JP2009530135A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009530135A5
JP2009530135A5 JP2009500681A JP2009500681A JP2009530135A5 JP 2009530135 A5 JP2009530135 A5 JP 2009530135A5 JP 2009500681 A JP2009500681 A JP 2009500681A JP 2009500681 A JP2009500681 A JP 2009500681A JP 2009530135 A5 JP2009530135 A5 JP 2009530135A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
replication material
volume
constitutes
tool
cut
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009500681A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009530135A (ja
JP5243403B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US11/384,562 external-priority patent/US20070216048A1/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2009530135A publication Critical patent/JP2009530135A/ja
Publication of JP2009530135A5 publication Critical patent/JP2009530135A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5243403B2 publication Critical patent/JP5243403B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

内縁部2は、第1の切れ目を構成し、以下の図にも示されているように、複製材料13の外側の境界部で流れを止める。外縁部4は、第2の切れ目を構成し、複製材料13がバッファ体積部3に隣接したオーバーフロー体積部5へと流れるのを止める。このような切れ目がないと、毛管力によって、複製材料13がバッファ体積部3によって形成される溝に沿って絶え間なく流れ、結局は、素子体積部1から複製材料13を流出させる原因となる。
ツールは、ツールが図1の実施形態において、および以後に記載されている実施形態のすべてにおいてもそうであるように、好ましくは、複製されることになっている素子それぞれに対応する複数の部分を備える。この部分は、たとえば、製造された光学素子を支持する基板12を後に分離するための切断線またはダイシング線に相当するか、または、他の素子が後に接合されることになるボンディング領域に相当するグリッド線11を有するグリッド内に、アレイ状に配置される。
JP2009500681A 2006-03-20 2007-03-19 オーバーフロー体積部を有するツールを使用した光学素子の成形 Active JP5243403B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/384,562 US20070216048A1 (en) 2006-03-20 2006-03-20 Manufacturing optical elements
US11/384,562 2006-03-20
PCT/CH2007/000146 WO2007107025A1 (en) 2006-03-20 2007-03-19 Molding of optical elements using a tool having an overflow volume

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011248892A Division JP5416753B2 (ja) 2006-03-20 2011-11-14 オーバーフロー体積部を有するツールを使用した光学素子の成形

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009530135A JP2009530135A (ja) 2009-08-27
JP2009530135A5 true JP2009530135A5 (ja) 2010-04-02
JP5243403B2 JP5243403B2 (ja) 2013-07-24

Family

ID=38066646

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009500681A Active JP5243403B2 (ja) 2006-03-20 2007-03-19 オーバーフロー体積部を有するツールを使用した光学素子の成形
JP2011248892A Active JP5416753B2 (ja) 2006-03-20 2011-11-14 オーバーフロー体積部を有するツールを使用した光学素子の成形

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011248892A Active JP5416753B2 (ja) 2006-03-20 2011-11-14 オーバーフロー体積部を有するツールを使用した光学素子の成形

Country Status (8)

Country Link
US (2) US20070216048A1 (ja)
EP (1) EP1837165B1 (ja)
JP (2) JP5243403B2 (ja)
KR (2) KR101423788B1 (ja)
CN (1) CN101426638B (ja)
AT (1) ATE529249T1 (ja)
TW (1) TWI356761B (ja)
WO (1) WO2007107025A1 (ja)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7692256B2 (en) * 2007-03-23 2010-04-06 Heptagon Oy Method of producing a wafer scale package
WO2008138156A1 (en) 2007-05-14 2008-11-20 Heptagon Oy Illumination system
WO2010020062A1 (en) 2008-08-20 2010-02-25 Heptagon Oy Method of manufacturing a pluralty of optical devices
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
US7794633B2 (en) * 2008-11-26 2010-09-14 Aptina Imaging Corporation Method and apparatus for fabricating lens masters
JP5340198B2 (ja) 2009-02-26 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物
CN101852986A (zh) * 2009-03-30 2010-10-06 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 压印模具
CN101885577A (zh) * 2009-05-14 2010-11-17 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 压印成型微小凹透镜阵列的模仁、模压装置及方法
US20120134028A1 (en) 2009-08-13 2012-05-31 Fujifilm Corporation Wafer level lens, production method of wafer level lens, and imaging unit
EP2369371A3 (en) 2010-03-10 2013-05-01 Fujifilm Corporation Wafer lens array and method for manufacturing the same
JP2011209699A (ja) 2010-03-10 2011-10-20 Fujifilm Corp ウェハレンズアレイ及びその製造方法
JP2011186306A (ja) 2010-03-10 2011-09-22 Fujifilm Corp ウェハレンズユニットおよびウェハレンズユニットの製造方法
EP2580781A1 (en) 2010-06-14 2013-04-17 Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. Method of manufacturing a plurality of optical devices
WO2012022000A1 (en) 2010-08-17 2012-02-23 Heptagon Oy Method of manufacturing a plurality of optical devices for cameras
US20120242814A1 (en) * 2011-03-25 2012-09-27 Kenneth Kubala Miniature Wafer-Level Camera Modules
JP5780821B2 (ja) * 2011-04-28 2015-09-16 キヤノン株式会社 複合型光学素子の製造方法
CN104023932B (zh) * 2011-12-16 2016-09-07 柯尼卡美能达株式会社 透镜阵列的制造方法及成形用模具
US9063005B2 (en) 2012-04-05 2015-06-23 Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. Reflowable opto-electronic module
CN107479119A (zh) * 2012-09-11 2017-12-15 新加坡恒立私人有限公司 截断型镜片、截断型镜片对及相应装置的制造
US8606057B1 (en) 2012-11-02 2013-12-10 Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. Opto-electronic modules including electrically conductive connections for integration with an electronic device
JP6732735B2 (ja) * 2014-05-16 2020-07-29 ヘプタゴン・マイクロ・オプティクス・プライベート・リミテッドHeptagon Micro Optics Pte. Ltd. 複製による光学素子の製造および対応する複製ツール並びに光学装置
SG10201810219TA (en) 2014-05-16 2018-12-28 Heptagon Micro Optics Pte Ltd Wafer-level manufacture of devices, in particular of optical devices
WO2017034402A1 (en) 2015-08-21 2017-03-02 Anteryon Wafer Optics B.V. A method of fabricating an array of optical lens elements
NL2015330B1 (en) 2015-08-21 2017-03-13 Anteryon Wafer Optics B V A method of fabricating an array of optical lens elements
KR101767384B1 (ko) * 2015-12-31 2017-08-14 한국광기술원 렌즈 성형장치
NL2016689B1 (en) * 2016-04-28 2017-11-20 Anteryon Wafer Optics B V Replication tool
US11554563B2 (en) 2017-08-22 2023-01-17 Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. Replication and related methods and devices, in particular for minimizing asymmetric form errors
KR20190024000A (ko) 2017-08-30 2019-03-08 김완석 sns 수출 플랫폼
US11318692B2 (en) 2017-10-17 2022-05-03 Magic Leap, Inc. Methods and apparatuses for casting polymer products
JP7379163B2 (ja) 2017-12-28 2023-11-14 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 カメラパッケージ、カメラパッケージの製造方法、および、電子機器
TWI721368B (zh) * 2018-04-17 2021-03-11 日商岡本硝子股份有限公司 玻璃製光學零件成形用模具及使用該模具的玻璃製光學零件的製造方法
US11009661B2 (en) 2018-10-16 2021-05-18 Magic Leap, Inc. Methods and apparatuses for casting polymer products
US20220130880A1 (en) 2019-02-22 2022-04-28 Sony Semiconductor Solutions Corporation Camera package, method for manufacturing camera package, and electronic device
WO2020185167A1 (en) * 2019-03-12 2020-09-17 Ams Sensors Singapore Pte. Ltd. Yard control features
CN110655306B (zh) * 2019-08-20 2022-07-08 瑞声光学解决方案私人有限公司 用于成型晶元镜片的模具以及成型晶元镜片的方法

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3767445A (en) * 1971-10-14 1973-10-23 Bell Telephone Labor Inc Embossing techniques for producing integrated optical circuits
US4197266A (en) * 1974-05-06 1980-04-08 Bausch & Lomb Incorporated Method for forming optical lenses
JPS6334108A (ja) * 1986-07-30 1988-02-13 Hitachi Ltd 光デイスク用基板の製造方法および装置
US5271875A (en) * 1991-09-12 1993-12-21 Bausch & Lomb Incorporated Method for molding lenses
US20020053742A1 (en) * 1995-09-01 2002-05-09 Fumio Hata IC package and its assembly method
JPH09174566A (ja) * 1995-12-25 1997-07-08 Fujitsu Ltd 光学素子複製用スタンパ
US6235141B1 (en) * 1996-09-27 2001-05-22 Digital Optics Corporation Method of mass producing and packaging integrated optical subsystems
US6096155A (en) * 1996-09-27 2000-08-01 Digital Optics Corporation Method of dicing wafer level integrated multiple optical elements
US6297911B1 (en) * 1998-08-27 2001-10-02 Seiko Epson Corporation Micro lens array, method of fabricating the same, and display device
US6805902B1 (en) * 2000-02-28 2004-10-19 Microfab Technologies, Inc. Precision micro-optical elements and the method of making precision micro-optical elements
JP2002205312A (ja) * 2000-11-10 2002-07-23 Dainippon Printing Co Ltd レンズシートの製造方法及び製造装置
WO2003001722A2 (en) * 2001-06-22 2003-01-03 Canesta, Inc. Method and system to display a virtual input device
JP2003011150A (ja) 2001-07-04 2003-01-15 Canon Inc 金型及び光学素子の製造方法及び光学素子
US20030017424A1 (en) * 2001-07-18 2003-01-23 Miri Park Method and apparatus for fabricating complex grating structures
US6894840B2 (en) * 2002-05-13 2005-05-17 Sony Corporation Production method of microlens array, liquid crystal display device and production method thereof, and projector
WO2003100487A1 (en) * 2002-05-24 2003-12-04 The Regents Of The University Of Michigan Polymer micro-ring resonator device and fabrication method
MY144124A (en) * 2002-07-11 2011-08-15 Molecular Imprints Inc Step and repeat imprint lithography systems
US7195732B2 (en) * 2002-09-18 2007-03-27 Ricoh Optical Industries Co., Ltd. Method and mold for fabricating article having fine surface structure
EP1443344A1 (en) 2003-01-29 2004-08-04 Heptagon Oy Manufacturing micro-structured elements
KR100911421B1 (ko) * 2003-05-16 2009-08-11 엘지디스플레이 주식회사 몰드를 이용한 컬러필터 형성방법과 이를 포함한액정표시장치 제조방법
KR100675632B1 (ko) * 2003-09-08 2007-02-01 엘지.필립스 엘시디 주식회사 패턴형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
US7867695B2 (en) * 2003-09-11 2011-01-11 Bright View Technologies Corporation Methods for mastering microstructures through a substrate using negative photoresist
US7094304B2 (en) * 2003-10-31 2006-08-22 Agilent Technologies, Inc. Method for selective area stamping of optical elements on a substrate
JP4345539B2 (ja) * 2004-03-26 2009-10-14 株式会社ニコン 光学素子成形型の製造方法及び光学素子の製造方法
JP2006015522A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Konica Minolta Holdings Inc 成形装置及び光学素子
JP5128047B2 (ja) * 2004-10-07 2013-01-23 Towa株式会社 光デバイス及び光デバイスの生産方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009530135A5 (ja)
EP3891788A4 (en) RELATED UNIFIED SEMICONDUCTOR CHIPS AND METHODS OF MANUFACTURE AND OPERATION THEREOF
JP2007184426A5 (ja)
JP2007305810A5 (ja)
EP1974646A3 (en) Cleaning element and cleaning tool
JP2012093765A5 (ja)
ITMI20062176A1 (it) Dispositivo semiconduttore avente una regione di separazione
JP2011508900A5 (ja)
EP2014366A3 (en) Microfluidic chip and method of fabricating the same
WO2007139695A3 (en) Force input control device and method of fabrication
WO2008099933A1 (ja) 半導体パッケージ
WO2007033308A3 (en) Method and system for assembling a solar cell using a plurality of photovoltaic regions
EP1786033A3 (en) Semiconductor device and manufacturing method of the same
EP1993128A3 (en) Method for manufacturing soi substrate
WO2009005017A1 (ja) 半導体パッケージおよびその製造方法
WO2008061221A3 (en) X-ray focusing optic having multiple layers with respective crystal orientations
JP2010016176A5 (ja)
JP2008068319A5 (ja)
WO2009004376A3 (en) Semiconductor device structure and method of manufacture thereof
JP2020004935A5 (ja)
TW201105455A (en) Carrier for a silicon block
ATE512449T1 (de) Gerät mit wenigstens einem bedienelement
EP2075223A3 (fr) Dispositif a structure pré-libérée
JP2008285377A5 (ja)
JP2008535149A5 (ja)