JP2009518872A5 - - Google Patents

Claims (23)

1. 基板の縁を研磨するように構成された装置において、
   基板に輪郭が合うように構成された柔軟な研磨膜と、
   上記柔軟な研磨膜の少なくとも第１の長さに張力をかけるように構成されたフレームであって、上記柔軟な研磨膜の第１の長さが基板との接触に先んじて第１の面を成す、フレームと、
   上記第１の長さの一部分に沿って上記柔軟な研磨膜に対して上記基板を回転させるように構成された基板回転駆動装置であって、それにより上記基板が上記第１の面内に延び、且つ上記柔軟な研磨膜が、
   上記基板に張力を付与し、
   少なくとも外縁及び第１斜面を含む上記基板の縁に輪郭が合い、
   上記基板が回転されるときに上記外縁及び第１斜面を研磨する、
   ように構成される、基板回転駆動装置と、
   を備え、
   上記基板の縁が上記基板回転駆動装置を越えて延び、
   上記フレームが更に、上記柔軟な研磨膜を上記基板の縁の周りで角度を付けて並進移動させるように構成されている、装置。
2. 上記フレームは、上記柔軟な研磨膜のための供給スプールと巻き取りスプールを含み、更に、上記フレームは、上記柔軟な研磨膜の上記基板に接触する部分を交換できるように構成されている、請求項１に記載の装置。
3. 上記柔軟な研磨膜は、上記供給スプールと上記巻き取りスプールとの間で長手方向に延び、及び、上記基板回転駆動装置は、上記柔軟な研磨膜の上記長手方向に上記基板の上記縁を移動させる、請求項２に記載の装置。
4. 上記柔軟な研磨膜及び上記フレームは、交換可能なカセットに収容される、請求項１に記載の装置。
5. 上記フレームは、更に、上記柔軟な研磨膜を上記基板の外縁、第１斜面及び第２斜面に接触させるために、上記基板の上記外縁に接する軸の周りで上記研磨膜を角度を付けて並進移動させるように構成されている、請求項１に記載の装置。
6. 上記フレームは、更に、上記基板の上記縁の周りで上記柔軟な研磨膜を、上記基板に対して周囲方向に回転させるように構成されている、請求項１に記載の装置。
7. 流体供給チャンネルを更に備え、該流体供給チャンネルは、上記基板の上記縁へ流体を送出するように構成されている、請求項１に記載の装置。
8. 上記流体供給チャンネルは、更に、上記柔軟な研磨膜を経て上記基板の上記縁に流体を送出するように構成されている、請求項７に記載の装置。
9. 上記流体供給チャンネルは、上記基板の上記縁に音波エネルギーを送出するように構成されている、請求項７に記載の装置。
10. 上記流体は、水及び洗浄化学物質の少なくとも１つを含む、請求項７に記載の装置。
11. 基板の縁を研磨するように構成された装置において、
    基板に輪郭が合うように構成された複数の柔軟な研磨膜と、
    各柔軟な研磨膜の少なくとも第１の長さに沿って複数の柔軟な研磨膜のそれぞれに張力をかけるように構成された少なくとも１つのフレームであって、上記各柔軟な研磨膜の第１の長さが基板との接触に先んじて第１の面を成す、フレームと、
    少なくとも１つの上記柔軟な研磨膜の第１の長さの一部分に対して基板を回転させるように構成された基板回転駆動装置であって、上記基板が上記第１の面内に延び、且つ上記基板に接触する柔軟な研磨膜がいずれも、基板に圧力を付与し、上記基板の縁に輪郭が合い、及び、上記基板が回転されるときに上記縁を研磨するようにできた、基板回転駆動装置と、
    を備え、
    上記基板の縁が上記基板回転駆動装置を越えて延び、
    上記少なくとも１つのフレームが更に、上記柔軟な研磨膜を上記基板の縁の周りで角度を付けて並進移動させるように構成されている、装置。
12. 上記複数の柔軟な研磨膜は、異なる研磨材を有する膜を含む、請求項１１に記載の装置。
13. 少なくとも１つのフレームは複数のヘッドを備え、各ヘッドは少なくとも１つの柔軟な研磨膜を支持するように構成され、及び、上記複数のヘッドはほぼ同時に、支持された柔軟な研磨膜を上記基板の縁に接触させるように構成されている、請求項１１に記載の装置。
14. 少なくとも１つのフレームは複数のヘッドを備え、各ヘッドは少なくとも１つの柔軟な研磨膜を支持するように構成され、及び、各ヘッドは、支持された柔軟な研磨膜を異なる時間に基板の縁に接触保持するように構成されたパッドを含む、請求項１１に記載の装置。
15. 上記各ヘッドのパッドは、アクチュエータがそのパッドを押すのに応答して、回転する基板に対してヘッドの柔軟な研磨膜を押し付けるように構成されている、請求項１４に記載の装置。
16. 各柔軟な研磨膜及び各ヘッドは交換可能なカセットに収容される、請求項１４に記載の装置。
17. 上記フレームは、更に、上記柔軟な研磨膜を上記基板の外縁、第１斜面、及び第２斜面に接触させるために、上記基板の外縁に接する各軸の周りで各ヘッドの柔軟な研磨膜を角度を付けて並進移動させるように構成されている、請求項１４に記載の装置。
18. 上記フレームは、更に、上記基板の縁の周りで各ヘッドの柔軟な研磨膜を、上記基板に対して周囲方向に回転させるように構成されている、請求項１４に記載の装置。
19. 流体供給チャンネルを更に備え、該流体供給チャンネルは、上記基板の縁へ流体を送出するように構成されている、請求項１１に記載の装置。
20. 流体供給チャンネルを更に備え、該流体供給チャンネルは、更に、各ヘッドの柔軟な研磨膜を経て上記基板の縁へ流体を送出するように構成されている、請求項１４に記載の装置。
21. 上記流体供給チャンネルは、上記基板の縁に音波エネルギーを送出するように構成されている、請求項１９に記載の装置。
22. 前記流体は、水及び洗浄化学物質の少なくとも１つを含む、請求項１９に記載の装置。
23. 基板の縁を研磨するように構成された装置において、
    基板に輪郭が合うように構成された柔軟な研磨膜と、
    基板の縁の輪郭に適合するように予め形成された輪郭合わせされたパッドであって、上記基板の縁に一致するように構成されたパッドと、
    上記柔軟な研磨膜の少なくとも第１の長さに張力をかけるように構成されたフレームであって、上記柔軟な研磨膜の第１の長さが上記基板との接触に先んじて第１の面を成す、フレームと、
    上記第１の長さの一部分に沿って上記柔軟な研磨膜に対して上記基板を回転させるように構成された基板回転駆動装置であって、それにより上記基板が上記第１の面内に延び、且つ上記柔軟な研磨膜が、
    上記基板に張力を付与し、
    少なくとも外縁及び第１斜面を含む上記基板の縁に輪郭が合い、
    上記基板が回転されるときに上記外縁及び第１斜面を研磨する、
    ように構成される、基板回転駆動装置と、
    を備え、
    上記基板の縁が上記基板回転駆動装置を越えて延び、
    上記フレームが更に、上記柔軟な研磨膜を上記基板の縁の周りで角度を付けて並進移動させるように構成されている、装置。