JP2009258586A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009258586A5 JP2009258586A5 JP2008200248A JP2008200248A JP2009258586A5 JP 2009258586 A5 JP2009258586 A5 JP 2009258586A5 JP 2008200248 A JP2008200248 A JP 2008200248A JP 2008200248 A JP2008200248 A JP 2008200248A JP 2009258586 A5 JP2009258586 A5 JP 2009258586A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- solvent
- forming method
- pattern forming
- solvents
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 19
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 claims description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 2
- -1 alkyl acetate Chemical compound 0.000 claims description 2
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 claims description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 claims 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008200248A JP5433181B2 (ja) | 2008-03-28 | 2008-08-01 | ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008088779 | 2008-03-28 | ||
| JP2008088779 | 2008-03-28 | ||
| JP2008200248A JP5433181B2 (ja) | 2008-03-28 | 2008-08-01 | ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009258586A JP2009258586A (ja) | 2009-11-05 |
| JP2009258586A5 true JP2009258586A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2011-06-23 |
| JP5433181B2 JP5433181B2 (ja) | 2014-03-05 |
Family
ID=41386070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008200248A Expired - Fee Related JP5433181B2 (ja) | 2008-03-28 | 2008-08-01 | ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5433181B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5537859B2 (ja) * | 2009-07-31 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 |
| JP5422402B2 (ja) * | 2010-01-08 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜 |
| JP2011154214A (ja) * | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Jsr Corp | ネガ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン |
| JP5750272B2 (ja) * | 2010-02-18 | 2015-07-15 | 東京応化工業株式会社 | レジストパターン形成方法 |
| JP5775701B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2015-09-09 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法及びレジスト組成物 |
| JP5708082B2 (ja) * | 2010-03-24 | 2015-04-30 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法及びネガ型レジスト組成物 |
| JP5639780B2 (ja) | 2010-03-26 | 2014-12-10 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
| WO2011122336A1 (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物およびパターン形成方法 |
| JP2011227463A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-11-10 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物およびパターン形成方法 |
| WO2011158687A1 (ja) * | 2010-06-14 | 2011-12-22 | Jsr株式会社 | パターン形成方法及び感放射線性樹脂組成物 |
| EP2428843A1 (en) * | 2010-09-10 | 2012-03-14 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns |
| KR101848955B1 (ko) | 2010-10-04 | 2018-04-13 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 패턴 형성 방법 및 감방사선성 수지 조성물 |
| WO2012046581A1 (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-12 | Jsr株式会社 | パターン形成方法及び感放射線性樹脂組成物 |
| JP5940455B2 (ja) * | 2010-10-15 | 2016-06-29 | Jsr株式会社 | レジストパターン形成方法 |
| JPWO2012053527A1 (ja) | 2010-10-22 | 2014-02-24 | Jsr株式会社 | パターン形成方法及び感放射線性組成物 |
| US20120122031A1 (en) * | 2010-11-15 | 2012-05-17 | International Business Machines Corporation | Photoresist composition for negative development and pattern forming method using thereof |
| KR101819261B1 (ko) * | 2010-11-26 | 2018-01-16 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 조성물 및 화합물 |
| JP5244933B2 (ja) * | 2011-03-14 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 |
| JP5482722B2 (ja) | 2011-04-22 | 2014-05-07 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
| JP5353943B2 (ja) | 2011-04-28 | 2013-11-27 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
| TWI450038B (zh) | 2011-06-22 | 2014-08-21 | Shinetsu Chemical Co | 圖案形成方法及光阻組成物 |
| JP5740287B2 (ja) * | 2011-11-09 | 2015-06-24 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法 |
| JP2014222275A (ja) * | 2013-05-13 | 2014-11-27 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、これらを用いる電子デバイス及びその製造方法 |
| WO2015190174A1 (ja) * | 2014-06-13 | 2015-12-17 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス |
| JP2016099438A (ja) * | 2014-11-19 | 2016-05-30 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、これらを用いる電子デバイス及びその製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4327360B2 (ja) * | 1998-09-23 | 2009-09-09 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | ホトレジスト、ポリマーおよびマイクロリソグラフィの方法 |
| JP3943741B2 (ja) * | 1999-01-07 | 2007-07-11 | 株式会社東芝 | パターン形成方法 |
| JP2003302762A (ja) * | 2002-04-11 | 2003-10-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
| CN100558686C (zh) * | 2003-03-06 | 2009-11-11 | 日本电气株式会社 | 脂环族不饱和化合物、聚合物、化学增幅抗蚀剂组合物及采用所述组合物形成图案的方法 |
| US20050170277A1 (en) * | 2003-10-20 | 2005-08-04 | Luke Zannoni | Fluorinated photoresists prepared, deposited, developed and removed in carbon dioxide |
-
2008
- 2008-08-01 JP JP2008200248A patent/JP5433181B2/ja not_active Expired - Fee Related