JP2009293074A - マスク、該マスクを用いた成膜装置、及び、該マスクを用いた成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】四角形のガラス基板3の4辺各々に対応する4つのマスク4が用意され、該4つのマスクは、分割された状態で成膜室1の内部に設置されている。そして、各マスク4を、ガラス基板3と同一平面上であってガラス基板3の各辺に対して垂直な方向において直線的に移動させると、分割された各マスク4が互いに接続し合って一つの集合体としてのマスクになる。このとき、ガラス基板3の全周縁が各マスク4で覆われる。
【選択図】図1
Description
2 基体ホルダー
3 ガラス基板
4 マスク
Claims (9)
- 板状の基体の処理に使用されるマスクであって、
前記基体の周縁の一部又は全てと接触する複数の部品からなり、前記処理の際に複数の該部品を該基体の周縁で接続させて一つの集合体として使用するマスク。 - 前記基体が四角形の基板からなり、
前記部品は、前記基板の4辺の各々に対応する部分に分割した請求項1に記載のマスク。 - 前記基体が四角形の基板からなり、
前記部品は、前記基板の4辺のうち隣り合う2辺に対応する部分に分割した請求項1に記載のマスク。 - 成膜室と、
前記成膜室内に配設され、板状の基体を載置する基体ホルダーと、
前記成膜室内で前記基体ホルダーに載置された前記基体に対して配される請求項1乃至3のいずれか1項に記載のマスクと、
を備えた成膜装置。 - 前記マスクを構成する各部品は、該部品が対応する前記基体の辺に向けて移動するように構成されている、請求項4に記載の成膜装置。
- 減圧下の前記成膜室でスパッタリングが行われる請求項4又は5に記載の成膜装置。
- 請求項2に記載のマスクを使用した成膜方法であって、
前記四角形の基板が載置された成膜室内にて、該基板の4辺の各々に対応するように前記マスクが分割された部品を配置する工程と、
前記成膜室内に載置された該基板と略同一平面に沿って、前記基板の各辺に向けて対応する前記部品を移動させ、各々の前記部品を前記基板の周縁と接触させると共に、互いに接続して一つの集合体して前記マスクを形成する工程と、
該一つの集合体としてのマスクで覆われた前記基板を成膜する工程と、
を有する成膜方法。 - 請求項3に記載のマスクを使用した成膜方法であって、
前記四角形の基板が載置された成膜室内にて、該基板の4辺のうち隣り合う2辺の各々に対応するように前記マスクが分割され部品を配置する工程と、
前記成膜室内に載置された該基板と略同一平面上に沿って、前記基板の隣り合う2辺に向けて対応する前記部品を移動させ、各々の前記部品を前記基板の周縁と接触させると共に、互いに接続して一つの集合体として前記マスクを形成する工程と、
該一つの集合体としてのマスクで覆われた前記基板を成膜する工程と、
を有する成膜方法。 - 成膜工程においてスパッタリングを行う請求項7又は8に記載の成膜方法。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013088623A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | 処理装置およびシールド |
WO2013088624A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | 処理装置およびシールド |
JP2014529011A (ja) * | 2011-08-25 | 2014-10-30 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 長方形基板に層を堆積させるためのマスク構造体、装置および方法 |
KR20160039277A (ko) * | 2013-08-02 | 2016-04-08 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판들을 위한 유지 배열, 및 이를 사용하는 장치 및 방법 |
JP2018154851A (ja) * | 2017-03-15 | 2018-10-04 | 日新電機株式会社 | 基板保持装置 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010054971A1 (de) | 2010-12-08 | 2012-06-14 | Huber Packing Group Gmbh | Verfahren zum Beschichten von Emballagen-Halbteilen |
US9855576B2 (en) | 2015-08-19 | 2018-01-02 | Honda Motor Co., Ltd. | Paint masking system and method |
KR20180057704A (ko) * | 2015-09-24 | 2018-05-30 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 재료 증착 프로세스에서 기판을 운반하기 위한 캐리어 및 기판을 운반하기 위한 방법 |
CN105252298A (zh) * | 2015-10-30 | 2016-01-20 | 昆山洺九机电有限公司 | 一种板式工件定位工装 |
US20170301926A1 (en) * | 2016-04-14 | 2017-10-19 | Applied Materials, Inc. | System and method for maskless thin film battery fabrication |
KR20180050452A (ko) * | 2016-11-04 | 2018-05-15 | 코닝 인코포레이티드 | 코팅 과정에서의 글래스 기반 제품의 마스킹 및 고정, 및 이에 의해 제조된 제품 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04121728U (ja) * | 1991-04-19 | 1992-10-30 | 太陽誘電株式会社 | 半導体装置の製造装置 |
JPH05326404A (ja) * | 1992-05-14 | 1993-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | 分子線エピタキシャル結晶成長装置 |
JPH06196476A (ja) * | 1992-12-22 | 1994-07-15 | Canon Inc | スパッタリング装置 |
JPH1060624A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スパッタリング装置 |
JPH11181565A (ja) * | 1997-12-19 | 1999-07-06 | Nec Corp | スパッタリング装置 |
JP2000054124A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-02-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マスク配設装置およびスパッタリング装置 |
JP2002217172A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-08-02 | Mitsubishi Electric Corp | 製造装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6045671A (en) * | 1994-10-18 | 2000-04-04 | Symyx Technologies, Inc. | Systems and methods for the combinatorial synthesis of novel materials |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04121728U (ja) * | 1991-04-19 | 1992-10-30 | 太陽誘電株式会社 | 半導体装置の製造装置 |
JPH05326404A (ja) * | 1992-05-14 | 1993-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | 分子線エピタキシャル結晶成長装置 |
JPH06196476A (ja) * | 1992-12-22 | 1994-07-15 | Canon Inc | スパッタリング装置 |
JPH1060624A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スパッタリング装置 |
JPH11181565A (ja) * | 1997-12-19 | 1999-07-06 | Nec Corp | スパッタリング装置 |
JP2000054124A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-02-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マスク配設装置およびスパッタリング装置 |
JP2002217172A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-08-02 | Mitsubishi Electric Corp | 製造装置 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014529011A (ja) * | 2011-08-25 | 2014-10-30 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 長方形基板に層を堆積させるためのマスク構造体、装置および方法 |
WO2013088623A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | 処理装置およびシールド |
WO2013088624A1 (ja) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | 処理装置およびシールド |
US9422619B2 (en) | 2011-12-15 | 2016-08-23 | Canon Anelva Corporation | Processing apparatus and shield |
US9583304B2 (en) | 2011-12-15 | 2017-02-28 | Canon Anelva Corporation | Processing apparatus and shield |
KR20160039277A (ko) * | 2013-08-02 | 2016-04-08 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판들을 위한 유지 배열, 및 이를 사용하는 장치 및 방법 |
KR102219198B1 (ko) | 2013-08-02 | 2021-02-22 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판들을 위한 유지 배열, 및 이를 사용하는 장치 및 방법 |
JP2018154851A (ja) * | 2017-03-15 | 2018-10-04 | 日新電機株式会社 | 基板保持装置 |
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