JP7078407B2 - 粘着式基板保持装置 - Google Patents
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- 所定の処理を実施する処理装置内に設けられて処理すべき基板を保持する粘着式基板保持装置において、
ベースプレートとこのベースプレートの一方の面に突設されるエラストマーからなる環状の粘着体とを有して粘着体の突設方向先端の保持面が基板の外周縁部に粘着する基板保持手段と、粘着体で囲繞されるベースプレートと基板との間の空間に所定のガスを導入するガス導入手段とを備え、
粘着体の高さが、保持面を基板の外周縁部に当接させた状態で突設方向に押圧力を加えたときにその保持面がその全面に亘って被保持体と面接触するように設定され、
前記ガス導入手段により前記空間内の圧力が400Pa~2666Paの範囲内の所定圧力に設定されるように前記ガスを導入する場合に、前記基板の面積に対する前記粘着体の保持面の面積の比が0.04~0.2の範囲内に設定されると共に、前記保持面の幅が1mm~5mmの範囲に設定されることを特徴とする粘着式基板保持装置。 - 所定の処理を実施する処理装置内に設けられて処理すべき基板を保持する粘着式基板保持装置において、
ベースプレートとこのベースプレートの一方の面に突設されるエラストマーからなる環状の粘着体とを有して粘着体の突設方向先端の保持面が基板の外周縁部に粘着する基板保持手段と、粘着体で囲繞されるベースプレートと基板との間の空間に所定のガスを導入するガス導入手段とを備え、
粘着体の高さが、保持面を基板の外周縁部に当接させた状態で突設方向に押圧力を加えたときにその保持面がその全面に亘って被保持体と面接触するように設定され、
前記ベースプレートに粘着体より低い高さの突部が設けられ、この突部の周囲に粘着体が弾装されることを特徴とする粘着式基板保持装置。 - 前記粘着体の厚みは、0.5mm~3mmの範囲に設定されることを特徴とする請求項1または請求項2記載の粘着式基板保持装置。
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