JP2009289717A - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】保護層表面に変質層が形成されず、また微粒子結晶を劣化させずに保護層表面に配設できるプラズマディスプレイパネル製造法を提供する。
【解決手段】保護層の形成後、保護層上に「金属酸化物粒子と有機溶剤とを含んだ液状原料」を塗布して冷却することによって一時保護層を形成する。かかる一時保護層によって前面板における保護層変質を防止できる。前面板と背面板とを組み合わせてPDPを構成するに際しては、封着処理の前に加熱または減圧下に付して有機溶剤を除去する。これにより、一時保護層を除去できると共に、金属酸化物粒子を保護層表面に配設できる。従って、保護層の変質を防止できるだけでなく、金属酸化物粒子を劣化させずに保護層表面に配設できる。
【選択図】図4

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。より詳細には、プラズマディスプレイパネルの製造に際して、前面板の保護層を一時的に周囲環境から隔離して保護する方法に関する。
高品位テレビジョン画像を大画面で表示するためのディスプレイ装置として、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPとも称す)を用いたディスプレイ装置への期待は高まっている。
PDP(例えば3電極面放電型PDP)は、映像を見る人から見て表面側となる前面板とその裏側の背面板とを対向配置して、それらの周辺部を封着材で封着した構造を有している。前面板と背面板との間に形成された放電空間にはネオンおよびキセノンなどの放電ガスが封入されている。前面板は、ガラス基板上に形成された走査電極と維持電極とから成る表示電極と、これらの電極を覆う誘電体層と保護層とを備えている(例えば特許文献1参照)。背面板は、ガラス基板に上記表示電極と直交する方向にストライプ状に形成された複数のアドレス電極と、これらのアドレス電極を覆う下地誘電体層と、放電空間をアドレス電極毎に区画する隔壁(リブ)と、隔壁の側面および下地誘電体層上に形成された赤色(R)・緑色(G)・青色(B)の蛍光体層とを備えている。
表示電極とアドレス電極とは直交していて、その交差部が放電セルを成している。これらの放電セルはマトリクス状に配列されており、赤色・緑色・青色の蛍光体層を有する3個の放電セルがフルカラー表示のための画素となっている。このようなPDPでは、順次、走査電極とアドレス電極間、および走査電極と維持電極間に所定の電圧が印加されてガス放電を発生させている。そして、かかるガス放電で生じる紫外線により蛍光体層を励起して可視光を発光させることによってカラー画像表示を実現している。
このようなPDPの保護層の成分としては、酸化マグネシウム(MgO)が一般に広く用いられている。PDPの動作電圧は、この保護層の2次電子放出係数に依存している。従って、動作電圧の低電圧化を図るため、仕事関数がより小さいアルカリ土類金属の酸化物(たとえば、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムなど)を保護層成分として用いることが提案されている。しかしながら、これらのアルカリ土類金属の酸化物は吸湿性が高く、保護層の形成後に周囲雰囲気中の水分を吸着し得る。その結果、保護層の表面領域が水酸化物に変質することになり、不安定な放電特性が引き起こされるといった問題があった。それゆえ、保護層の表面を保護するために、前面板の作製後から前面板と背面板との組合せまでの一時的な期間、保護層上に“一時保護層”を設けることが提案されている(例えば、特許文献2参照)。この場合、前面板と背面板とを組み合せた後に、プラズマエッチングによって一時保護層を除去している。
一方、PDPにおいては、アドレス放電セルごとで放電がばらつくといった問題があり、その解決のために、保護層の表面に金属酸化物の微粒子結晶を配設する方法が提案されている(例えば、特許文献3参照)。
しかしながら、一時保護層を設ける従来のPDP製造では、一時保護層を除去する際に金属酸化物の微粒子結晶を劣化させてしまうという問題があった。
従来では、保護層形成後、真空雰囲気中で連続して保護層上に一時保護層を形成し、それによって、保護層表面における変質層の形成を防止している。しかしながら、保護層形成後、保護層表面に金属酸化物の微粒子結晶を配設し、さらにその上に一時保護層を形成する場合では、一時保護層の除去に際して金属酸化物の微粒子結晶が劣化してしまうことが懸念される。具体的には、パネル組み立て後にパネル内部にプラズマを発生させて一時保護層を除去する工程に際して、保護層表面に配設した金属酸化物の微粒子結晶がプラズマに曝されてしまう。その結果、微粒子結晶がエッチングされるなどの劣化により、所望する特性の向上を得ることができない。
また、保護層形成後、真空雰囲気中で連続して保護層上に一時保護層を形成し、さらにその上に金属酸化物の微粒子結晶を配設し、その後一時保護層を除去して保護層表面に金属酸化物の微粒子結晶を配設する方法もある。しかしながら、パネル組み立て後にパネル内部にプラズマを発生させて一時保護層を除去する際、保護層だけでなく、保護層表面に配設した金属酸化物の微粒子結晶もプラズマに曝されてしまうため、微粒子結晶がエッチングされるなどの劣化が起こる。また、微粒子結晶の直下の一時保護層は、プラズマに曝される面が小さく、微粒子結晶が配設されていない箇所に比べ除去され難くい。それゆえ、微粒子結晶の直下の一時保護層を完全に除去しようとした場合、微粒子結晶が配設されていない箇所の保護層が、一時保護膜が除去された後もプラズマに曝されるため劣化が起こり、所望する特性の向上が得られない。
特開2002−216620号公報 特開平10−149767号公報 国際特許公開第2004/049375号公報
本発明は、上記事情に鑑みて為されたものである。つまり、本発明の課題は、保護層表面に変質層が形成されず、また、微粒子結晶を劣化させずに保護層上に配設できるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することである。
上記課題を解決するため、本発明は、
(i)金属酸化物粒子および有機溶剤を含んで成る液状原料を前面板の保護層の上に供給して「液状原料層」を形成する工程、
(ii)「液状原料層」を凝固させることによって、「液状原料層」から一時保護層を形成する工程、ならびに
(iii)前面板と背面板とを対向配置させた状態で、一時保護層に含まれる有機溶剤を除去して保護層上に金属酸化物粒子を配設する工程
を含んで成るプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
本発明の製造方法は、保護層上に供された液状原料層の有機溶剤の固化および除去によって一時保護層の形成および除去を行うことを特徴の1つとしている。
尚、本明細書において「一時保護層」とは、プラズマディスプレイパネルの製造に際して、周囲雰囲気の水分などに起因して前面板の保護層が変質しないように防止する層を実質的に意味している。特に、かかる層は、「前面板の完成後」から「前面板と背面板とを張り合わせるパネル封着工程の直前」までの期間において保護層変質を防止する役割を担うものである。従って、「一時」とは、プラズマディスプレイパネルの製造時における「前面板の完成後」から「パネル封着の直前」までの期間を実質的に意味している。
また、本明細書において「対向配置」とは、プラズマディスプレイパネルの製造で前面板と背面板と封着させる際に、前面板と背面板とを互いに向かい合うように配置することを実質的に意味している。より具体的には、「対向配置」とは、「前面板の一時保護層」と「背面板の蛍光体層」とが互いに直接向い合うように、前面板と背面板とが配置される態様を実質的に意味している。
工程(ii)では、有機溶剤の融点以下の温度にまで「液状原料層」を冷却することが好ましい。これによって、「液状原料層」に含まれる有機溶剤が液体状から固体状へと変化して「液状原料層」が全体的に凝固することになる。
工程(iii)では、一時保護層を加熱下または減圧下に付すことによって有機溶剤を気化させることが好ましい。これによって、一時保護層から有機溶剤が抜けることになり、その結果、金属酸化物粒子が保護層上に配設されることになる。
前面板の保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムから成る群から選択される少なくとも1種類以上の成分を含んで成ることが好ましい。また、工程(i)で用いられる液状原料の金属酸化物粒子は酸化マグネシウムを含んで成ることが好ましい。
ある好適な態様では、前面板と背面板との封着処理に先立って、有機溶剤の除去が行われる。即ち、前面板と背面板との封着処理に先立って、一時保護層を加熱または減圧に付すことが好ましい。
本発明の製造方法では、「前面板の完成後」から「パネル封着の直前」までの一時的な期間、前面板における保護層の変質を防止できる。また、一時保護層に含まれる有機溶剤を除去することによって、かかる一時保護層に含まれる金属酸化物粒子を保護層表面上に配設できるので、「一時保護層の除去」と「金属酸化物粒子の配設」とを実質的に同時に行うことができる。
更に、プラズマなどを用いずに、一時保護層を加熱または減圧に付して一時保護層の除去(具体的には有機溶剤の気化)を行っているので、金属酸化物粒子を劣化させずに保護層上に配設することができる。つまり、本発明の製造方法によって、放電特性の優れたプラズマディスプレイパネルを得ることが可能である。
以下にて、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法を詳細に説明する。
プラズマディスプレイパネルの構成
まず、本発明の製造方法を経ることによって最終的に得られるプラズマディスプレイパネル(PDP)を簡単に説明する。図1に、PDPの構成を断面斜視図により模式的に示す。
PDP(100)の前面板(1)では、平滑で透明かつ絶縁性の基板(10)(例えばガラス基板)上に、走査電極(12)と維持電極(13)とから成る表示電極(11)が複数形成されており、その表示電極(11)を覆うように誘電体層(15)が形成され、更に、その誘電体層(15)上に保護層(16,19)が形成されている。なお、走査電極(12)および維持電極(13)は、それぞれ、透明電極と、この透明電極に電気的に接続されたAg等から成るバス電極とから構成されている。尚、基板(10)上には、遮光層(14)も形成され得る。
前面板(1)に対向配置される背面板(2)では、絶縁性の基板(20)上にアドレス電極(21)が複数形成され、このアドレス電極(21)を覆うように誘電体層(22)が形成されている。そして、かかる誘電体層(22)上のアドレス電極(21)間に対応する位置に隔壁(23)が設けられ、誘電体層(22)の表面上の隣接する隔壁(23)の間には、赤、緑、青の各色の蛍光体層(25)がそれぞれ設けられている。
表示電極(11)とアドレス電極(21)とが直交し、且つ、放電空間(30)が形成されるように、前面板(1)と背面板(2)とは、隔壁(23)を挟んで対向して配置されている。放電空間(30)には、放電ガスとして、ヘリウム、ネオン、アルゴンまたはキセノンなどの希ガスが封入される。このような構成を備えたPDP(100)では、隔壁(23)によって仕切られ、表示電極(11)とアドレス電極(21)とが交差する放電空間(30)が放電セル(32)として機能することになる。
PDPの一般的な製造法
次に、このようなPDP(100)の典型的な製造方法について簡単に説明する。PDP(100)の製造は、前面板(1)の形成工程と背面板(2)の形成工程とに分かれている。まず、前面板(1)の形成工程においては、ガラス基板(10)上に、例えばスパッタ法などで透明電極を形成すると共に焼成法等でバス電極を形成することによって表示電極(11)を形成する。次いで、表示電極(11)を覆うように誘電体原料をガラス基板(10)上に塗布して加熱処理して誘電体層(15)を形成する。次いで、この誘電体層(15)上に、前述または後述する方法でMgOなどから成る保護層(16,19)を形成し、前面板(1)を得ている。
背面板(2)の形成工程においては、ガラス基板(20)上に、例えば焼成法等でアドレス電極(21)を形成し、その上に誘電体原料を塗布して誘電体層(22)を形成する。次いで、所定のパターンで低融点ガラスから成る隔壁(23)を形成し、その隔壁(23)の間に蛍光体材料を塗布して焼成することによって蛍光体層(25)を形成する。次いで、基板の周縁部に例えば低融点フリットガラス材料を塗布し、焼成を行うことで封着部材(図示せず)を形成し、背面板(2)を得ている。
得られた前面板(1)と背面板(2)とを対向するように位置合わせし、その状態で固定したまま加熱して封着部材を軟化させることによって、前面板(1)と背面板(2)とを気密に接合する、いわゆるパネル封着工程を行う。引き続いて、加熱しながら放電空間(30)内のガスを排気する、いわゆる排気ベーキング工程を行った後、放電空間(30)内に放電ガスを封入することによって、PDP(100)を完成させる。
本発明の製造方法
本発明は、上述のPDPの製造に際して、前面板の保護層に変質防止策を効果的に講じたものである。
図1〜図3を参照して、本発明の実施形態を説明する。まず、本発明の実施に際しては、前面板を作製する。具体的には「基板上に電極、誘電体層および保護層が順次設けられた前面板」を作製する。より具体的には「ガラス基板上に表示電極、誘電体層および保護層が順次設けられた前面板」を作製する。
まず、基板(10)上に、走査電極(12)と維持電極(13)とから構成される表示電極(11)を形成する。基板(10)としては、ソーダライムガラスや高歪み点ガラス、各種セラミックスからなる絶縁基板であることが好ましく、厚さは1.0mm〜3mm程度であることが好ましい。表示電極(11)の走査電極(12)および維持電極(13)には、それぞれ、ITO等から成る透明電極(厚さ50nm〜500nm程度)が形成されていると共に、かかる透明電極上に表示電極の抵抗値を下げるべく、銀を含んで成るバス電極(厚さ1μm〜8μm程度)が形成される。従って、透明電極を薄膜プロセスなどで形成した後に、バス電極を焼成プロセスなどを経て形成する。特に、バス電極の形成に際しては、まず、銀を主成分とした導電性ペーストをスクリーン印刷法によりストライプ状に形成する。また、バス電極は銀を主成分とした感光性ペーストをダイコート法や印刷法により塗布した後に、100℃〜200℃で乾燥した後、露光・現像するフォトリソグラフィ法によりパターンニングすることによってストライプ状に形成してもよい。更には、ディスペンス法やインクジェット法によって形成してもよい。そして、最終的には乾燥に付した後、400℃〜600℃の焼成に付すことによって、バス電極を得る。尚、透明電極上には、Al、CuまたはCr等の金属やCr/Cu/Crのような積層体からなる金属電極を形成してもよい。
表示電極(11)の形成に引き続いて、誘電体層(15)を形成する。誘電体層(15)は、PDP前面板の一般的な製造で用いられる焼成法またはゾルゲル法などを用いて得ることができる。例えば、SiO、B、ZnO、Biなどを含むガラス粉末と有機溶剤とバインダ樹脂とを混合して成る誘電体原料ペーストをスクリーン印刷法で塗布し、その後、熱処理に付すことによって誘電体層を形成することができる。誘電体層(15)の厚さは、好ましくは5μm〜30μm程度であり、より好ましくは10μm〜20μm程度である。尚、有機溶剤としてはアルコール類(例えばイソプロピルアルコール)やケトン類(例えばメチルイソブチルケトン)を挙げることができ、バインダ樹脂としては、セルロース系樹脂またはアクリル系樹脂などを挙げることができる。
誘電体層(15)の形成に引き続いて、保護層(16)を形成する。例えば、誘電体層上にスパッタ法(スパッタリング法)または蒸着法で保護層を形成する。好ましくは、酸化マグネシウム(MgO)を含んで成る保護層を形成する。保護層の成分は、酸化マグネシウムに制限されるわけではなく、例えば、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムから成る群から選択される少なくとも1種類以上の成分であってもよい(当然ではあるが、これらの成分と酸化マグネシウムとが共に含まれる保護層も考えられる)。このような成分は、酸化マグネシウムよりも仕事関数が小さく、動作電圧または駆動電圧の低電圧化に寄与し得る。形成される保護層の厚さは、好ましくは約0.3μm〜約1.5μm程度であり、より好ましくは約0.5μm〜約1.0μm程度である。蒸着法としては、CVDまたはPVDを用いてよく、例えば電子ビーム蒸着法などを用いてよい。尚、スパッタ法または蒸着法に限定されず、所望の保護層を形成できるのであれば、他の手法を用いてもよい。
保護層(16)の形成に引き続いて、かかる保護層(16)の変質を防止する「一時保護層」を形成する。かかる「一時保護層」の形成は乾燥雰囲気下で行うことが好ましく、例えば露点−60℃程度の乾燥空気雰囲気下で行うことが好ましい。
「一時保護層」の形成に際しては、まず、本発明の製造方法の工程(i)を実施する。換言すれば、「金属酸化物粒子(19)および有機溶剤(18)を含んで成る液状原料」を保護層の上に塗布して液状原料層(17a)を形成する(図2参照)。液状原料は、常温(約25℃程度)で液体形態を有する原料であって、後述する粘度を有している。金属酸化物粒子(19)は、好ましくはMgO結晶粉体(MgO微粒子結晶)であり、より好ましくはMgO単結晶粉体である。金属酸化物粒子の粒径についていえば、好ましくは粒径D50=0.5〜10μm程度であり、より好ましくは粒径D50=1〜5μm程度である。ここでいう「粒径D50」とは、粒径分布において、ある粒子径より大きい個数または質量が、全体のそれの50%を占めるときの粒子径のことである。
液状原料に含まれる有機溶剤(18)は、金属酸化物粒子(19)を分散させる作用を有するが、後述する融点(凝固点)を有するものであれば、特に制限はない。但し、「周囲雰囲気中の水分に起因する保護層変質」を防止する観点から、有機溶剤は水との混和性(または相溶性もしくは吸湿性)を実質的に有さないことが好ましい。
引き続いて行われる操作で有機溶剤(18)を凝固させるので、有機溶剤はかかる凝固に好ましい融点(凝固点)を有していることが望まれる。特に以下の事項に鑑みると、有機溶剤の融点(凝固点)は、好ましくは0℃〜20℃であり、より好ましくは2〜15℃であり、更に好ましくは3℃〜10℃である。

・有機溶剤は、塗布を行う観点から常温(25℃程度)で液体形態を有している必要がある。
・有機溶剤は、金属酸化物粒子を均一に拡散・分散させることが求められる。
・冷却操作・冷却コストは有機溶剤の融点に依存している。

具体的な有機溶剤としては、例えばベンゼン(融点:5.5℃)、シクロヘキサン(融点:6.7℃)等を挙げることができる。特にベンゼンおよびシクロヘキサンについては後述する沸点の点でも好ましい有機溶剤である。
有機溶剤(18)は必ずしも1種類である必要はなく、場合によっては少なくとも2種類以上の有機溶剤から成る混合物であってもよい。特に、液状原料の粘度を上げるために、ソルフィット(3メトキシ3メチル1ブタノール)やα―テルーピネオールなどの他の有機溶剤が含まれていてよい。また、液状原料には、金属酸化物粒子の分散性を向上させるために界面活性剤などが含まれていてもよい。
液状原料の各種成分の割合は、保護層表面の変質を防止できる層が形成できるのであれば特に制限はない。例えば一例を挙げると、金属酸化物粒子が好ましくは5重量%〜20重量%(液状原料の体積基準)であって、有機溶剤が好ましくは80重量%〜95重量%(液状原料の体積基準)である。
液状原料の粘度は、好ましくは2mPa・s〜20mPa・sであり、より好ましくは3mPa・s〜7mPa・sであり、更に好ましくは4mPa・s〜7mPa・sである。尚、液状原料は一般に非ニュートン性流体となり得るので、本明細書で用いる粘度は「ずり速度100s−1および温度25℃における粘度」を実質的に意味していることに留意されたい。
液状原料の塗布には、スリットコート法、ダイコート法、スピンコート法またはブレードコート法などを用いることができる。液状原料の塗布により形成される「液状原料層(17a)」の厚さは、好ましくは約5μm〜約25μm程度であり、より好ましくは約10μm〜約20μm程度である。
液状原料層(17a)の形成が完了すると、次に、本発明の製造方法の工程(ii)を実施する。つまり、保護層(16)を覆うように形成された液状原料層(17a)を凝固させることによって、液状原料層(17a)から一時保護層(17b)を形成する。凝固させる理由は次のとおりである:

・「液状原料層」はあくまでも液体状であるために、前面板を傾けると液状原料層の厚さに面内分布が生じ、それに伴って、液状原料層中に拡散・分散させた金属酸化物粒子も同様に面内分布を生じてしまう。このため、液体状のままでは前面板の一時的な保管および次工程への搬送が容易でない。
・「液状原料層」を液体状のままで長時間放置すると、金属酸化物粒子の凝集が生じてしまう。凝集が生じてしまうと、後述する「金属酸化物粒子の保護層表面への配設」にバラツキが生じてしまう。金属酸化物粒子の配設にバラツキが生じると、PDPの放電バラツキの抑制効果が低減し得る。

凝固に際しては、有機溶剤の融点以下の温度にまで冷却することによって有機溶剤を凝固させることが好ましい。上述の有機溶剤の融点(凝固点)に鑑みると、好ましくは0℃〜20℃以下の温度、より好ましくは2℃〜15℃以下の温度、更に好ましくは3℃〜10℃以下の温度に冷却する。液状原料層の凝固にムラが生じないように液状原料層の内部の温度を均一にすることが好ましい。冷却手段としては、低温庫のような冷却チャンバーを用いてよい。この場合、冷却チャンバー内に「工程(i)から得られた前面板」を供することによって、「液状原料層」を全体的に冷却できる。冷却時の降温速度は、好ましくは2〜20℃/分、より好ましくは3〜10℃/分であり、更に好ましくは3〜7℃/分である。このような降温速度では、凝固時にて液状原料中の金属酸化物粒子の凝集が特に防止されることになる。例えば、室温(約24℃)の雰囲気下にあった「工程(i)から得られた前面板」を約0℃雰囲気下の低温庫に投入することで5分以内に液状原料層を凝固させてよい。
工程(ii)の実施で保護層上に一時保護層(17b)が形成されることによって「周囲雰囲気中の水分に起因した保護層の変質」が防止されることになる。一時保護層を備えた前面板は、有機溶剤の融点(凝固点)以下の温度に保たれた保管庫において保管しておくことができる。
前面板(1)の作製に対して、背面板(2)は次のようにして作製する。まず、ガラス基板(20)上に、銀(Ag)材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、銀を主成分とした金属膜を全面に形成した後、露光・現像するフォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによって前駆体層を形成し、それを所望の温度(例えば約400〜約700℃)で焼成することによりアドレス電極(21)を形成する。次いで、アドレス電極(21)が形成された基板(20)上に、下地誘電体層となる誘電体層(22)を形成する。まず、「ガラス成分(SiO、Bなどから形成される材料)およびビヒクル成分などを主成分とした誘電体原料ペースト」をダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、かかる誘電体ペースト層を焼成することによって誘電体層(22)を形成できる。次いで、隔壁(23)を所定のピッチで形成する。具体的には、誘電体層(22)上に隔壁形成用原料ペーストを塗布して所定の形状にパターニングすることにより、隔壁材料層を形成し、その後、それを焼成に付して隔壁(23)を形成する。例えば、低融点ガラス材料、ビヒクル成分およびフィラー等を主成分とした原料ペーストをダイコート法または印刷法によって塗布して約100℃〜200℃の乾燥に付した後、露光・現像するフォトリソグラフィ法でパターニングし、次いで、約400℃〜約700℃の焼成に付すことによって隔壁(23)を形成する。尚、隔壁(23)は、スクリーン印刷で隔壁材料の膜を形成したのち乾燥して、感光性樹脂を含むドライフィルムにより露光・現像処理でパターン形成した後、サンドブラストにより掘削し、ドライフィルムを剥離し、焼成することでも形成することができる。次いで、蛍光体層(25)を形成する。隣接する隔壁(23)間の誘電体層(22)上および隔壁(23)の側面に蛍光体材料を含む蛍光体原料ペーストを塗布し、焼成することによって蛍光体層(25)を形成する。より具体的には、蛍光体粉末およびビヒクル成分等を主成分とした原料ペーストをノズル吐出法などで塗布し、次いで、約100℃の乾燥に付すことによって蛍光体層(25)を形成する。尚、赤色の蛍光体粉末としては[YBO3:Eu3+]、緑色の蛍光体粉末としては[Zn2SiO4:Mn]、青色の蛍光体粉末としては[BaMgAl1017:Eu2+]を用いることができる。次いで、背面板のガラス基板の周縁部にフリットガラス材料を塗布し(例えばディスペンサで線状に塗布し)、その後焼成を行うことで封着部材(図示せず)を形成し、背面板(2)を得ている。
以上の工程により、基板(20)上に、所定の構成部材たるアドレス電極(21)、誘電体層(22)、隔壁(23)、蛍光体層(25)および封着部材が形成され、背面板(2)が完成することになる。
このようにして所定の構成部材を備えた前面板(1)と背面板(2)とは、表示電極(11)とアドレス電極(21)とが直交するように前面板と背面板とを対向配置させた後、前面板(1)と背面板(2)の周囲を封着する。ここで、本発明の製造方法では、前面板と背面板とを対向配置させた後であって、かつ、前面板と背面板との封着処理の直前において、有機溶剤を一時保護層から除去する。つまり、その時点において本発明の製造方法の工程(iii)を実施する。封着処理の直前に工程(iii)を実施することで保護層の変質をより確実に防止できる。
対向配置に際しては、一時保護層が形成された面が上方を向くように前面板(1)を配置し、その上に蛍光体層が形成された面が下方を向くように背面板(2)を配置する。また、アライメント装置内で表面板および背面板に予め印刷しておいたアライメントマークを相互に合わせることによって位置合わせを行う。次いで、前面板(1)と背面板(2)とを密着させるために、保持機構としてクリップを取り付ける。そして、背面板(2)に設けた貫通穴に合わせてチップ管を取り付ける。
工程(iii)の実施に際しては、前面板(1)と背面板(2)とを対向配置させた状態で、一時保護層(17b)に含まれる有機溶剤(18)を除去して保護層(16)上に金属酸化物粒子(19)を配設する(図3参照)。有機溶剤(18)の除去に際しては有機溶剤を気化させることが好ましく、例えば一時保護層(17b)を熱処理に付してよい。一例を挙げると、対向配置させた前面板と背面板とを「炉内雰囲気が露点−60℃程度の乾燥空気雰囲気下となった封排炉」に投入し、有機溶剤の沸点以上かつ封着部材(ガラスフリット)の軟化温度未満の温度に加熱してよい。これにより、一時保護層の有機溶剤が気化して、気化した有機溶剤が前面板および背面板の周辺隙間から出て行くことになる。このような気化処理および気化コストなどに鑑みると、有機溶剤は沸点100℃以下のものが好ましく、例えばベンゼン(沸点:80.1℃)またはシクロヘキサン(沸点:80.7℃)が好ましいといえる。換言すれば、有機溶剤としてベンゼンまたはシクロヘキサンを用いた場合、一時保護層を大気圧下で85℃〜100℃程度の熱処理に付すことによって、有機溶剤を除去することができる(例えば10秒以内に有機溶剤を除去できる)。上述した封排炉は、有機溶剤の気化に際して一時保護層の面内または金属酸化物粒子の配設の点でムラが生じないように、内部の温度が均一であることが望ましい。また、気化した有機溶剤を前面板と背面板との隙間からより早く取り除くために、チップ管を介して露点−60℃程度の乾燥空気を吹き込んでもよい。
有機溶剤が除去されると、前面板の保護層の表面に金属酸化物粒子が配設されることになる。保護層の表面上で金属酸化物粒子が所望の配設となっているかは、画像検査装置で確認できる。
尚、熱処理に限定されず、一時保護層を100Pa〜200Pa程度の減圧下または真空下に付してもよい。必要に応じて「減圧下または真空下」と「熱処理」とを組み合わせてもよく、これにより、より短時間で有機溶剤を気化させることができ、工程(iii)に要する時間を短縮できる。
次いで、前面板(1)と背面板(2)の周囲を封着部材(ガラスフリット)で封着する。つまり、封排炉内を更に加熱して、封着部材のガラスフリットを溶融させることによって、前面板および背面板を封着する(封着温度は例えば450℃〜490℃程度である)。次いで、封着時の温度よりも若干低い温度(ガラスフリットが固化する温度)に保持しながら、前面板と背面板との間の放電空間(30)内を排気して略真空にする。かかる排気により、放電空間内に残存し得る「気化した有機溶剤」が放電空間から確実に除去されることになる。次いで、常温まで降温する。そして、放電ガス(ヘリウム、ネオンおよび/またはキセノンなど)を好ましくは55kPa〜80kPaの圧力で封入した後、バーナーなどでチップ管を封止・切断することによって、PDP(100)を最終的に完成させる。
以上の「前面板および背面板の作製」から「それらを組み合わせてPDPを完成させる」までの一連のフローを図4に示す。図4を参照すると、PDP製造の一時的な期間において保護層が周囲環境から隔離されていることが理解できよう。
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明はこれに限定されずに、種々の改変を行うことができる。例えば、上述の実施形態では、パネル封着の直前で一時保護層の有機溶剤を気化させているものの、それに限定されずに、必要に応じて適当な時点で有機溶剤を気化させてもよい。
本発明の製造方法を通じて最終的に得られるPDPは、良好な放電特性を有するので、一般家庭向けのプラズマテレビおよび商業用プラズマテレビとして好適に用いることができる他、その他のテレビやコンピューターなどの各種表示デバイスとしても好適に用いることができる。
PDPの構造を模式的に示す斜視図 本発明の製造方法に際して「金属酸化物粒子および有機溶剤を含んで成る液状原料」が保護層上に塗布された態様を模式的に表したPDP前面板の断面図 本発明の製造方法で得られるPDPの前面板を模式的に表した断面図 本発明の製造方法に関連する工程を表したフローチャート
符号の説明
1 前面板
2 背面板
10 前面板側の基板
11(11a,11b) 前面板側の電極(表示電極)
12 走査電極
13 維持電極
14 ブラックストライプ(遮光層)
15 前面板側の誘電体層
15 誘電体原料層
16 保護層
17a 液状原料層
17b 一時保護層
18 有機溶剤
19 金属酸化物粒子
20 背面板側の基板
21 背面板側の電極(アドレス電極)
22 背面板側の誘電体層
23 隔壁
25 蛍光体層
30 放電空間
32 放電セル
100 PDP

Claims (6)

  1. (i)金属酸化物粒子および有機溶剤を含んで成る液状原料を前面板の保護層の上に供給して液状原料層を形成する工程、
    (ii)前記液状原料層を凝固させることによって、前記液状原料層から一時保護層を形成する工程、ならびに
    (iii)前記前面板と背面板とを対向配置させた状態で、前記一時保護層に含まれる前記有機溶剤を除去して前記保護層上に前記金属酸化物粒子を設ける工程
    を含んで成るプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  2. 前記工程(ii)において、前記有機溶剤の融点以下の温度にまで冷却することによって前記液状原料層を凝固させることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  3. 前記工程(iii)において、前記有機溶剤を気化させることによって前記有機溶剤の除去を行うことを特徴とする、請求項1または2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  4. 前記前面板と前記背面板との封着処理に先立って、前記有機溶剤の除去を行うことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  5. 前記保護層が、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムから成る群から選択される少なくとも1種類以上の成分を含んで成ることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  6. 前記金属酸化物粒子が酸化マグネシウムを含んで成ることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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