JP2009534527A5 - - Google Patents

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本発明は、少なくとも1つの導電性支持体又は非導電性支持体における構造化された若しくは全面の導電性面を電解コーティングする装置であって、
少なくとも1個の電解槽、1個のアノード及び1個のカソードを備え、且つ電解槽は、少なくとも1種の金属塩を有する電解質溶液を含み、電解質溶液から金属イオンを、支持体の導電性面に析出(蒸着させて、金属層を形成することを特徴とする装置に関する。
DE−B10342512は、処理されるべきストリップ形状物の表面において、相互に電気的に絶縁された導電性構造物を電解処理する装置及び方法を開示している。この場合、処理されるべき物は、搬送路上で且つ連続的に搬送方向に搬送され、且つ処理されるべき物を、電気分解領域の外側に配置される接触電極と接触させて、導電性構造物に対してマイナスの電圧を施す。その後、電気分解領域において、処理液から金属イオンを導電性支持体に析出(蒸着させて、金属層を形成する。金属は、導電性構造物を接触電極と接触させる場合だけ導電性構造物に蒸着されるので、被覆されるべき導電性構造物が電気分解領域に在ると同時に、電気分解領域の外側で接触させるように主として寸法形成される構造物を被覆することのみ可能である。
上記の目的は、少なくとも1つの導電性支持体又は非導電性支持体における構造化された若しくは全面の(full-surface)導電性面を電解コーティングする装置であって、少なくとも1個の電解槽、1個のアノード及び1個のカソードを備え、且つ電解槽は、少なくとも1種の金属塩を有する電解質溶液を含むことを特徴とする装置によって達成される。電解質溶液から、金属イオンを、支持体の導電性面に対して析出(蒸着させて、金属層を形成する。このために、少なくとも1個のアノードを、被覆されるべき支持体の表面と接触させると共に、支持体を電解槽に搬送する。本発明によると、カソードは、少なくとも1つの導電性部を有する少なくとも1つのバンド(band)を含み、そのバンドは、少なくとも2本の回転可能な軸を中心として案内される(軸の周りに案内される)。軸は、各支持体に適合させる好適な断面を有するように構成される。軸は、円筒形に構成されるのが好ましく、例えば、軸に対して、少なくとも1つのバンドが作動する条溝が設けられていても良い。バンドの電気接触の場合、少なくとも1本の軸は、カソード接続されるのが好ましく、且つ軸は、軸の表面からバンドに電流が伝導するように構成される。軸に対して、少なくとも1つのバンドが作動する条溝が設けられる場合、支持体を、軸及びバンドを介して同時に接触させることが可能である。それでもなお、条溝のみが導電性であり、そして条溝の間における軸の領域が、絶縁材料から作製されることも可能であり、これにより、支持体が、軸を介して電気接触されるのを同様に防ぐことが可能である。軸に対しては、例えば、スリップリングを介して電流が供給されるが、電流を回転軸に対して伝導することが可能な他の好適な装置を使用することも可能である。

Claims (29)

  1. 少なくとも1つの導電性支持体(8)、又は非導電性支持体(8)における構造化された若しくは全面の導電性面を電解コーティングする装置であって、
    1個の電解槽、1個のアノード及び1個のカソード(1)を少なくとも備え、
    電解槽は、少なくとも1種の金属塩を有する電解質溶液を含み、該電解質溶液から金属イオンが、支持体(8)の導電性面に析出されて金属層が形成され、
    カソード(1)は、支持体(8)の被覆される表面と接触され、そして支持体は、電解槽を通って搬送され、且つ
    カソード(1)は、少なくとも1つの導電性部を有する少なくとも1つのバンド(2)を備え、バンド(2)は、少なくとも2本の回転可能な軸(3,19)の回りに案内されることを特徴とする装置。
  2. 少なくとも1本の軸(3,19)は、導電性であり、且つ該軸(3,19,20)を介して電圧が供給される請求項1に記載の装置。
  3. 複数のバンド(2)を連続してオフセット配置する請求項1又は2に記載の装置。
  4. オフセット配置される各々の連続バンド(2)は、少なくとも1本の共通の軸(3)を介して案内される請求項3に記載の装置。
  5. 少なくとも1つのバンド(2)は、網目の形で構成されるか、又は細孔を有する請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
  6. 網目の形で構成されるバンドは、異なるメッシュ幅及び/又はメッシュ形状及び/又はオフセットメッシュの部分を含む請求項5に記載の装置。
  7. 細孔が設けられたバンドは、相互に異なる大きさの細孔及び/又は異なる形状の細孔及び/又はオフセット細孔を有する部分を含む請求項5に記載の装置。
  8. 少なくとも1つのバンド(2)は、導電性部分(12)と非導電性部分(13)を交互に含む請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。
  9. バンド(2)は、更に、少なくとも1本のアノード接続された軸(3,20)の周り案内される請求項8に記載の装置。
  10. 導電性部分(12)の長さ(L)は、少なくとも2本のカソード接続された軸間の距離(h)に等しいか、又は長く、カソード接続された軸と隣接するアノード接続された軸との間の距離(d)より短い請求項9に記載の装置。
  11. 装置は、更に、支持体(8)を回転可能であり、且つ電解槽の内側又は外側に配置可能である装置を備える請求項1〜10のいずれか1項に記載の装置。
  12. 少なくとも2つのバンド(2)は、被覆される支持体(8)を、これらのバンドの間を通って案内可能であり、そしてバンド(2)が支持体(8)の上側と下側とそれぞれ接触するように配置される請求項1〜11のいずれか1項に記載の装置。
  13. 軸(3)を、カソード接続及びアノード接続することが共に可能であり、そして支持体(8)に降下させるか、又は支持体(8)から上昇させることが可能である請求項1〜12のいずれか1項に記載の装置。
  14. 少なくとも1つのバンド(2)における導電性部(12)及び軸の表面は、装置の稼働中に電解質溶液中を通過しない導電性材料から作製される請求項1〜13のいずれか1項に記載の装置。
  15. 第1のローラーから巻き戻され、そして第2のローラーに巻き取られる可撓性の支持体を被覆するために、少なくとも2本の軸(3)の周りに案内される複数のバンド(2)は、相互に重ねて、又は相互に隣接して配置され、且つ可撓性支持体が、蛇行式でバンド(2)を通過する請求項1〜14のいずれか1項に記載の装置。
  16. 軸(3)は、非導電性部分(36)によってそれぞれ相互に分離される複数の導電性部分(35)から構成され、且つ導電性部分(35)は、カソード接続及びアノード接続することが共に可能であり、そして少なくとも1つのバンド(2)は、導電性部(12)及び非導電性部(13)から構成され、軸(3)に対して、バンド(2)の非導電性部分(13)が軸(3)の非導電性部分(36)上に在るように配置される請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置。
  17. 少なくとも1つの導電性支持体又は非導電性支持体における導電性面を電解コーティングする装置であって、
    請求項1〜16のいずれか1項に記載され、連続して連結される複数の装置を備えることを特徴とする装置。
  18. 少なくとも1つの支持体を、請求項1〜17のいずれか1項に記載の装置において電解コーティングする方法であって、
    バンドは、コーティング用の支持体上に在り、支持体が電解槽を通じて案内される速度に相当する循環速度で循環されることを特徴とする電解コーティング方法。
  19. 少なくとも1つのバンドに、少なくとも1本の軸を介して電圧が供給される請求項18に記載の方法。
  20. カソード接続される軸を上昇させ、これをアノード接続して、軸を脱金属化する請求項18又は19に記載の方法。
  21. 軸を、生産の一時停止中に脱金属化のためにアノード接続する18又は19に記載の方法。
  22. バンドは、アノードとして接続される少なくとも1本の他の軸の周りで作動し、且つバンドは、導電性部と非導電性部を交互に有し、導電性部の長さは、アノードとして接続される軸とカソードとして接続される軸との間の距離より短く、そしてバンドにより、支持体を2本の軸間における領域と接触させて、カソード接続させる請求項18又は19に記載の方法。
  23. カソード接続された軸を上昇させ、これをアノード接続して、軸を脱金属化すると共に、アノード接続された軸を降下させ、これをカソード接続する請求項22に記載の方法。
  24. 支持体を装置に通過させた後に予め決定された角度で回転させ、次に、装置に数秒間通過させるか、又は第2の電解コーティング装置に通過させる請求項18〜23のいずれか1項に記載の方法。
  25. 導電性支持体又は非導電性支持体における導電性構造物に被覆される金属層の層厚を調節するために、接触時間は、処理速度及び/又は請求項1〜16のいずれか1項に記載され、連続して接続される装置の数を増大又は低減することによって調節される請求項18〜24のいずれか1項に記載の方法。
  26. 請求項1〜17のいずれか1項に記載の装置を使用して、少なくとも1つの導電性支持体又は非導電性支持体における構造化された若しくは全面の導電性面を電解コーティングする方法
  27. 請求項1〜17のいずれか1項に記載の装置を使用して、プリント基板の導体トラック、RFIDアンテナ、トランスポンダ・アンテナ又は他のアンテナ構造物、ICカードモジュール、フラットケーブル、シートヒータ、フォイル導体、太陽電池又はLCD/プラズマディスプレイ画面における導体トラックを製造するか、或いは任意の形の電解被覆製品の製造する方法
  28. 請求項1〜17のいずれか1項に記載の装置を使用して、電磁放射線の遮蔽に、熱伝導に、又は梱包材料として使用される製品に対する装飾表面又は機能表面を製造する方法
  29. 請求項1〜17のいずれか1項に記載の装置を使用して、一方の側又は両側が金属で覆われる薄い金属フォイル又はポリマー支持体を製造する方法
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Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2422455T3 (es) 2005-08-12 2013-09-11 Modumetal Llc Materiales compuestos modulados de manera composicional y métodos para fabricar los mismos
TW200829726A (en) * 2006-11-28 2008-07-16 Basf Ag Method and device for electrolytic coating
WO2009112573A2 (de) * 2008-03-13 2009-09-17 Basf Se Verfahren und dispersion zum aufbringen einer metallschicht auf einem substrat sowie metallisierbare thermoplastische formmasse
NL1035265C2 (nl) * 2008-04-07 2009-10-08 Meco Equip Eng Werkwijze en inrichting voor het elektrolytisch galvaniseren van niet-metallische glasachtige substraten.
WO2010144509A2 (en) 2009-06-08 2010-12-16 Modumetal Llc Electrodeposited, nanolaminate coatings and claddings for corrosion protection
TW201121680A (en) * 2009-12-18 2011-07-01 Metal Ind Res & Dev Ct Electrochemical machining device and machining method and electrode unit thereof.
KR101103450B1 (ko) * 2010-07-27 2012-01-09 주식회사 케이씨텍 기판 도금 장치
US20120231574A1 (en) * 2011-03-12 2012-09-13 Jiaxiong Wang Continuous Electroplating Apparatus with Assembled Modular Sections for Fabrications of Thin Film Solar Cells
US10472727B2 (en) 2013-03-15 2019-11-12 Modumetal, Inc. Method and apparatus for continuously applying nanolaminate metal coatings
EA201500949A1 (ru) 2013-03-15 2016-02-29 Модьюметл, Инк. Способ формирования многослойного покрытия, покрытие, сформированное вышеуказанным способом, и многослойное покрытие
CA2905575C (en) 2013-03-15 2022-07-12 Modumetal, Inc. A method and apparatus for continuously applying nanolaminate metal coatings
WO2014145771A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Modumetal, Inc. Electrodeposited compositions and nanolaminated alloys for articles prepared by additive manufacturing processes
EA032264B1 (ru) 2013-03-15 2019-05-31 Модьюметл, Инк. Способ нанесения покрытия на изделие, изделие, полученное вышеуказанным способом, и труба
RU2534794C2 (ru) * 2013-03-21 2014-12-10 Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт конструкционных материалов на основе графита "НИИграфит" Способ связывания волокнистого пан материала при проведении стадий получения из него углеродного волокна
EP2799939A1 (fr) * 2013-04-30 2014-11-05 Universo S.A. Support pour le traitement de pièces de micromécanique
KR101419276B1 (ko) * 2013-08-27 2014-07-15 (주)엠에스티테크놀로지 플라즈마 전해 산화에 의한 코팅 형성 방법
AR102068A1 (es) 2014-09-18 2017-02-01 Modumetal Inc Métodos de preparación de artículos por electrodeposición y procesos de fabricación aditiva
EA201790643A1 (ru) 2014-09-18 2017-08-31 Модьюметал, Инк. Способ и устройство для непрерывного нанесения нанослоистых металлических покрытий
DE102015121349A1 (de) 2015-12-08 2017-06-08 Staku Anlagenbau Gmbh Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung eines Endlosmaterials sowie deren Verwendung
KR101681083B1 (ko) * 2016-06-26 2016-12-01 주식회사 지에스아이 곡면부를 포함하는 상대전극을 갖는 도금장치
CA3036191A1 (en) 2016-09-08 2018-03-15 Modumetal, Inc. Processes for providing laminated coatings on workpieces, and articles made therefrom
EP3601641A1 (en) 2017-03-24 2020-02-05 Modumetal, Inc. Lift plungers with electrodeposited coatings, and systems and methods for producing the same
CA3060619A1 (en) 2017-04-21 2018-10-25 Modumetal, Inc. Tubular articles with electrodeposited coatings, and systems and methods for producing the same
WO2019210264A1 (en) 2018-04-27 2019-10-31 Modumetal, Inc. Apparatuses, systems, and methods for producing a plurality of articles with nanolaminated coatings using rotation
CN110952121B (zh) * 2018-12-17 2023-12-05 嘉兴瑞通智能装备有限公司 焊带制造装置和电镀机构及其电镀方法
CN113512749A (zh) * 2020-12-08 2021-10-19 郑州大学 一种电镀金刚石刀具实验装置
CN117136257A (zh) * 2021-04-21 2023-11-28 三菱电机株式会社 电镀电极和使用该电镀电极的电镀方法
CN113400698B (zh) * 2021-05-11 2022-12-20 重庆金美新材料科技有限公司 一种导电传动带及其制备方法、薄膜水电镀设备
CN115896907A (zh) * 2022-10-19 2023-04-04 重庆金美新材料科技有限公司 一种阴极导电机构和电镀系统

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1756267A1 (de) * 1968-04-27 1971-10-07 Carl Klingspor Galvanisiervorrichtung fuer Gewebe
LU80496A1 (fr) * 1978-11-09 1980-06-05 Cockerill Procede et diopositif pour le depot electrolytique en continu et a haute densite de courant d'un metal de recouvrement sur une tole
DE4413149A1 (de) * 1994-04-15 1995-10-19 Schmid Gmbh & Co Geb Einrichtung zur Behandlung von Gegenständen, insbesondere Galvanisiereinrichtung für Leiterplatten
DE10234705B4 (de) * 2001-10-25 2008-01-17 Infineon Technologies Ag Galvanisiereinrichtung und Galvanisiersystem zum Beschichten von bereits leitfähig ausgebildeten Strukturen
WO2003038158A2 (de) * 2001-10-25 2003-05-08 Infineon Technologies Ag Galvanisiereinrichtung und galvanisiersystem zum beschichten von bereits leitfähig ausgebildeten strukturen
DE10342512B3 (de) * 2003-09-12 2004-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum elektrolytischen Behandeln von elektrisch gegeneinander isolierten, elektrisch leitfähigen Strukturen auf Oberflächen von bandförmigem Behandlungsgut

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