JP2009523749A - カルボニルの不斉アルキル化 - Google Patents

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Abstract

この発明は、カルボニル基の立体選択的アルキル化のための方法および中間体に関する。本発明は、特に、抗うつ剤エスシタロプラムの立体選択的調製を可能にする。ホウ酸もしくはボロン酸の誘導体は、キラル基をカルボニル基を含有する化合物に付加してアルキル化するための成分を架橋するのに有用であることを見出した。したがって前記ボレートおよびボロネートは、カルボニル基、およびホウ酸もしくはボロン酸の誘導体と反応可能なアンカー基を含有する化合物における、カルボニル基の不斉アルキル化方法に有用である。不斉アルキル化は、アルキル化するカルボニル基、およびホウ酸もしくはボロン酸の誘導体と反応可能なアンカー基を含有する化合物を、ホウ酸もしくはボロン酸の誘導体と混合し、キラルアルコールを添加し、有機金属化合物を添加することにより行われる。アルキル化反応の後、ボレートおよびボロネートは、加水分解により容易に除去することができる。

Description

この発明は、カルボニル基の立体選択的アルキル化のための方法および中間体に関する。本発明は、特に、抗うつ剤エスシタロプラムの立体選択的調製を可能にする。
第4級炭素原子の不斉構築方法は稀有である。このことは、第3級アルコールの合成に特に当てはまり、第3級アルコールの合成は、依然として、合成有機化学者にとって挑戦を象徴する。第3級アルコールの不斉調製の最も直接的手法は、有機金属試薬のケトンへの立体選択的付加である。しかし、試薬の制御および触媒の方法は数例に限られている(参照:Ramon、D.J.;Yus、M.Angew.Chem.Int.Ed.2004、43、284−287)。したがって、キラル第3級アルコールの調製方法が必要である。
特定の対象である第3級アルコールは、定着した抗うつ剤である薬剤エスシタロプラム(I)の製造において重要な中間体である式(II)の化合物である。これは、選択的中枢作用性のセロトニン(5−ヒドロキシトリプタミン;5−HT)再取込み阻害剤であり、したがって抗うつ活性を有する。
Figure 2009523749
エスシタロプラムは、H.Lundbeck A/SによりEP347066において初めて開示された。この特許公報において、該物質の権利が主張され、合成中間体のR−エナンチオマーおよびS−エナンチオマーの分離に基づく2つの調製方法、続いて、エナンチオマー的に純粋なジオール(II)またはこの不安定性エステルのエスシタロプラム(I)への変換が示されている。
第一の方法として、ラセミの4−[4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロ−フェニル)−1−ヒドロキシブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル(式(II))の、(キラル酸塩化物を使用することにより)対応する2つのジアステレオマーエステルへの転換が挙げられ、対応する2つのジアステレオマーエステルは、アキラル固定相または分別結晶上のクロマトグラフィーにより分離することができる。望ましい立体化学作用を持つエステルは、塩基促進閉環反応によってエスシタロプラムに変換される。式(II)のラセミ体ジオール、およびシタロプラムの合成におけるこの使用は、US4650884に開示されている。
EP347066に記載されている第二の方法は、分割剤として(+)−ジ−O’,O’−トルオイル酒石酸を使用する古典的な分割による、式(II)のラセミ体ジオールの分離に基づいている。EP347066に従ったこの分割の収率は、55%(ラセミ体ジオール(II)を元に算出すると27.5%)である。エナンチオマー的に純粋なジオールは、次の脱水閉環反応(MsCl、EtN)にかけてエスシタロプラムを得る。
WO03/006449には、キラル固定相上の分取クロマトグラフィーによるジオール(II)のエナンチオマー分離が開示されている。99%を超えるee’s(エナンチオマー過剰率)、および95%を超える収率(ラセミ体ジオール(II)を元に算出すると47.5%)が、この分離方法により得ることができる。大規模クロマトグラフィーは、炭水化物型固定相上のSMB技術(SMB=疑似移動床)を使用することにより技術的に実現される。エナンチオマー的に純粋なジオール(II)のエスシタロプラムへの変換は、EP347066に従って行う。
WO04/014821には、第四の手法が開示されており、この第四の手法は、式(II)のラセミ体ジオール分離のための酵素(エステラーゼおよびリパーゼ)の使用に依存している。ラセミ体ジオール(II)もしくはラセミ体ジオール(II)のエステルの速度論的な酵素的アシル化または脱アシル化の結果、それぞれ、式(II)のジオールとしてエナンチオマーの1つ、およびジオール(II)エステルとして第二のエナンチオマーを優先的に含有する混合物となる。分離後、閉環が上記した通りに行われることができる。
高光学純度のエスシタロプラムへの上記4方法はいずれも、式(II)のラセミ体ジオールから出発している。これらの方法のいずれによっても、得られるエスシタロプラムの理論上の全収率は、ラセミ体ジオール(II)に対して50%が限度である。
ラセミ体ジオール(II)の分離に基づいておらず、エナンチオマー的に濃縮されている、またはエナンチオマー的に純粋な式(II)のジオールの不斉合成は、非常に望ましいにもかかわらずこれまで報告されていない。こうした合成は、エスシタロプラムへの全収率を有意に増加すると思われる。
ここで、ホウ酸またはボロン酸の誘導体が、アルキル化するカルボニル基を含有する化合物にキラル基を付加するための成分を架橋するのに有用であることを見出した。したがって、前記ボレートおよびボロネートは、カルボニル基、およびホウ酸またはボロン酸の誘導体と反応可能な官能基(以下「アンカー」基と称する)を含有する化合物におけるカルボニル基の不斉アルキル化の方法において有用である。不斉アルキル化は、アルキル化するカルボニル基、およびホウ酸またはボロン酸の誘導体と反応可能なアンカー基を含有する化合物と、ホウ酸またはボロン酸の誘導体とを混合し、キラルアルコールを添加し、有機金属化合物を添加することにより行うことができる。アルキル化反応の後、ボレートおよびボロネートは、加水分解により容易に除去することができる。
本発明の方法を使用することにより、ジオール(II)の所望のS−エナンチオマー(または対応するR−エナンチオマー)を、高収率で調製することができる。したがって、ラセミ体ジオール(II)の分離を必要とすることなくエスシタロプラムを合成することができる。
本発明は、
a)化合物Kをホウ酸またはボロン酸の誘導体と混合するステップと、
b)キラル補助剤(化合物A)を添加するステップと、
c)有機金属化合物(R−M)を添加するステップと
を含む、カルボニル基、およびホウ酸またはボロン酸の誘導体と反応可能なアンカー基を含有する化合物(化合物K)におけるカルボニル基の不斉アルキル化の方法に関する。
スキーム1は、好ましい補助剤のキラルアルコールを介する本発明の方法の例である。
本発明の方法は、速く経済的で簡便であり、高収率、および高いエナンチオマー過剰率でキラル第3級アルコールを生成するという利点を有する。さらなる利点は、本発明の方法は、ワンポット型において行うことができることである。
Figure 2009523749
トグル線で記した結合は、さらに下記で定義した通り、これらの残基の1つへの結合を表す。化合物Kにおける半円は、アンカー基およびカルボニル基が同じ分子内にあることを表す。
これら2個の基を結合する好ましい方法を下記に明記する。好ましいホウ酸またはボロン酸の誘導体は、フェニルボロン酸、トリメチルボレート、トリイソプロピルボレート、ジイソプロピルブチルボロネート、ジイソプロピルメチルボロネート、メチルボロン酸、またはトリメチルボロキシン、特にジイソプロピルメチルボロネート、メチルボロン酸またはトリメチルボロキシンである。
ホウ酸またはボロン酸の誘導体と反応可能な好ましいアンカー基(A−H)は、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、およびスルフヒドリル基であり、ヒドロキシル基が特に好ましい。
好ましいキラル補助剤(化合物A)はキラルアルコール、特に、式(VII)
Figure 2009523749
(式中、Cはキラル炭素であり、nは1であり、Xは窒素である。)
の構成成分を含むようなキラルアルコールであり、キラルアミノアルコール、N−メチルエフェドリン、N−メチルプソイドエフェドリン、2−ジメチルアミノ−1−フェニルエタノール、キニーネ、キニジン、シンコニジン、またはシンコニンが特に好ましい。
立体選択的アルキル化のための好ましい有機金属化合物(R−M)は、有機マグネシウム化合物である。特に式(II)のジオール合成に関し、好ましい有機マグネシウム化合物はN,N−ジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリドである。
式(II)のジオールをさらに処理して閉環を行い、エスシタロプラムを形成することができる。
さらに本発明は、新規方法中に形成される様々な中間体から、カルバニオンによる求核置換に適当な官能基、およびホウ酸もしくはボロン酸の誘導体と反応可能なアンカー基を含有する出発化合物と、出発化合物におけるカルボニル基の立体選択的反応を誘導可能なキラル補助剤の間のリンカー成分としてのボレートまたはボロネートの使用に関する。さらに本発明は、結晶形である式(III)のヒドロキシケトンに関する。
本発明は、
a)化合物Kをホウ酸もしくはボロン酸の誘導体と混合するステップと、
b)キラルアルコールのようなキラル補助剤を添加するステップと、
c)有機金属化合物を添加するステップと
を含むカルボニル基、およびホウ酸またはボロン酸の誘導体と反応可能なアンカー基を含有する化合物Kにおけるカルボニル基、好ましくはケト基の不斉アルキル化の方法に関する。
スキーム1は、本発明の方法の好ましい実施形態の例である。最終の加水分解ステップd)は、ステップc)におけるカルボニル基アルキル化の後で加えて、生成物(化合物P)を含有する第3級アルコールを得るのが好ましい。
不斉アルキル化は、生成物ジオールの2つの可能なエナンチオマーのうち1つが優先的に形成されることを意味する。金属オルガニルの添加は、生成物ジオールの1つのエナンチオマーに有利な立体面制御をしながら進める。
これは、ステップa)およびステップb)の後で得られるキラル混合のボロネートまたはボレート(化合物MB)に有機金属化合物を添加すること(ステップc)が、ジアステレオ選択的であることを暗示している。
混合ボロネートまたは混合ボレート(化合物MB)に有機金属化合物を添加した後で得られる混合物の組成物は、使用する特定のキラル補助剤(化合物A)、および反応が行われる条件に依存する。本発明に従った不斉付加の特徴は、他方と比較して、非常に大量の式(II)の1つのエナンチオマーである生成物(化合物P)が形成されることである。S−エナンチオマー対R−エナンチオマー(またはR対S)の割合は1対1とは異なり、通常少なくとも10対1であり、15対1より大きいのが好ましい。
ステップa)、ステップb)、およびステップc)、存在する場合はステップd)も、同じ不活性媒体で行われるのが好ましく、媒体は非プロトン性溶媒であるのが好ましい。適当な有機溶剤は、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、DMF、DMSO、ジオキサン、DME、ジグリム、ニトロメタン、メチルtert−ブチルエーテル、CHCl、もしくはNMP、またはこれらの混合物であり、トルエン、およびジメトキシエタン/テトラヒドロフラン混合物が特に好ましい。
通常、基質化合物K、ホウ酸またはボロン酸の誘導体、およびキラル補助剤(化合物A)、例えばキラルアルコールは、基質のアンカー基、およびキラル補助剤、例えばキラルアルコールの両方をホウ酸もしくはボロン酸の誘導体に添加できるのに十分な時間、穏和な条件下で非プロトン性溶媒において混合して、ホウ素原子がキラル補助化合物を基質に結合している置換ホウ酸または置換ボロン酸を生成する。
ステップa)およびステップb)の順番は重要ではない。基質化合物K、キラル補助化合物、およびホウ酸またはボロン酸の誘導体の反応系への添加は、順序不同で行うことができる。
化合物Kを、ホウ酸もしくはボロン酸の誘導体と最初に混合し、次いでキラルアルコールのようなキラル補助剤を添加してもよいし、または化合物Kをキラルアルコールのようなキラル補助剤と最初に混合し、次いでホウ酸もしくはボロン酸の誘導体を添加してもよいし、またはキラルアルコールのようなキラル補助剤、およびホウ酸もしくはボロン酸の誘導体を、不活性媒体において基質に同時に添加してよい。いずれの場合においても、ホウ素原子がキラル補助化合物を基質に繋いでいる置換ホウ酸もしくは置換ボロン酸の誘導体が形成される。
基質化合物K、キラル補助剤(化合物A)、およびホウ酸またはボロン酸の誘導体の縮合は、基質化合物Kに対し、ホウ酸またはボロン酸の誘導体0.8当量から1.8当量、より好ましくは1.0当量から1.2当量を使用して行われる。
基質化合物K、キラル補助剤(化合物A)、およびホウ酸またはボロン酸の誘導体の縮合は、基質化合物Kに対し、キラル補助剤0.8当量から2.0当量、より好ましくは1.0当量から1.4当量を使用して行われる。
ステップa)において使用される特定のホウ酸またはボロン酸の誘導体に依存して、水、アルコール、アミン、またはHX(但し、X=ハロゲン)は、ステップa)およびステップb)中に形成される。これらの副生成物は、例えば、ステップc)の有機金属化合物添加の前に、(副生成物がHXの場合)共沸蒸留または塩形成、続いてろ過により除去して混合ボロネート(化合物MB)に平衡移動させるのが好ましい。当技術者には、場合によって、例えば、生成した副生物が方法ステップの溶媒中の不溶性気体である場合、活性除去が必要とは限らないことを理解する。しかし、副生物を反応混合物から実質的に除去することが通常好ましい。好ましい実施形態において、副生物は水またはアルコールであり、反応混合物をステップc)の前に共沸蒸留にかけ、ステップa)およびステップb)の副生成物を実質的に除去するのが好ましい。副生物が水である場合、カールフィッシャー滴定により測定して、0.5w/v%未満まで、より好ましくは0.1w/v%未満まで除去するのが好ましい。副生物がアルコールである場合、ガスクロマトグラフィーにより測定して、0.5w/v%未満まで、より好ましくは0.1w/v%未満まで除去するのが好ましい。
水またはアルコールの除去は、当技術者に知られている代替法、例えば、分子ふるいの添加、または例えば乾燥剤のような、水を取り出すことが可能な試薬による除去によって達成することもできる。副生物がHXである場合、塩形成による除去が好ましい。これは、第3級アミンなどの適当な塩基の添加によりもたらされることができる。
共沸蒸留は減圧下で優先的に実行される。こうした蒸留ステップは、通常最高3時間かかる。
本発明の方法のための好ましいホウ酸またはボロン酸の誘導体は、式VI
Figure 2009523749
(式中、Rは、水素、C1−10−アルキル、C2−10−アルケニル、C2−10−アルキニル、C6−10−アリール、C7−16アルカリール、4−10員複素環残基、C1−10−アルコキシ、C1−10−アルキルアミノ、C1−10−アルキルチオ、ヒドロキシ、またはシアノであり、Rは、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−10−アルコキシ、C1−10−アリールオキシ、C1−10−ジアルキルアミノ、またはS原子、N原子、もしくはO原子によりホウ素原子に結合している4−10員複素環残基であり、
は、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、C1−10−アルコキシ、C1−10−アリールオキシ、C1−10−ジアルキルアミノ、またはS原子、N原子、もしくはO原子によりホウ素原子に結合している4−10員複素環残基であるか、
または
およびRは互いに結合して、RおよびRが結合しているホウ素原子を含む5−10員環構造を形成し、該環構造は、1つまたは2つの追加のホウ素原子、および/または酸素原子、および/または窒素原子を含有してよい。)
の誘導体である。
は、C1−10−アルキルまたはC1−10−アルコキシ、特にC1−6−アルキルであるのがより好ましく、メチルまたはエチル、特にメチルでであるのが最も好ましい。
好ましいボレートおよびボロネートにおいて、RおよびRは同一であり、ヒドロキシまたはC1−10−アルコキシ、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、またはイソプロポキシである。本発明のさらに好ましい実施形態において、Rはメチルであり、RおよびRは、ヒドロキシまたはC1−10−アルキルオキシである。別法として、RはC1−10−アルコキシであり、RおよびRは、ヒドロキシまたはC1−10−アルコキシである。したがって、非常に好ましいボレートまたはボロネートは、フェリルボロン酸、ジメトキシメチルボラン、トリメチルボレート、トリイソプロピルボレート、ジイソプロピルブチルボロネート、ジイソプロピルメチルボロネート、メチルボロン酸、およびトリメチルボロキシンであり、ジイソプロピルメチルボロネート、メチルボロン酸、およびトリメチルボロキシンが最も好ましい。
これらの好ましいボレートおよびボロネートの使用は、水またはアルコールがステップa)およびステップb)中に生成するが、ステップc)の前に反応混合物から容易に除去することができるという利点を有する。これは、例えば、場合により減圧下、周囲温度から穏やかな高温(約35℃から90℃)で共沸蒸留するか、または分子ふるいの添加により達成することができる。
アンカー基の機能に関する限り、この目的はホウ酸もしくはボロン酸の誘導体の付加部位として働くことである。本発明の方法のための好ましいアンカー基は、ヒドロキシル基、モノ−もしくはジ−置換または非置換のアミン、カルボキシル基、またはスルフヒドリル基、特にヒドロキシル基である。
いずれの理論にも束縛されるものではないが、本発明の好ましい実施形態において、ホウ素を繋げた一時的な補助基はアルキル化反応の遷移状態の立体化学に影響すると考えられる。ステップc)におけるアルキル化反応の立体化学制御に適当な系の生成を促進するため、こうした基質は、アルキル化されるカルボニル基の炭素原子が、アンカー基を担持する炭素原子から、1から6オングストローム、好ましくは1.3から3オングストローム離れているのが好ましい。この空間要件を満たすため、空間要件を満たす基質分子の利用可能な配置がある限り、カルボニル基およびアンカー基を基質分子における多数の原子から分離することができる。しかし、カルボニル基の炭素原子は、アンカー基を担持する炭素原子から、0から4原子、好ましくは1から4炭素原子、より好ましくは2または3炭素原子離れているのが好ましい。例えば、単語のBUTにおいて、B文字は、1文字、U文字だけ、T文字から離れている。
さらに好ましい基質は、α−、β−、γ−、およびδ−ヒドロキシ−ケトンもしくはアルデヒド、α−、β−、γ−、およびδ−アミノ−ケトンもしくはアルデヒド、ならびにα−、β−、γ−、およびδ−スルフヒドリルケトンもしくはアルデヒド、特にγ−ヒドロキシ−ケトンもしくはアルデヒド、γ−アミノ−ケトンもしくはアルデヒド、およびγ−スルヒドリル−ケトンもしくはアルデヒドである。ケトンは、アルデヒド上にあるのが好ましい。フェニル置換基をケト基に隣接して置くのが好ましい。
有機金属試薬と、またはホウ酸もしくはボロン酸と相容性のない、基質(化合物K)に存在する他の官能基を保護する必要があることは、当分野の技術者には明らかである。
本発明の方法のステップb)において使用されるキラル補助化合物は、キラルアミンまたはキラルチオールでよいが、キラルアルコール、特に式(VII)
Figure 2009523749
(式中、Cはキラル炭素であり、nは0から3の整数であり、Xは自由電子対を有するヘテロ原子である。)
の構成成分を含むキラルアルコールが好ましい。こうしたヘテロ原子は、例えば、酸素、硫黄、および窒素であり、窒素が特に好ましい。nは1であるか、またはXは窒素であるのが好ましく、nが1であり、Xが窒素であるのが最も好ましい。いずれの理論にも束縛されるものではないが、本発明の好ましい実施形態において、ホウ素付着補助基のヘテロ原子は、アルキル化ステップc)において使用される有機金属化合物の金属をキレート化する系の一部であるので、アルキル化反応の遷移状態の立体化学に影響すると考えられる。
これらの例において、Xが窒素である場合、窒素は、第3級アミンの一部であるのが好ましい。
好ましいキラルアミノアルコールは、1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン、1R,2R−N−メチルプソイドエフェドリン、1S,2R−N−メチルエフェドリン、もしくは1R,2S−N−メチルエフェドリンなどのエフェドリン誘導体、または1S−2−ジメチルアミノ−1−フェニルエタノールもしくは1R−2−ジメチルアミノ−1−フェニルエタノール、またはシンコニジン、キニジン、シンコニン、もしくはキニーネなどのキナ皮アルカロイドである(好ましいキラル補助基に関し、下記スキームも参照のこと;1つのエナンチオマーしか示していないが、当技術者は、他のエナンチオマーを使用して逆の結果を得られることを理解する)。
Figure 2009523749
本発明の方法のコンテキストにおいてこれらのキラル補助基は、グリニャール試薬などの有機金属化合物により、高度の立体選択性でカルボニル基のアルキル化を導くことができることを見出した。
ステップa)およびステップb)における基質(化合物K)、キラル補助剤(化合物A)、およびホウ酸またはボロン酸の誘導体の縮合は、10℃と140℃の間、より好ましくは20℃と120℃の間で通常行われ、混合ボロネートまたは混合ボレート、ならびにそれぞれ1当量のHRおよびHRを得る。RおよびRは、上記の通り、使用するホウ酸またはボロン酸の誘導体に依存する。
HRおよびHRは、蒸留、共沸蒸留により、化学反応により、または吸着/吸収により除去するのが好ましい。HRおよびHRの除去は、室温で、または好ましくは30℃と70℃の間のように若干高温で通常行われる。必要であれば、HRおよびHRの除去を減圧下で行うことができる。バッチサイズに依存して、蒸留過程は通常最高3時間かかる。
本発明の好ましい実施形態において、RおよびRはヒドロキシであり、次いで、基質(化合物K)、キラル補助剤(化合物A)、およびホウ酸もしくはボロン酸の誘導体の縮合中に形成されるHOは、共沸蒸留により、または分子ふるいの添加により除去される。水の除去は、当分野の技術者に知られている任意の他の方法によっても達成されることができる。
別の好ましい実施形態において、RおよびRは、C1−10−アルコキシである。次いで、基質(化合物K)、キラル補助剤(化合物A)、およびホウ酸またはボロン酸の誘導体の縮合中に形成される対応するアルコールは、蒸留または共沸蒸留により除去される。RHおよびRHの除去は、当分野の技術者に知られている任意の他の方法によっても達成することができる。
本発明の主な利点は、この方法を行うのに、通常の反応装置を使用できることである。カルボニル基への有機金属試薬の非−不斉付加と比較して、有機金属試薬の添加前の化合物MBの形成により、ほんのわずか長くなる工程所要時間が必要である。
ステップc)において使用される有機金属化合物は、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化合物、有機カドミウム化合物、有機セル化合物、有機リチウム化合物、有機チタン化合物、有機マンガン化合物、有機アルミニウム化合物、有機鉄化合物、または有機スズ化合物であるのが好ましい。有機金属化合物は、キレート化制御下で反応する[および、マグネシウム、チタン、セル、鉄マンガン、亜鉛、スズ、アルミニウムなどの金属を含有している]ことが知られており、リチウムまたはアルミニウムなどの金属を含む非キレート化剤上にあるのが好ましい。有機金属化合物は、カルボニル基に対して比較的高度の反応性を示すことが好ましい。この理由から、アルキルマグネシウム、アルケニルマグネシウム、またはアルキニルマグネシウムなどの有機マグネシウム化合物が有機金属化合物として最も好ましい。
有機金属試薬が、アルキル残基またはアルケニル残基をカルボニル基に変換する場合、アルキル化ステップc)は、−100℃と20℃の間、より好ましくは−60℃と−30℃の間で通常行われる。温度が低いほうが、基質化合物Kのカルボニル基への有機金属化合物添加の選択性が良好であると見られる。しかし、実践上の理由により、−80℃から−30℃の反応温度が好ましい。
完全変換のために、有機金属化合物を1当量から3当量使用する。優先的に、有機金属化合物を2当量添加する。有機金属化合物は、適切な形態、または溶液で添加することができる。
好ましい実施形態において、有機金属化合物は溶液で添加する。溶媒は、任意の有機非プロトン性溶媒であってよい。適当な有機溶剤は、トルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチオキシエタン、ジグリム、メチルtert−ブチルエーテル、またはジメトキシメタンである。最も優先的に、溶媒はテトラヒドロフランである。
好ましい実施形態において、グリニャール試薬を使用する。こうした試薬を使用することにより、カルボニル基への添加は速く、通常、バッチサイズに依存して約30分である。
有機金属化合物添加後の反応物に、水、塩水溶液、水性酸、または水性塩基を続いて添加することにより、エナンチオマー的に濃縮されている生成化合物P、キラル補助化合物A、およびホウ酸またはボロン酸が得られる。
水、水性酸、または水性塩基の添加により、混合ボレートまたは混合ボロネートの加水分解が即座に起きる。水の代わりに、過剰なC1−10アルコールを使用することができる。これにより、化合物Pおよび化合物Aに加えて、対応するホウ素またはボリン酸C1−10アルキルエステルが得られる。
反応混合物からの生成化合物Pの単離は当分野の技術者に知られている方法に従って行うことができ、単離方法は使用するキラル補助化合物に依存する。こうした方法として、抽出、蒸留、結晶化、またはクロマトグラフィーが挙げられる。
ステップa)およびステップb)の後で得られた混合ボロネートまたは混合ボレートに有機金属化合物を添加後得られた生成混合物の正確な組成は、使用される特定のキラル補助化合物、および反応が行われる条件に依存する。本発明に従った不斉付加の特徴は、他と比較して非常に大量の生成化合物Pの1つのエナンチオマーが形成されることである。生成物(化合物P)は、>50%のエナンチオマー過剰率(ee)で通常得られる。好ましい実施形態において、eeは90%を超える。
生成物(化合物P)への基質(化合物K)の変換は50%を超え、通常95%を超え、より好ましくは98%を超える。有機金属試薬(ステップc)の1当量を超える添加により、変換率が良くなる。優先的に、有機金属化合物2当量を添加する。有機金属化合物は、適切な形態、または溶液で添加することができる。
単離後に得られる生成物ジオールの光学純度は、さらなる処理の前にさらにもっと高めることができる。光学純度の向上は、例えば、US4943590に記載されているように光学活性酸によるジアステレオマーエステルまたは塩の結晶化により、またはWO03/011278に記載されているようにクロマトグラフィーにより、または他の方法により達成できる。
本発明は、好ましい実施形態において、エスシタロプラムの合成のための重要な中間体である式(II)のジオールの調製方法に関する。したがって、好ましい実施形態において、ステップa)において使用される化合物Kは、式(III)
Figure 2009523749
[式中、Yは、シアノ、またはシアノ基に変換可能な基であり、ステップc)において使用される有機金属化合物は、式VIII
Figure 2009523749
(式中、(Mは金属である。)
の有機金属化合物である。]
の化合物である。
−CH−N(CHに変換してよいZ基は、−CH−LG、−CH−NO、−CN、C−N、−CHO、−CH−OPg、−CH−NH、−CH−NHCH、−CH−NPgPg、−CH−NPgCH、−CO−N(CH、−CH(Q11)(Q12)、−C(Q13)(Q14)(Q15)、−COOR16、−CH−CO−NH、−CH=CH−R17、または−CONHR18(式中、Pgはアルコールの保護基であり、PgおよびPgは、アミノ基の保護基であり、R11およびR12は独立に、C1−6アルキル、C2−6アルケニル、C2−6アルキニル、および場合によりC1−6アルキルに置換されているアリールもしくはアリール−Cl−6アルキルから選択されるか、またはR11およびR12は、2個から4個の炭素原子の鎖を共に形成し、R13からR17はそれぞれ独立に、C1−5アルキル、C2−6アルケニル、C2−6アルキニル、および場合によりC1−6アルキルに置換されているアリールまたはアリール−C1−6アルキルから選択され、R18は、水素またはメチルであり、Q1、Q2、およびQ3は、OおよびSから選択され、Lは、ハロゲンまたは−O−SO−R11などの脱離基であり、R11は上記で定義した通りである。)などの基である。こうした転換(Zから−CH−N(CH)は、WO01/43525、WO01/51478、WO01/68631、およびWO04/014821に記載されている。
式VIIIの有機金属化合物の点線は、単結合、二重結合、または三重結合であってよく、Mは、任意の金属または金属誘導体、好ましくはMgであり、Zは、−CH−N(CH、または−CH−N(CHに変換できる基である。好ましくは、点線は単結合であり、Mはマグネシウムまたは塩化マグネシウムであり、Zは−CH−N(CHである。
別の好ましい実施形態においては、式VIIIの有機金属試薬の点線は、三重結合であり、Mは、マグネシウムまたは塩化マグネシウムまたは臭化物である。
点線が二重結合または三重結合の場合、混合ボロネートVの生成物ジオール(II)への変換は、−40℃と40℃の間、より好ましくは0℃と30℃の間で行われる。得られる化合物は、還元により式(II)のジオールに変換することができる。
式(II)のジオールは、この特に好ましい本発明の方法により、エナンチオマー的に濃縮された形態、またはエナンチオマー的に純粋な形態
Figure 2009523749
(式中、Yは、シアノ、またはシアノ基に変換可能な基である。)で得られる。式(II)のジオールは、次いで、エスシタロプラム合成のために使用することができる。したがって、本発明はさらに、式(IX)(式中、YおよびZは、本明細書に定義した通りである。)の化合物を形成するための、式(II)のジオールの閉環というさらなるステップを含む方法に関する。
Figure 2009523749
式IXの好ましい化合物は、エスシタロプラムである。
エスシタロプラムへの式(II)のジオールの変換は、US4943590に記載の通りに行うことができる。より好ましくは、式(II)の化合物の閉環は、より低い温度で、テトラヒドロフラン、トルエン、DMSO、DMF、t−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジメトキシメタン、ジオキサン、アセトニトリル、またはCHClなどの不活性有機溶剤中で、化合物の炭酸エステル誘導体、カルボン酸エステル誘導体、スルフィン酸エステル誘導体、またはスルホン酸エステル誘導体を、KOC(CHおよび他のアルコキシドなどの塩基、NaHもしくは他の水素化物、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミンなどの第3級アミン、またはピリジンで処理することにより行ってよい。
Zが−CH−N(CHではない場合、Z基の−CH−N(CHへの転換は、閉環の前または後で行うことができ、当分野の技術者に知られている方法に従って行うことができる。
Yがシアノ基ではない場合、Yのシアノ基への転換は、閉環の前または後で行うことができ、当分野の技術者に知られている方法に従って行う。
点線が二重結合または三重結合の場合、水素化は、閉環の前または後で、当分野の技術者に知られている方法に従って行うことができる。
本発明はさらに、本発明の方法の中間体、例えば、エスシタロプラムの合成に有用な中間体である式Vの化合物に関する
Figure 2009523749
(式中、Rは、C1−10−アルキルまたはC1−10−アルコキシ、より好ましくは−CH、−OCH、または−OCH(CHであり、Yは、シアノ、またはシアノ基に変換可能な基であり;O−Rは、キラルアルコールの残基である。)。シアノ基に変換可能な基は、クロロ、ブロモ、ヨード、またはCF−(CF)n−SO−O−(式中、nは0−8である。)、CHOHまたは保護CHOH、CHNHまたは保護CHNH、−CHCl、−CHBr、−CH、−NHR、−OR、(式中、Rは、水素またはC1−6アルキルカルボニルである。)、CONR(式中、RおよびRは、水素、場合により置換されているC1−6アルキル、アリール−C1−6アルキル、もしくはアリールから選択されるか、またはRおよびRは共に結合して、S原子、O原子、もしくは追加のN原子を場合により含む5員環もしくは6員環を形成する。)、またはCHOROR(式中、RおよびRは独立に、アルキル、アリール、ヘテロアリールから選択されるか、またはRおよびRは共に結合して、5員環もしくは6員環を形成する。)、または他の保護−CHO基であってよい。任意選択により、Yは、置換オキサゾール基、4,5−ジヒドロオキサゾール基、チアゾール基、または4,5−ジヒドロチアゾール基であってよい。
式Vの混合ボレートまたは混合ボロネートは、単離することなくワンポットで、式(II)のジオールに単離または転換することができる。
式Vの化合物の単離は、当分野の技術者に知られている方法に従って行うことができる。好ましい実施形態において、式Vのボロネートまたはボレートは、減圧下での溶媒の除去、および他の溶媒の添加による化合物の結晶化により単離する。こうした結晶化溶媒は、例えば、ジエチルエーテルまたはtert−ブチルメチルエーテルであってよい。しかし、本発明は、これら2種の溶媒に限定されることはない。化合物Vの形成に使用されるアミノアルコールおよびホウ酸またはボロン酸に依存して、単離方法は様々であり得る。
混合ボロネートVは、in situで式(II)のジオールに単離または転換することができる。本発明の好ましい実施形態において、式Vの混合ボロネート/混合ボレートは、ジオール(II)に直接変換する。
さらなる実施形態において、本発明は、結晶形における式(III)のヒドロキシケトンに関する。
ヒドロキシケトンIIIは、5−置換フタライド誘導体から調製することができ、式中Yはシアノ、またはシアノ基に変換できる基である。
シアノ基に変換できる基として、クロロ、ブロモ、またはヨード、好ましくは、クロロまたはブロモなどのハロゲンが挙げられる。シアノに変換できる他の基として、CF−(CF−SO−O−(式中、nは0−8である。)、−OH、−CHO、−CHOH、−CHNH、−CHNO、−CHCl、−CHBr、−CH、−NHR、−CHNOH、−COOR、−CONR10(式中、Rは、水素またはC1−6アルキルカルボニルであり、RおよびR10は、水素、場合により置換されているC1−6アルキル、アリール−C1−6アルキル、またはアリールから選択される。)が挙げられる。 シアノ基に変換することができる基として、場合により置換されているオキサゾール基、4,5−ジヒドロオキサゾール基、チアゾール基、または4,5−ジヒドロチアゾール基も挙げられる。
ヒドロキシケトンIIIは、EP0171943に記載の通り、例えば、4−フルオロフェニルマグネシウムハライドの添加により、5−シアノフタライドから調製することができる。ハロゲン化物は、塩化物、臭化物、またはヨウ化物であってよい。反応は、エーテル溶媒中、エーテル溶媒の混合物中、脂肪族もしくは芳香族の溶媒またはこれら混合物中において行うことができる。
本発明の一実施形態に従って、ヒドロキシケトンIIIは、水系後処理の後で結晶化により単離する。結晶化に使用される溶媒は、エーテル溶媒、脂肪族もしくは芳香族の溶媒、アルコール、水、またはこれらの混合物であってよい。
好ましい実施形態において、Yはシアノ基であり、ヒドロキシケトンIIIは、ジイソプロピルエーテル、トルエン、またはエチルベンゼンから結晶化される。化合物IIIは、トルエンから結晶化されるのが最も好ましい。
(実施例)
下記実施例により本発明を詳細に記載するが、この実施例は、本発明に関して何らかの形で限定していると解釈されるものではない。
アミノアルコールとして1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン、トルエン中−80℃、リンカーとしてジイソプロポキシメチルボラン、(S)−4−(4−ジメチルアミノ)−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシブチル−3−ヒドロキシメチルベンゾニトリルの単離、ヘミ(+)−ジ−O−トルオイル−酒石酸塩
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル1.44g(5.6mmol、1.0当量)および1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン1.01g(5.6mmol、1.0当量)を、二口丸底フラスコにおいて、トルエン20mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン97%を1.17mL(6.3mmol、1.13当量)添加する。2分後、澄明な液が得られる。反応物を70℃で30分間温める。次いで、反応混合物を45℃に冷却し、トルエン/2−プロパノールの混合物およそ18mLを、減圧(およそ60mバール)下で30分以内に穏やかに除去する。トルエン20mLを添加し、反応物を−80℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリドの2.7M溶液4.16mL(2当量)を、ゆっくり添加する(所要時間:5分)。−80℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>98%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)のR−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)に対する比は、95.0:5.0(エナンチオマー過剰率=90.0%)である。
反応混合物を、低温の2M水性HSO 12mLにゆっくり添加する。該層を分離し、トルエン層を低温の2M水性HSO 3mLで一回洗浄する。トルエン層を捨てる。水層を合わせ、MTBE15mLを添加する。pHを5M水性NaOHで9に調節する。相分離の後、水層をMTBE10mLによりpH9で再度抽出する。MTBEを減圧下で除去する。粗生成物を、シリカゲル上のカラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチル/シクロヘキサン/EtN 1/1/0.1)により精製する。生成物を含む画分を合わせ、溶媒を減圧下で除去する。(+)−ジ−O−トルオイル酒石酸1.05gを含む2−プロパノール12mL中における結晶化により、(S)−4−(4−ジメチルアミノ)−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシブチル−3−ヒドロキシメチルベンゾニトリル2.3g、ヘミ(+)−ジ−O−トルオイル−酒石酸塩(2−プロパノール0.5当量および水を含む)が71%の収率で得られる(ee=99%、mp134℃)。
H−NMR(DMSO−d,300MHz)δ1.04(d,2×CH ISO,6/2H,J 6Hz)、1.26(m,CH DIOL,1H)、1.53(m,CH DIOL,1H)、2.13(m,CH DIOL,1H)、2.27(m,CH DIOL,1H)、2.37(bs,2×CH DTTA+N(CH DIOL,9H)2.71(m,CH DIOL,2H)、3.78(m,CH ISO,1/2H)、4.02(d,CHOH DIOL,1H,J 15.7Hz)、4.57(d,CHOH DIOL,1H,J 15.7Hz)、5.70(s,CHOR DTTA,2/2H)、7.07(t,2H,J 8.7Hz)、7.21(m,2H)、7.33(d,2H,J 9Hz)、7.74−7.91(m,5H)。
アミノアルコールとして1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン、トルエン中で−60℃、リンカーとしてジイソプロポキシメチルボラン
4(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル143mg(0.56mmol、1.0当量)および1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン101mg(0.56mmol、1.0当量)を、二口丸底フラスコにおいて、トルエン5mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン97%を118μL(0.63mmol、1.14当量)添加する。澄明な液を70℃で30分間温める。次いで、反応混合物を45℃に冷却し、トルエン/2−プロパノールの混合物およそ4.5mLを、減圧(およそ60mバール)下で30分以内に穏やかに除去する。トルエン20mLを添加し、反応物を−60℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド2.7M溶液420μL(2当量)を、ゆっくり添加する(所要時間:5分)。−60℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>98%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)のR−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロメチル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)に対する比は、91.0:9.0である(エナンチオマー過剰率=82.0%)。
アミノアルコールとして1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン、THF中で−60℃、リンカーとしてジイソプロポキシメチルボラン
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル278mg(1.09mmol、1.0当量)および1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン250mg(1.39mmol、1.3当量)を、二口丸底フラスコ中においてトルエン5mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン97%を286μL(1.55mmol、1.4当量)添加する。澄明な液を70℃で30分間温める。次いで、反応混合物を45℃に冷却し、トルエン/2−プロパノールの混合物およそ4.5mLを、減圧(およそ60mバール)下で30分以内に穏やかに除去する。テトラヒドロフラン5mLを添加し、反応物を−60℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド2.7M溶液840μL(2当量)をゆっくり添加する(所要時間:5分)。−60℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>98%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、91.9:8.1である(エナンチオマー過剰率=83.8%)。
アミノアルコールとして1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン、混合ボロネートの単離、リンカーとしてメチルボロン酸
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル144g(5.64mmo1、1.0当量)および1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン1.01g(5.64mmol、1.1当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン20mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、メチルボロン酸348mg(5.81mmol、1.03当量)を添加する。不均一の混合物を70℃に温める。30分以内に、溶液が均一になる。次いで、反応混合物を45℃に冷却し、トルエン/HOの混合物12mLを減圧(およそ60mバール)下で30分以内に穏やかに除去する。トルエン12mLを添加し、トルエン/HOの混合物12mLを、減圧(およそ60mバール)下で30分以内に穏やかに除去する。ジエチルエーテル20mLを添加し、反応物を0℃に冷却する。30分後、白色結晶が析出し始める。結晶化は15時間後に完了する。結晶をろ過により不活性雰囲気下で分離して、混合ボロネート2.3g(91%)を得る。
H−NMR(CDCl)δ−0.2(s,3H)、0.99(d,3H,J 7.0Hz)、2.31(s,6H)、3.1−3.3(m,1H)、4.44(d,1H,J 9.6Hz)、4.64(d,1H,J 14.9Hz)、4.71(d,1H,14.9Hz)、7.0−8.1(m,12H)。
混合ボロネート2.3gを、トルエン20mL中に溶解する。−60℃で、THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド3.6M溶液2.8mL(2.0当量)をゆっくり添加する(所要時間:5分)。−60℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>95%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、89.1:10.9である(エナンチオマー過剰率=78.2%)。
アミノアルコールとして1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン、トルエン中で−65℃、リンカーとしてジイソプロポキシメチルボラン、(S)−4−(4−ジメチルアミノ)−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシブチル−3−ヒドロキシメチルベンゾニトリルの単離、ヘミ(+)−ジ−O−トルオイル−酒石酸塩 4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル1.42g(5.6mmol、1.0当量)および1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン1.00g(5.6mmol、1.0当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン20mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン97%を1.17mL(6.3mmol、1.13当量)添加する。2分後、澄明な溶液が得られる。反応物を50℃に30分間温める。次いで、反応混合物を45℃に冷却し、トルエン/2−プロパノールの混合物およそ20mLを、減圧(およそ70mバール)下で20分以内に穏やかに除去する。トルエン20mLを添加し、反応物を−65℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド3.25M溶液3.36mL(2当量)をゆっくり添加する(所要時間:10分)。−65℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>99%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、95.2:4.8である(エナンチオマー過剰率=90.4%)。
反応混合物を、低温の2M水性HSO 12mLにゆっくり添加する。該層を分離し、トルエン層を、低温の2M水性HSO 3mLで一回洗浄する。トルエン層を捨てる。水層を合わせ、メチルtert−ブチルエーテル15mLを添加する。pHを5M水性NaOHで9に調節する。相分離の後、水層を、メチルtert−ブチルエーテル10mLによりpH9で抽出する。合わせた有機層を、0.2M水性ピバリン酸で2回洗浄する。合わせたピバリン酸層を、メチルtert−ブチルエーテル10mLで2回抽出する。合わせたメチルtert−ブチルエーテル層(およそ40mL)を、5M水性NaOH5mLで洗浄する。相分離の後、メチルtert−ブチルエーテルの大部分を減圧下で除去する。2−プロパノール12mLを添加する。35℃で、(+)−ジ−O−トルオイル酒石酸1.04gを添加する。5分以内に、結晶が形成し始める。4時間後、白色析出物をろ過により除去して、標題化合物2.2gを得る(69%収率、ee=99%、mp134℃)。
アミノアルコールとして1S,2R−N−メチルエフェドリン、−80℃、リンカーとしてメチルボロン酸
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル142mg(0.56mmol、1.0当量)および1S,2R−N−メチルエフェドリン100mg(0.56mmol、1.0当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン2mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、メチルボロン酸36.1mg(0.60mmol、1.08当量)を添加する。反応物を70℃にして、この温度で30分間撹拌する。溶媒を減圧下で5分以内に穏やかに除去する。トルエン2mLを添加し、減圧下で再度除去する。トルエン2mLを添加し、反応混合物を−80℃まで冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド2.7M溶液410μL(2当量)をゆっくり添加する(所要時間:10分)。−80℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>90%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、88.0:12.0である(エナンチオマー過剰率=76.0%)。
アミノアルコールとして1S,2R−N−メチルエフェドリン、−80℃、リンカーとしてトリメチルボロキシン
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル142mg(0.56mmol、1.0当量)および1S,2R−N−メチルエフェドリン100mg(0.56mmol、1.0当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン2mL中、不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、トリメチルボロキシン26μL(0.60mmol、0.3当量)を添加する。反応物を70℃にして、この温度で30分間撹拌する。溶媒を減圧下で5分以内に穏やかに除去する。トルエン2mLを添加し、減圧下で再度除去する。トルエン2mLを添加し、反応混合物を−80℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド2.7M溶液410μL(2当量)をゆっくり添加する(所要時間:10分)。−80℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>98%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、84.2:15.8である(エナンチオマー過剰率=68.4%)。
アミノアルコールとして(−)−シンコニジン、−80℃、リンカーとしてジイソプロポキシメチルボラン
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル83mg(0.28mmol、1.0当量)および(−)−シンコニジン96%100mg(0.32mmol、1.16当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン2mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン97%を81μL(0.36mmol、1.3当量)添加する。反応物を70℃にして、この温度で30分間撹拌する。溶媒を減圧下で15分以内に穏やかに除去する。トルエン2mLを添加し、反応混合物を−80℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド2.7M溶液240μL(2当量)をゆっくり添加する(所要時間:10分)。−80℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>96%の変換率を示した。S−ジオール{4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル}対R−ジオール(−4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、15.9:84.1である(エナンチオマー過剰率=68.2%)。
アミノアルコールとしてキニジン、トルエン/塩化メチレン中−80℃、リンカーとしてジイソプロポキシメチルボラン
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル79mg(0.31mmol、1.0当量)および(−)−キニジン98%100mg(0.31mmol、1.0当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン2mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン97%を62μL(0.32mmol、1.03当量)添加する。反応物を70℃にして、この温度で30分間撹拌する。溶媒を減圧下で15分以内に穏やかに除去する。トルエン2mLおよび塩化メチレン2mLを添加し、反応混合物を−80℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド2.7M溶液230μL(2当量)をゆっくり添加する(所要時間:10分)。−80℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>97%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、86.3:13.7である(エナンチオマー過剰率=72.7%)。
アミノアルコールとしてR−2−ジメチルアミノ−1−フェニル−エタノール、トルエン中−80℃、リンカーとしてジイソプロポキシメチルボラン
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル131mg(0.51mmol、1.0当量)およびR−2−ジメチルアミノ−1−フェニル−エタノール90%85mg(0.46mmol、0.9当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン5mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン97%を108μL(0.57mmol、1.1当量)添加する。反応物を70℃にして、この温度で30分間撹拌する。溶媒を減圧下で15分以内に穏やかに除去する。トルエン5mLを添加し、反応混合物を−80℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド3.3M溶液312μL(2当量)をゆっくり添加する(所要時間:1分)。−80℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>97%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、8.5:91.5である(エナンチオマー過剰率=83.0%)。
アミノアルコールとしてS−1−ジメチルアミノ−2−プロパノール、トルエン中−80℃、リンカーとしてジイソプロポキシメチルボラン
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル202mg(0.79mmol、1.0当量)およびS−1−ジメチルアミノ−2−プロパノール98%105μL(0.80mmol、1.02当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン3mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン97%を160μL(0.86mml、1.1当量)添加する。反応物を45℃にして、この温度で30分間撹拌する。溶媒を減圧下で15分以内に穏やかに除去する。トルエン3mLを添加し、反応混合物を−80℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド0.8M溶液2.5mL(3.1当量)をゆっくり添加する(所要時間:1分)。−80℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>95%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、75.5:24.5である(エナンチオマー過剰率=51.0%)。
アミノアルコールとして1S,2R−N−メチルエフェドリン、−80℃、リンカーとしてトリメチルボレート
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル145mg(0.56mmol、1.0当量)および1S,2R−N−メチルエフェドリン99%100mg(0.56mmol、1.0当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン3mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン160μL(0.59mmol、1.05当量)を添加する。反応物を70℃にして、この温度で30分間撹拌する。溶媒を減圧下で15分以内に穏やかに除去する。トルエン3mLを添加し、反応混合物を−80℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド1.3M溶液800μL(2当量)をゆっくり添加する(所要時間:2分)。−80℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>90%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、71.6:28.4である(エナンチオマー過剰率=43.2%)。4−[(4−フルオロ−フェニル)−ヒドロキシ−メチル]−3−ヒドロキシメチルベンゾニトリル約10%が副生物として形成される。
アミノアルコールとして1S,2R−N−メチルエフェドリン、−80℃、リンカーとしてトリイソプロピルボレート
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル142mg(0.56mmol、1.0当量)および1S,2R−N−メチルエフェドリン99%100mg(0.56mmol、1.0当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン2mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン135μL(0.59mmol、1.05当量)を添加する。反応物を70℃にして、この温度で30分間撹拌する。溶媒を減圧下で15分以内に穏やかに除去する。トルエン2mLを添加し、反応混合物を−80℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド2.7M溶液412μL(2当量)をゆっくり添加する(所要時間:2分)。−80℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>50%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、72.2:27.8である(エナンチオマー過剰率=44.4%)。
アミノアルコールとして1S,2S−N−メチルエフェドリン、トルエン中−80℃、求核試薬として3,3−ジメチルアミノ−1−プロピン、リンカーとしてジイソプロポキシメチルボラン
3,3−ジメチルアミノ−1−プロピン120μL(1.13mmol、2.0当量)をTHF1mL中に溶解する。0℃で、THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド3M溶液372当量を添加する。得られる溶液を20分間撹拌する。
2個目のフラスコ中において、4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル142mg(0.56mmol、1.0当量)および1S,2R−N−メチルエフェドリン99%100mg(0.56mmol、1.0当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン2mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、ジイソプロポキシメチルボラン135μL(0.59mmol、1.05当量)を添加する。反応物を70℃にして、この温度で30分間撹拌する。溶媒を減圧下で15分以内に穏やかに除去する。トルエン2mLを添加し、反応混合物を−20℃に冷却する。ここで、3,3−ジメチルアミノ−1−プロピルのマグネシウム塩を含有する溶液を5分以内に添加する。反応物を室温に温め、24時間撹拌する。HPLCコントロールは、>70%の変換率を示した。4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロ−フェニル)−1−ヒドロキシ−ブタ−2−イニル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル対4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロ−フェニル)−1−ヒドロキシ−ブタ−2−イニル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリルの割合は、90:10である(エナンチオマー過剰率=80%)。
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリルの合成。
テトラヒドロフラン中の4−フルオロフェニルマグネシウムブロミド10%溶液1048gを、5−シアノフタリド60.0gの1,2−ジメトキシエタン390ml懸濁液に、−10℃で3時間以内に添加する。30分間−10℃で撹拌後、低温の反応混合物を、水性NHCl1L(水1000ml中180g、20℃)中に約5分で注ぐ。該層を分離し、水層をテトラヒドロフラン300mlで抽出する。有機層を合わせ、揮発分を減圧下、45℃で除去する。残渣をCHCl 1000mLと炭酸ナトリウム2.5gを含有する水200m1との混合物(pH9)に溶解する。該層を分離し、有機相を炭酸ナトリウム40gで乾燥する。無水CHCl溶液を木炭6gで処理し、10分間撹拌し、木炭をろ過により除去する。フィルターケーキをCHCl 50mLで洗浄する。ろ液および洗浄液を合わせ、溶媒を減圧下で除去する。ジイソプロピルエーテル300mLを残渣に添加する。1時間22℃で撹拌後、結晶懸濁液を0℃に冷却し、さらに2時間撹拌し、次いで−10℃に冷却し、14時間撹拌する。生成物をろ過により単離し、冷却したジイソプロピルエーテル40mL、ジイソプロピルエーテル/シクロヘキサンの1:1混合物80mL、シクロヘキサン80mLで洗浄する。真空中3時間50℃で乾燥後、標題化合物の白色の結晶性粉末83.0g(理論の86.2%、純度(HPLC):99.8面積百分率)が得られる(mp.85℃)。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ3.01(t,J=6.30,0.8H,OH)、3.66(s,0.2H,OH)、4.66(d,J=6.11Hz,1.6H,CH2−O)、5.33(m,CH2−O,0.4H,ラクトール異性体)、7.03−7.93(m,7H,ArH)。
アミノアルコールとして1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン、−60℃、リンカーとしてメチルボロン酸
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル250mg(0.98mmol、1.0当量)および1S,2R−N−メチルエフェドリン99%263mg(1.45mmol、1.48当量)を、二口丸底フラスコ中において、トルエン15mL中に不活性雰囲気(N)下で溶解する。室温で、メチルボロン酸67mg(1.12mmol、1.14当量)を添加する。反応物を70℃にして、この温度で30分間撹拌する。溶媒を減圧下で15分以内に穏やかに除去する。トルエン10mLを添加し、再度減圧下で穏やかに除去する。トルエン5mLを添加し、反応混合物を−60℃に冷却する。THF中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド0.84M溶液2.3mL(2当量)をゆっくり添加する(所要時間:2分)。−60℃で10分間撹拌する。HPLCコントロールは、>98%の変換率を示した。S−ジオール(4−[(S)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)対R−ジオール(4−[(R)−4−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−ブチル]−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル)の割合は、96.3:3.7である(エナンチオマー過剰率=92.6%)。
(S)−4−(4−ジメチルアミノ)−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシブチル−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリルの合成および単離、ヘミ(+)−ジ−p−トルオイル−酒石酸塩;補助剤として(S)−2−N,N−ジメチルアミノフェニルエタノール
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル10.0g(MW:255.25、アッセイ:96.7%;37.9mmol)を、トルエン140mL中に溶解する。(S)−2−N,N−ジメチルアミノフェニルエタノール7.77g(MW:165.24、47.0mmol、1.24当量)およびメチルボロン酸2.51g(MW:59.86、アッセイ:98%、41.1mmol、1.08当量)を添加する。溶液はわずかに濁り、水滴が急速に形成される。混合物を50℃に加熱する。減圧(およそ60−70mバール)で、およそl00mLのトルエン/水を慎重に除去する。トルエン100mLを添加し、およそ100mLのトルエン/水を除去する。トルエン120mLを添加し、約20mLのトルエン/水を除去して、溶媒約250mL中の混合ボロネート(およそ80mmol)溶液を得る。水の含有量は、カールフィッシャー滴定により測定して0.1%未満である。反応物を−65℃に冷却する。約10−20分以内に、THF(およそ2当量)中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリドおよそ2M溶液38.0mLを添加する。これにより、温度が−50℃を超えることはない。溶液をさらに30分間撹拌する。HPLCで反応制御を行う(ee=90%)。完全変換(面積百分率4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル:<2%)の後、反応物を後処理する。
水20mLを添加し、2M水性HSO 35mL(70mmol)を添加して、水層においておよそ1.5のpHを得る。相分離の後、有機層を水20mLで1回洗浄し、2M水性HSOでpH1に調節する。CHCl 150mLを合わせた水層に添加する。ここで、pHがおよそ9.0に達するまで、7M水性NHを添加する(29mL)。相分離の後、水層をMED25mLで2回(pH9.0で)洗浄する。合わせたCHCl層を水15mLで洗浄する。HO 70mLを添加する。2M水性HSO 10.7mLを添加して、pHを6.4に調節する。10分間の撹拌後、該層を分離する(pH6.4)。水35mLをCHCl層に添加する。2M水性HSO 1.5mLの添加により、6.4のpHを得る。10分間の撹拌後、該層を分離する。CHCl 80mLを合わせた水層に添加する。7M水性NH 2mLの添加により、6.4のpHを得る(平衡後)。該層を分離する。合わせた有機層を水20mLで洗浄する。該層を分離する。合わせたCHCl層は、エナンチオマー的に濃縮されているジオールを含有している。合わせた水層は、キラル補助剤およそ90%を含有している。CHCl 200mLを除去する。2−プロパノール60mLを添加する。30mLの2−プロパノール/CHClを減圧下で除去する。2−プロパノール30mLを添加して、ISO 60mL中のCIT−ジオールおよそ13gを得る。この溶液に、2−プロパノール42mLに溶解している(+)−ジトルオイル酒石酸6.59g(MW:386.36、アッセイ:99%、17.1mmol、0.45当量)、およびCHCl 8mLを添加する。生成物は、5分後(またはシード添加直後)に結晶化し始める。混合物を、90分間35℃で、10分間60℃で撹拌し、次いで、室温に緩やかに冷却し(およそ5時間以内)、撹拌せずに10時間結晶化させる。生成物をろ過により単離し、10時間40℃および20mバールで乾燥後、S−CIT−ジオール17.2g、1/2(+)−DTTA、1/2ISO、1/2HOを得る(収率:81.0%、ee:99.0%、アッセイ:61.0%)。
(S)−4−(4−ジメチルアミノ)−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシブチル−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリルの合成および単離、ヘミ(+)−ジ−p−トルオイル−酒石酸塩、補助剤として1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン
4−(4−フルオロ−ベンゾイル)−3−ヒドロキシメチル−ベンゾニトリル20.68g(255.25、アッセイ:96.7%、81.0mmol)をトルエン280mL中に溶解する。1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリン16.05g(MW:179.26、アッセイ:99.1%、89.5mmol、1.1当量)およびメチルボロン酸5.02g(MW:59.86、アッセイ:98%、82.2mmol、1.02当量)を添加する。溶液はわずかに濁り、水滴が急速に形成される。混合物を50℃に加熱する。減圧(およそ60−70mバール)で、およそ200−220mLのトルエン/水を慎重に除去する。トルエン200mLを添加し、190−210mLのトルエン/水を除去する。トルエン200mLを添加し、トルエン約30mLを除去して、溶媒約250mL(水の含有量:<0.1%)中の混合ボロネート(およそ80mmol)溶液を得る。反応物を−40℃に冷却する。約10−20分以内に、THF(およそ2当量)中のジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリドおよそ2M溶液78.5mLを添加する。これにより、温度がおよそ−35℃を超えることはない。溶液をさらに30分撹拌する。HPLCにより反応制御を行う(ee=およそ92%)。完全変換後、反応物を後処理する。2M水性HSO 85mL(170mmol)を5分以内に添加する。水層の最終pHは、およそ2である。有機層を、2M水性HSO 5mLで2回洗浄する。メチルtert−ブチルエーテル300mLを、合わせた水層に添加する。ここで、pHが9.2に達するまで、7M水性NHを添加する。相分離の後、水層を、メチルtert−ブチルエーテル100mLで2回(pH9.2で)洗浄する。合わせたメチルtert−ブチルエーテル層を、7M水性NH 20mLで2回洗浄する。メチルtert−ブチルエーテル約400mLを、減圧下で除去する。メチルtert−ブチルエーテルを、総容量約250mLにまで添加する。ピバリン酸24.8g(MW:102.14、242mmol、3.0当量)を、メチルtert−ブチルエーテル80mL中に溶解する。この溶液を、メチルtert−ブチルエーテル中のジオール溶液に添加する。1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリンピバリン酸塩が急速に結晶化する。混合物を、30分間室温で、30分0℃で慎重に撹拌する。NMPE.PIVOHをろ過により除去する。フィルターケーキを、メチルtert−ブチルエーテル75mLで洗浄する。乾燥(20mバール、40℃、1時間)後、1S,2S−N−メチルプソイドエフェドリンピバリン酸塩19.8gを得る(収率:79%、アッセイ:98.8%)。
合わせたメチルtert−ブチルエーテル層を、7M水性NH 60mLおよび水20mLで洗浄する。該層を分離する。メチルtert−ブチルエーテルの約2/3を減圧下で除去して、メチルtert−ブチルエーテル(60mL)中のエナンチオマー的に濃縮されているジオールの濃縮溶液を得る。2−プロパノール100mLを添加し、メチルtert−ブチルエーテル/2−プロパノールを、最終容量約60mLにまで除去する。2−プロパノール90mLを添加して、2−プロパノール約120mL中のジオールおよそ26gを得る。
2−プロパノール80mL中に溶解している(+)−ジトルオイル酒石酸15.5g(MW:386.36、アッセイ:99%、40.1mmol、0.49当量)を、この溶液に添加する。生成物は、5分後(またはシード添加直後)に結晶化し始める。混合物を、1時間30℃で、10分間60℃で撹拌し、次いで、室温に緩やかに冷却し(およそ5時間以内)、撹拌せずに10時間結晶化させる。生成物をろ過により単離して、6時間40℃および20mバールで乾燥後、(S)−4−(4−ジメチルアミノ)−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシブチル−3−ヒドロキシメチルベンゾニトリル33.86g、ヘミ(+)−ジ−p−トルオイル−酒石酸塩(収率:76.7%、ee:99.3%、アッセイ:60.7%)を得る。
シュウ酸エスシタロプラムの合成および単離
(S)−4−(4−ジメチルアミノ)−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシブチル−3−ヒドロキシメチルベンゾニトリル、ヘミ(+)−ジ−p−トルオイル−酒石酸塩(16.64g;29.7mmol)を、180mlの水と180mlのジクロロメタンとの混合物中に懸濁する。アンモニア水でpH9にpH修正後、該相を分離する。トリエチルアミン(5.7ml;41mmol)、続いてp−トルオルスルホニルクロリド(6.1g;32mmol)を、冷却および乾燥した有機相(100ml)に添加し、得られる溶液を1時間5℃未満の温度で撹拌する。引き続き、反応混合物を水によりpH6およびpH12で洗浄後、減圧下での濃縮ステップ、およびアセトンでの稀釈に続く。シュウ酸(2.52g、28mmol)を最終溶液に添加すると、シュウ酸エスシタロプラムが結晶化する。結晶をろ過により回収し、冷アセトンで洗浄する。ウェットケーキを真空中で乾燥して、シュウ酸エスシタロプラム11.4gを得る。(純度HPLC:99.7%、ee=98.8%)。
H−NMR(DMSO−d,300MHz):δ1.39−1.60(m,2H,CH)、2.21−2.27(t,2H,CH)2.50(s,3H,CH)、2.51(s,3H,CH)、2.94−2.99(t,2H,CH)、5.13−5.26(q,2H,CH)、7.11−7.19(m,2H,アリール)、7.54−7.61(m,2H,アリール)、7.61−7.68(m,3H,アリール)。
エナンチオマー的に濃縮されている5−(ジメチルアミノ)−2−フェニルペンタン−1,2−ジオールの不斉合成
Figure 2009523749
2−ヒドロキシアセトフェノン500mg(3.60mmol、1.00当量)、(1S,2S)−2−ジメチルアミノ−1−フェニルプロパン−1−オール798mg(1S,2S−NMPE、4.45mmol、1.20当量)およびメチルボロン酸231mg(3.89mmol、1.05当量)を、トルエン10mL中に溶解する。25℃の浴温および15mバールで、8mLのトルエン/水を減圧下で除去した。トルエン8mLおよび分子ふるいタイプ5Å800mgを添加した。懸濁液を15時間−20℃で撹拌した。
分子ふるいをろ過により除去し、THF中のジメチルアミノプロピルマグニシウムクロリド1.5M溶液5.8mL(8.7mmol、2.42当量)を、−70℃の浴温で130分以内に添加した。1M水性KHSO 17mLの添加により反応を止め、該層を分離した。水層のpHを5M水性NaOHの添加により10に調節し、メチレン塩化物5mLで2回抽出した。合わせた有機層をNaSOで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧下で除去した。
粗生成物をEtO10mL中に溶解した。1.6gのセライト(登録商標)を添加し、溶媒を減圧下で除去した。セライト(登録商標)上の粗生成物を、シリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによりさらに精製した。(SiO 20g、溶離液:酢酸エチル/トリエチルアミン 200+5)。
収率:760mg、95%、結晶性白色固体、融点:50℃
ee=80%(Kelly,A.M.、Perez−Fuertes,Y.、Arimori,S.、Bull,S.D.Org.Lett.2006、8、1971:に記載の通りに誘導体化の後で測定)。
H−NMR(CDCl):δ1.23−1.40(m,2H)、1.90−2.15(m,2H)、2.08(s,6H)、2.30(m,2H)、3.53(d,1H,J=10.8Hz)、3.55(d,1H,J=10.8Hz)、7.21(m,1H)、7.31(m,2H)、7.41(m,2H)。
13C−NMR(CDCl):21.8,37.6,44.9(2C)、60.0,72.3,75.6,126.0(2C)、126.5,128.2(2C)、145.3。
エナンチオマー的に濃縮されている3−(4−フルオロフェニル)ブタン−1,3−ジオールの不斉合成:
Figure 2009523749
4−ヒドロキシ−2−ブタノン500mg(5.39mmol、1.00当量)、(R)−(キノリン−4−イル)((2R,4S,5R)−5−ビニルキヌクリジン−2−イル)メタノール1990mg(シンコニジン、6.47mmol、1.20当量)、メチルボロン酸340mg(5.66mmol、1.05当量)を、トルエン15mL中に溶解した。25℃および減圧下(10mバール)で、およそ8mLのトルエン/水を共沸的に除去した。トルエンおよそ8mLを添加し、再度減圧下で除去した。トルエン5mLおよび分子ふるいタイプ5Å300mgを添加した。反応混合物を10から15時間−20℃で撹拌した。
分子ふるいをろ過により除去した。−60℃の温度で、0.83M4−フルオロフェニルマグネシウムブロミド13mL(10.8mmol、2.00当量)のTHF溶液を添加した。TLC(溶離液:酢酸エチル/シクロヘキサン 1+1)により変換率を測定した。2.5M水性NaOH 10mLの添加により、45分後に反応物を急冷した。該層を分離し、有機層を、1M水性KHSO 10mLで2回、飽和水性NaHCO 10mLで1回洗浄した。
合わせた有機層をNaSOで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧下で除去した。
粗生成物をEtO10mL中に溶解した。セライト(登録商標)2gを添加し、溶媒を減圧下で除去した。セライト(登録商標)上の粗生成物を、シリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによりさらに精製した。(SiO 14g、溶離液:酢酸エチル/シクロヘキサン 1+10)。
収率:665mg、83%;結晶性白色固体;融点:73℃
ee=55%(HPLC)。
H−NMR(DMSO−d6):δ1.42(s,3H)、1.90(t,2H,J=7.3Hz)、2.50(s,OH,1H)、3.27(m,1H)、3.42(n,1H)、7.09(m,2H)、7.44(m,2H)。
13C−NMR(DMSO−d):δ30.8、46.2、57.8、72.7、114.3、114.6、126.9、127.0、142.0、161.7(d,JCF=242.6Hz)。
エナンチオマー的に濃縮されている4−ブチル−2−メチル−4−フェニル−1,3,2−ジオキサボロランの不斉合成:
Figure 2009523749
2−ヒドロキシアセトフェノン500mg(3.60mmol、1.00当量)、(1S,2S)−2−ジメチルアミノ−1−フェニルプロパン−1−オール798mg(1S,2S−NMPE、4.45mmol、1.20当量)、およびメチルボロン酸231mg(3.89mmol、1.05当量)を、トルエン10mL中に溶解した。25℃および減圧下(10−15mバール)で、およそ8mLのトルエン/水を共沸的に除去した。トルエンおよそ8mLを添加し、再度減圧下で除去した。トルエン5mLおよび分子ふるいタイプ5Å400mgを添加した。反応物を5時間20℃で撹拌した。
−70℃の温度で、THF中のブチルマグネシウムクロリド2M溶液3.6mL(7.20mmol、2.00当量)を添加した。TLC(溶離液:酢酸エチル/シクロヘキサン 1+10)により変換率を測定した。1M水性KHSO 15mLの添加により、45分後に反応物を急冷した。該層を分離し、有機層を、1M水性KHSO 10mL、次いで飽和水性NaHCO 10mLで2回洗浄した。
合わせた有機層をNaSOで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧下で除去した。
粗生成物をEtO10mL中に溶解した。セライト(登録商標)1.1gを添加し、溶媒を減圧下で除去した。セライト(登録商標)上の粗生成物を、シリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによりさらに精製した。(SiO 20g、溶離液:酢酸エチル/シクロヘキサン 1+10)。
収率:110mg、油。
H−NMR(CDCl):δ0.44(s,3H)、0.89(t,3H,J=7.0Hz)、1.15(m,1H)、1.36(m,3H)、1.91(m,2H)、4.24(d,1H,J=8.8Hz)、4.33(d,1H,J=8.8Hz)、7.34(m,5H)。
13C−NMR(CDCl):δ14.1、22.9、25.8、42.8、77.2、85.4、124.6、125.6、127.1、127.4、128.4、145.7。
ee測定のため、ボロネートを水性Hで加水分解した。eeはHPLCにより測定した(ee=40%)。
エナンチオマー的に濃縮されている4−(1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−3−メチルブチル)−3−(ヒドロキシメチル)ベンゾニトリルの不斉合成:
Figure 2009523749
4−(4−フルオロベンゾイル)−3−(ヒドロキメチル)ベンゾニトリル500mg(1.96mmol、1.00当量)、(1S,2S)−2−ジメチルアミノ−1−フェニルプロパン−1−オール425mg(1S,2S−NMPE、2.37mmol、1.20当量)、およびメチルボロン酸126mg(2.10mmol、1.05当量)を、トルエン10mL中に溶解した。35℃および減圧(10−15mバール)下で、およそ7mLのトルエン/水を共沸的に除去した。トルエンおよそ7mLを添加し、再度減圧下で除去した。トルエン5mLおよび分子ふるいタイプ5Å200mgを添加した。反応物を3時間25℃で撹拌した。
−70℃の温度で、THF(5.0mmol、2.6当量)中のイソブチルマグネシウムクロリド2M溶液2.5mLを添加した。TLC(溶離液:酢酸エチル/シクロヘキサン 1+1)により変換率を測定した。1M水性KHSO 15mLの添加により、反応物を120分後に急冷した。該層を分離し、有機層を、1M水性KHSO 10mLで、次いで飽和水性NaHCO 10mLで2回洗浄した。
合わせた有機層をNaSOで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧下で除去した。
粗生成物をEtO10mL中に溶解した。セライト(登録商標)1.1gを添加し、溶媒を減圧下で除去した。セライト(登録商標)上の粗生成物を、シリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによりさらに精製した。(SiO 20g、溶離液:酢酸エチル/シクロヘキサン 1+10)。
収率:4−(1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−3−メチルブチル)−3−(ヒドロキシメチル)ベンゾニトリル180mg、ee=60%、白色結晶性固体、融点:82℃。
H−NMR(CDCl):δ0.73(d,3H,J=6.7Hz)、0.96(d,3H,J=6.7Hz)、1.51(m,1H)、2.17(m,2H)、3.60(s,OH)、4.21(d,1H,J=12.9Hz)、4.29(d,1H,J=12.9Hz)、6.99(m,2H)、7.26(m,2H)、7.58−7.74(m,3H)。
13C−NMR(CDCl):δ23.8、24.9、27.0、51.5、63.6、79.2、111.6、115.0、115.3、118.5、127.5、127.5、127.6、131.4、135.0、140.7、141.4、151.0、161.7(d,JCF=247.2Hz)。
4−((4−フルオロフェニル)(ヒドロキシ)メチル)−3−(ヒドロキシメチル)−ベンゾニトリル295mg、無色油;ee=60%、(Kelly,A.M.、Perez−Fuertes,Y.、Arimori,S.、Bull,S.D.Org.Lett.2006、8、1971:に記載されている通りに誘導体化の後で測定)。
H−NMR(CDCl):δ0.73(d,3H,J=6.7Hz)、0.96(d,3H,J=6.7Hz)、1.51(m,1H)、2.17(m,2H)、3.60(s,OH)、4.21(d,1H,J=12.9Hz)、4.29(d,1H,J=12.9Hz)、6.99(m,2H)、7.26(m,2H)、7.58−7.74(m,3H)。
13C−NMR(CDCl):δ23.78、24.87、27.00、51.53、63.57、79.18、111.58、115.04、115.33、118.50、127.48、127.54、127.58、131.42、134.96、140.66、141.37、150.95、161.74(d,JCF=247.2Hz)。
エナンチオマー的に濃縮されている4−(1−(4−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシペンチル)−3−(ヒドロキシメチル)−ベンゾニトリルの不斉合成
Figure 2009523749
4−(4−フルオロベンゾイル)−3−(ヒドロキシメチル)ベンゾニトリル1000mg(3.92mmol、1.00当量)、(1S,2S)−2−ジメチルアミノ−1−フェニルプロパン−1−オール840mg(1S,2S−NMPE、4.68mmol、1.20当量)、およびメチルボロン酸250mg(4.20mmol、1.05当量)を、トルエン30mL中に溶解した。65℃および減圧(85−110mバール)下で、およそ20mLのトルエン/水を、共沸的に除去した。トルエン20mLおよび分子ふるいタイプ5Å500mgを添加した。反応物を60分間25℃で撹拌した。
−50℃の温度で、THF中のブチルマグネシウムクロリド2M溶液3.9mLを添加した。TLC(溶離液:酢酸エチル/シクロヘキサン 1+1)により変換を測定した。50分後、混合物をろ過し、次いで1M水性KHSO 10mLの添加により急冷した。該層を分離し、有機層を飽和水性NaHCO 10mLで2回洗浄した。
合わせた有機層をNaSOで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧下で除去した。
粗生成物を塩化メチレン15mL中に溶解した。セライト(登録商標)4gを添加し、溶媒を減圧下で除去した。セライト(登録商標)上の粗生成物を、シリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによりさらに精製した。(SiO 40g、溶離液:酢酸エチル/シクロヘキサン 1+5)。
収率:675mg(57%)、ee=91%、淡黄色油
H−NMR(CDCl):δ0.90(t,3H,J=7.0Hz)、1.11(m,1H)、1.32(m,3H)、2.2(m,2H)、4.14(d,1H,J=12.9Hz)、4.26(d,1H,J=12.9Hz)、6.97(t,2H,J=8.6Hz)、7.20(m,2H)、7.52(s,1H)、7.64(m,2H)。
13C−NMR(CDCl):δ14.0、23.0、25.5、42.9、63.4. 78.6、111.4、114.8、115.1、118.5、127.3、127.4、127.6、131.4、134.8、140.8、141.3、150.5、161.7(d,JCF=247.2)。

Claims (27)

  1. a)化合物Kをホウ酸またはボロン酸の誘導体と混合するステップと、
    b)キラル補助剤(化合物A)を添加するステップと、
    c)有機金属化合物を添加するステップと
    を含む、カルボニル基、およびホウ酸またはボロン酸の誘導体と反応可能なアンカー基を含有する化合物(化合物K)におけるカルボニル基の不斉アルキル化の方法。
  2. ワンポット型で行われる、請求項1に記載の方法。
  3. ステップa)およびステップb)の順序が逆であるか、またはホウ酸もしくはボロン酸の誘導体、およびキラル補助剤(化合物A)が化合物Iに同時に添加される、請求項1または2のいずれか一項に記載の方法。
  4. 反応混合物が、ステップc)の前に特に蒸留ステップを介してステップa)およびステップb)の副生成物を実質的に除去される、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
  5. ホウ酸またはボロン酸の誘導体が、式VI
    Figure 2009523749
    [式中、Rは、水素、C1−10−アルキル、C2−10−アルケニル、C2−10−アルキニル、C6−10−アリール、C7−16アルカリール、4−10員複素環残基、C1−10−アルコキシ、C1−10−アルキルアミノ、C1−10−アルキルチオ、ヒドロキシ、またはシアノであり、
    は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−10−アルコキシ、C6−10−アリールオキシ、C1−10−ジアルキルアミノ、またはS原子、N原子、もしくはO原子によってホウ素原子に結合している4−10員複素環残基であり、
    が、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、C1−10−アルコキシ、C6−10−アリールオキシ、C1−10−ジアルキルアミノ、またはS原子、N原子、もしくはO原子によってホウ素原子に結合している4−10員複素環残基であり、
    または、RおよびRは互いに結合して、RおよびRが結合しているホウ素原子を含む5−10員環構造(但し、この環構造は、1つまたは2つの追加のホウ素原子、および/または酸素原子、および/または窒素原子を含有してよい。)を形成する]
    の化合物である、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
  6. が、C1−10−アルキルまたはC1−10−アルコキシ、特にC1−6−アルキル、好ましくはメチルまたはエチルである、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
  7. およびR、が同一であり、ヒドロキシまたはC1−10−アルコキシである、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 反応混合物が、ステップc)の前に蒸留されて水またはC1−10−アルカノールを除去する、請求項4と組み合わせる請求項7に記載の方法。
  9. 前記ホウ酸またはボロン酸の誘導体が、フェニルボロン酸、トリメチルボレート、トリイソプロピルボレート、ジイソプロピルブチルボロネート、ジルソプロピルメチルボロネート、メチルボロン酸、またはトリメチルボロキシン、好ましくはジイソプロピルメチルボロネート、メチルボロン酸、またはトリメチルボロキシンから選択される、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
  10. ホウ酸またはボロン酸の誘導体と反応可能なアンカー基が、ヒドロキシル、一置換または非置換のアミン、カルボキシル、およびスルフヒドリルからなる群から選択される、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
  11. 前記アンカー基がヒドロキシル基である、請求項9に記載の方法。
  12. カルボニル基の炭素原子が、アンカー基を担持する炭素原子から、1から6オングストローム、好ましくは1.3から3オングストローム離れている、請求項1から11のいずれか一項に記載の方法。
  13. カルボニル基の炭素原子が、アンカー基を担持する炭素原子から、0から4原子、好ましくは1から4炭素原子、より好ましくは2または3炭素原子離れている、請求項1から12のいずれか一項に記載の方法。
  14. キラル補助剤がキラルアルコールであり、好ましくは式(VII)
    Figure 2009523749
    (式中、Cはキラル炭素であり、nは、0から3の整数であり、Xは、自由電子対を有するヘテロ原子である。)
    の構成成分を含有する、請求項1から13のいずれか一項に記載の方法。
  15. nが1であるか、またはXが窒素であり、好ましくはnが1であり、Xが窒素である、請求項14に記載の方法。
  16. キラルアルコールがキラルアミノアルコールである、請求項15に記載の方法。
  17. キラルアミノアルコールが、N−メチルエフェドリン、N−メチルプソイドエフェドリン、2−ジメチルアミノ−1−フェニルエタノール、キニーネ、キニジン、シンコニジン、またはシンコニンから選択される、請求項16に記載の方法。
  18. 有機金属化合物が、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化合物、有機カドミウム化合物、有機セル化合物、有機リチウム化合物、有機チタン化合物、有機マンガン化合物、有機鉄化合物、有機アルミニウム化合物、または有機スズ化合物、好ましくは有機マグネシウム化合物である、請求項1から17のいずれか一項に記載の方法。
  19. 有機マグネシウム化合物が、アルキルマグネシウム、アルケニルマグネシウム、またはアルキニルマグネシウムである、請求項18に記載の方法。
  20. 化合物Kが、式(III)
    Figure 2009523749
    (式中、Yは、シアノ、またはシアノ基に変換可能な基である。)
    の化合物である、請求項1から19のいずれか一項に記載の方法。
  21. 有機金属化合物が、式VIII
    Figure 2009523749
    (式中、点線は、単結合、二重結合または三重結合である。)
    の有機金属化合物である、請求項20に記載の方法。
  22. MがMgであり、Zが、−CH−N(CH、または−CH−N(CHに変換することができる基であり、式(II)のジオールが、エナンチオマー的に濃縮されている、またはエナンチオマー的に純粋な形態で得られる、請求項21に記載の方法
    Figure 2009523749
    (式中、Yは、シアノ、またはシアノ基に変換可能な基である。)。
  23. 式(IX)の化合物を形成するための、式(II)のジオール閉環のステップをさらに含む、請求項22に記載の方法
    Figure 2009523749
    (YおよびZは、上記請求項22において定義した通りである。)。
  24. 式(IX)の化合物がエスシタロプラムである、請求項23に記載の方法。
  25. 式Vの化合物
    Figure 2009523749
    (式中、Rは、C1−10−アルキルまたはC1−10−アルコキシであり、より好ましくは、Rは、−CH、−OCHまたは−OCH(CHであり、Yは、シアノ、またはシアノ基に変換可能な基であり、O−Rは、キラルアルコールの残基である。)。
  26. シアノ基に変換可能な基が、クロロ、ブロモ、ヨードまたはCF−(CF−SO−O−(式中、nは0−8である。)、CHOHもしくは保護したCHOH、CHNHもしくは保護したCHNH、−CHCl、−CHBr、−CH、−NHR、−OR、(式中、Rは、水素またはC1−6アルキルカルボニルである。)、CONR(式中、RおよびRは、水素、場合により置換されているC1−6アルキル、アリール−C1−6アルキルもしくはアリールから選択されるか、またはRおよびRは共に結合して、S原子、O原子、または追加のN原子を場合により含む5員環もしくは6員環を形成する。)、またはCHOROR(式中、RおよびRは独立に、アルキル、アリール、ヘテロアリールから選択されるか、またはRおよびRは共に結合して、5員環または6員環を形成する。)、または他の保護した−CHO基であり、
    Yが、場合により置換されているオキサゾール基、4,5−ジヒドロオキサゾール基、チアゾール基、または4,5−ジヒドロチアゾール基も含む、請求項25に記載の化合物。
  27. 結晶形である式(III)のヒドロキシケトン。
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