 패턴의 프리즘형상의 오목부 일부가 상기 제 2패턴의 개구부를 통해 외부로 노출되고 노출된 제1 패턴의 오목부와 제2 패턴의 개구부가 정렬되어 하나의 도광판패턴 형성용 패턴을 구성하며, 상기 3차원의 제2 패턴은 밀도 분포를 갖는 미세패턴으로 구성되어, 복수의 도광판패턴 형성용 패턴에 의해 제1 패턴 높이와 제2 패턴의 높이를 합한 높이를 가지고 상기 제1 패턴의 프리즘 오목부와 제2 패턴의 개구부가 정렬된 형상과 동일한 형상으로 이루어져 동일한 방향으로부터 입사되는 광을 굴절시키는 도광판 패턴이 형성되는 것을 특징으로 한다.
상기 제1 패턴을 형성하기 위한 수단은 역삼각형, 역사다리꼴 및 반원 중에서 선택된 어느 하나의 형상을 갖는다. 상기 기판은 메탈(metal) 또는 소프트 몰드(soft mold)이다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임의 제조방법은, 기판의 표면을 기계적으로 가공하여 소정의 연속적인 프리즘형상의 제1 패턴을 형성하는 단계와, 상기 제1 패턴이 형성된 기판 상에 포토 레지스트를 도포하는 단계와, 상기 포토 레지스트가 도포된 기판 상에 패턴의 밀도 분포를 형성하기 위한 소정의 불연속적인 형태의 노광패턴이 형성된 마스크를 배치하는 단계와, 상기 마스크를 통해 상기 기판 상에 자외선을 조사하여 상기 포토레지스트에 노광 및 현상을 실시하는 단계와, 상기 기판 상의 마스크를 분리하여 상기 기판의 상기 제1 패턴상에 소정 간격을 갖도록 서로 이격되고 밀도 분포를 갖는 불연속적인 개구부를 가진 3차원의 제2 패턴을 형성하는 단계를 포함하며, 연속적인 형태의 제1 패턴의 프리즘형상의 오목부 일부가 상기 제2 패턴의 개구부를 통해 외부로 노출되고 노출된 제1 패턴의 오목부와 제2 패턴의 개구부가 정렬되어 하나의 도광판 패턴 형성용 패턴을 구성하는 것을 특징으로 한다.
상기 제1 패턴을 형성하기 위한 수단은 역삼각형, 역사다리꼴 및 반원 중에서 선택된 어느 하나의 형상을 갖는다. 상기 기판은 메탈(metal) 또는 소프트 몰드(soft mold)이다.
아울러, 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판의 패턴 형성방법은, 기판의 표면에 소정의 연속적인 형태의 제1 패턴을 형성하는 단계와, 상기 제1 패턴이 형성된 기판 상에 포토 레지스트를 도포하는 단계와, 상기 포토 레지스트가 도포된 기판 상에 패턴의 밀도 분포를 형성하기 위한 소정의 불연속적인 형태의 노광패턴이 형성된 마스크를 배치하는 단계와, 상기 마스크를 통해 상기 기판 상에 자외선을 조사하여 상기 포토레지스트에 노광 및 현상을 실시하는 단계와, 상기 기판 상의 마스크를 분리하여 상기 기판의 상기 제1 패턴상에 소정 간격을 갖도록 서로 이격되며, 밀도 분포를 갖는 불연속적인 형태의 3차원의 제2 패턴을 형성하여 도광판용 몰드 프레임을 형성하는 단계와, 베이스 기판 상에 열경화성 수지를 도포하는 단계와, 상기 베이스 기판 상에 불연속적인 형태의 3차원 형상의 제2 패턴을 가진 상기 도광판용 몰드 프레임을 배치하는 단계와, 상기 베이스 기판에 자외선을 조사하여 상기 베이스 기판의 표면에 밀도 분포를 갖는 불연속적인 형태의 미세패턴을 형성하는 단계로 구성된다.
상기 도광판용 몰드 프레임은 평판 형태 또는 롤 형태로 제작된다. 상기 베이스 기판은 폴리메칠 메타크릴레이트(PMMA), 폴리스틸렌(PS), 메타크릴산 메틸-스티렌 공중합체(MS), 폴리카보 네이트(PC) 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)로 이루어지는 그룹에서 선택된 어느 하나이다. 상기 수지는 열경화성 수지이며, 상기 열경화성 수지는 상기 베이스 기판과 굴절률 차이가 ±0.1 이내이다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 도광판용 몰드 프레임과 이의 제조방법 및 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법은 도광판의 제조 비용 및 제조 시간을 단축시킬 수 있는 효과를 제공한다.
도 1 내지 도 4는 종래 도광판에 패턴을 형성하는 방법을 나타내는 도면.
도 5는 종래 도광판에 패턴을 형성하기 위한 2차원 마스크를 나타내는 도면.
도 6a 내지 도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임의 제조 과정을 나타내는 도면.
도 12 내지 도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임을 사용하여 도광판에 패턴을 형성하는 과정을 나타내는 도면.
도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임의 3차원 형상을 나타내는 도면.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 도광판용 몰드 프레임 및 이를 포함하는 도광판용 몰드 프레임을 이용한 도광판의 패턴 형성방법의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도 6a 내지 도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임의 제조 과정을 나타내는 도면이고, 도 12 내지 도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임을 사용하여 도광판에 패턴을 형성하는 과정을 나타내는 도면이고, 도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임의 3차원 형상을 나타내는 도면이다.
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임을 나타내는 평면도로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임을 형성하기 위해 먼저 기판(110)에 금속을 자르거나 깍을 때 사용되는 도구, 예를 들면, 바이트(bite, 112)를 이용하여 제1 패턴(114)을 형성한다. 여기서, 기판(110)은 메탈(metal) 또는 소프트 몰드(soft mold)일 수 있다.
도 6b는 기판(110)에 바이트(bite, 112)를 이용하여 제1 패턴(114)을 형성한 상태를 보여주는 단면도로서, 이때, 바이트(112)는 도 7a 내지 도 7c에 도시된 바와 같이, 역삼각형, 역사다리꼴, 반원 등의 형상을 가질 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임을 형성하기 위해 사용되는 마스크의 평면도로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임에 패턴의 밀도 분포를 형성하기 위해 마스크(210)에 노광 패턴(212)을 형성한다. 이때, 노광 패턴(212)은 패턴들 사이에 소정 간격을 갖도록 서로 이격된 불연속적인 패턴일 수 있다.
그 다음, 도 9에 도시된 바와 같이, 제1 패턴(114)이 형성된 기판(110) 상에 포토 레지스트(116)를 도포한다.
이어서, 도 10에 도시된 바와 같이, 포토 레지스트(116) 상에 도 8의 마스크(210)를 배치하고, 자외선(UV)을 조사하여 노광 공정을 실시한다.
계속해서, 도 11에 도시된 바와 같이, 현상 공정을 실시한 후, 마스크(210)를 분리하여 제1 패턴(114) 상에 제2 패턴(116a)을 형성하여 도광판용 몰드 프레임(300)을 제조한다. 이때, 제1 패턴(114)은 연속적으로 형성될 수 있으며, 제2 패턴(116a)은 패턴들 사이에 소정 간격을 갖도록 서로 이격된 불연속적인 패턴일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서는 설명의 편의를 위하여 도광판용 몰드 프레임이 평판 상태로 형성된 것에 대해 설명하였으나, 롤 형태의 몰드 프레임으로 제작하는 것도 가능하다.
이하, 도 12 내지 도 14를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임을 사용하여 도광판에 패턴을 형성하는 과정을 설명하기로 한다.
먼저, 도 12에 도시된 바와 같이, 도광판에 패턴을 형성하기 위해 베이스 기판(150) 상에 열경화 수지(160)를 도포한다. 이때, 베이스 기판(150)은 폴리메칠 메타크릴레이트(PMMA), 폴리스틸렌(PS), 메타크릴산 메틸-스티렌 공중합체(MS), 폴리카보 네이트(PC) 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)로 이루어지는 그룹에서 선택된 어느 하나로 형성될 수 있다. 여기서, 열경화성 수지(160)는 도광판 물질과 굴절률 차이가 ±0.1 이내인 것을 사용할 수 있다.
그 다음, 도 13에 도시된 바와 같이, 베이스 기판(150) 상에 도 11의 도광판용 몰드 프레임(300)을 배치한다. 이때, 패턴이 형성된 부분이 아래 부분을 향하도록 도광판용 몰드 프레임(300)을 배치한다. 이어서, 베이스 기판(150)에 자외선을 조사하여 열경화 수지(160)를 경화시켜 베이스 기판(150)의 표면에 소정의 미세패턴(162)을 형성한다.
계속해서, 도 14에 도시된 바와 같이, 베이스 기판(150) 상부에 배치된 도광판용 몰드 프레임(300)을 분리하여 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판(400)을 완성한다. 여기서, 도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 도광판용 몰드 프레임의 3차원 형상을 나타내고 있으며, 도광판용 몰드 프레임(300)을 사용하여 밀도 분포를 갖는 미세 패턴(162)을 도광판(400) 표면에 형성할 수 있다.
상기와 같이, 본 발명의 일 실시예서는 기존의 포토 리소그래피 공정을 사용하여 도광판용 몰드 프레임을 제조함으로써 종래 사출 방법과 달리 제작 시간과 비용을 절감할 수 있다. 그리고, 사출기의 성능에 따라 패턴이 형성되거나 또는 형성되지 않는 종래 사출 방법과 달리 도광판용 몰드 프레임을 사용하여 도광판 표면에 미세패턴을 한 번에 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에서는 기존의 포토 리소그래피 공정을 사용하여 미세 패턴을 갖는 도광판용 몰드 프레임을 제조하고, 이를 사용하여 도광판 표면에 미세 패턴을 형성할 수 있다.
아울러, 본 발명의 일 실시예에서는 도광판용 몰드 프레임을 사용함으로써 도광판 표면에 균일한 미세패턴을 형성할 수 있으며, 패턴의 크기도 최소화시킬 수 있다. 또한, 기존의 포토 리소그래피 공정을 사용하여 도광판용 몰드 프레임에 3차원 패턴을 용이하게 구현할 수 있다.
상기한 설명에 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나 이것은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서, 발명은 설명된 실시예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위에 균등한 것에 의하여 정하여져야 한다.
110: 기판 112: 바이트
114: 제1 패턴 116: 포토 레지스트
116a: 제2 패턴 150: 베이스 기판
160: 열경화 수지 210: 마스크
212: 노광 패턴 300: 도광판용 몰드 프레임
400: 도광판

Claims (10)

  1. 표면에 일방향을 따라 연장되는 프리즘형상의 제1 패턴을 갖는 기판; 및
    상기 제1 패턴 상에 형성되며, 제1 패턴의 연장방향을 따라 소정 간격을 두고 불연속적으로 이격된 복수의 개구부가 형성된 제2 패턴을 포함하며,
    제1 패턴의 프리즘형상의 오목부 일부가 상기 제 2패턴의 개구부를 통해 외부로 노출되고 노출된 제1 패턴의 오목부와 제2 패턴의 개구부가 정렬되어 하나의 도광판패턴 형성용 패턴을 구성하며, 상기 도광판패턴 형성용 패턴은 제1 패턴의 연장방향을 따라 복수개가 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 도광판용 몰드 프레임.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패턴을 형성하기 위한 수단은 역삼각형, 역사다리꼴 및 반원 중에서 선택된 어느 하나의 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 도광판용 몰드 프레임.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 기판은 메탈(metal) 또는 소프트 몰드(soft mold)인 것을 특징으로 하는 도광판용 몰드 프레임.
  4. 기판의 표면을 기계적으로 가공하여 일방향을 따라 연장되는 프리즘형상의 제1 패턴을 형성하는 단계;
    상기 제1 패턴이 형성된 기판 상에 포토 레지스트를 도포하는 단계;
    상기 포토 레지스트가 도포된 기판 상에 마스크를 배치하는 단계;
    상기 마스크를 통해 상기 기판 상에 자외선을 조사하여 상기 포토레지스트에 노광 및 현상을 실시하는 단계; 및
    상기 기판 상의 마스크를 분리하여 상기 기판의 상기 제1 패턴상에 제1 패턴의 연장방향을 따라 소정 간격을 두고 서로 이격되는 개구부를 가진 제2 패턴을 형성하는 단계를 포함하며,
    제1 패턴의 프리즘형상의 오목부 일부가 상기 제2 패턴의 개구부를 통해 외부로 노출되고 노출된 제1 패턴의 오목부와 제2 패턴의 개구부가 정렬되어 하나의 도광판 패턴 형성용 패턴을 구성하며, 상기 도광판패턴 형성용 패턴은 제1 패턴의 연장방향을 따라 복수개가 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 도광판용 몰드 프레임의 제조방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1 패턴을 형성하기 위한 수단은 역삼각형, 역사다리꼴 및 반원 중에서 선택된 어느 하나의 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 도광판용 몰드 프레임의 제조방법.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 기판은 메탈(metal) 또는 소프트 몰드(soft mold)인 것을 특징으로 하는 도광판용 몰드 프레임의 제조방법.
  7. 기판의 표면에 일방향을 따라 연장되는 제1 패턴을 형성하는 단계;
    상기 제1 패턴이 형성된 기판 상에 포토 레지스트를 도포하는 단계;
    상기 포토 레지스트가 도포된 기판 상에 마스크를 배치하는 단계;
    상기 마스크를 통해 상기 기판 상에 자외선을 조사하여 상기 포토레지스트에 노광 및 현상을 실시하는 단계;
    상기 기판 상의 마스크를 분리하여 상기 기판의 상기 제1 패턴상에 제1 패턴의 연장방향을 따라 소정 간격을 두고 서로 이격되는 개구부를 가진 제2 패턴을 형성하여 도광판용 몰드 프레임을 형성하는 단계;
    베이스 기판 상에 열경화성 수지를 도포하는 단계;
    상기 베이스 기판 상에 상기 도광판용 몰드 프레임을 배치하는 단계; 및
    상기 베이스 기판에 자외선을 조사하여 상기 베이스 기판의 표면에 도광판용 몰드 프레임의 제1 패턴의 연장방향과 대응하는 방향을 따라 불연속적으로 배치되는 복수의 미세패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판의 패턴 형성방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 도광판용 몰드 프레임은 평판 형태 또는 롤 형태로 제작되는 것을 특징으로 하는 도광판의 패턴 형성방법.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 베이스 기판은 폴리메칠 메타크릴레이트(PMMA), 폴리스틸렌(PS), 메타크릴산 메틸-스티렌 공중합체(MS), 폴리카보 네이트(PC) 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)로 이루어지는 그룹에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 도광판의 패턴 형성방법.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 열경화성 수지는 상기 베이스 기판과 굴절률 차이가 ±0.1 이내인 것을 특징으로 하는 도광판의 패턴 형성방법.
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