JP2009253079A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009253079A5
JP2009253079A5 JP2008100331A JP2008100331A JP2009253079A5 JP 2009253079 A5 JP2009253079 A5 JP 2009253079A5 JP 2008100331 A JP2008100331 A JP 2008100331A JP 2008100331 A JP2008100331 A JP 2008100331A JP 2009253079 A5 JP2009253079 A5 JP 2009253079A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
irradiation apparatus
light irradiation
shielding mask
peripheral edge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008100331A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009253079A (ja
JP5112151B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2008100331A priority Critical patent/JP5112151B2/ja
Priority claimed from JP2008100331A external-priority patent/JP5112151B2/ja
Priority to TW98107966A priority patent/TWI474375B/zh
Priority to CN2009101276785A priority patent/CN101556908B/zh
Publication of JP2009253079A publication Critical patent/JP2009253079A/ja
Publication of JP2009253079A5 publication Critical patent/JP2009253079A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5112151B2 publication Critical patent/JP5112151B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (9)

  1. 光源から出射され、該光源の下方に配置された遮光マスクを透過した光を、該遮光マスクの下方に配置された被照射体に照射させる光照射装置であって、
    前記遮光マスクの上方に設けられた支持部材に支持され、光透過性を有し、真空吸引により前記遮光マスクを吸着保持する吸着管を備えたことを特徴とする光照射装置。
  2. 請求項1に記載の光照射装置において、
    前記支持部材は、前記光源から出射される光の光路から外れた位置に設けられたことを特徴とする光照射装置。
  3. 請求項1又は2に記載の光照射装置において、
    前記吸着管は、前記支持部材に支持される第1の管材と、該第1の管材の下端部が挿入された第2の管材とから構成されたことを特徴とする光照射装置。
  4. 請求項3に記載の光照射装置において、
    前記第2の管材の軸方向端面は、研磨処理された研磨面であることを特徴とする光照射装置。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光照射装置において、
    前記吸着管は、石英ガラスよりなることを特徴とする光照射装置。
  6. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の光照射装置において、
    前記支持部材は、水平方向に移動可能に設けられたことを特徴とする光照射装置。
  7. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光照射装置において、
    光透過性を有し、真空吸引により前記遮光マスクの周縁部を吸着保持する周縁部吸着管と、
    前記周縁部吸着管を支持する支持体と
    を備えたことを特徴とする光照射装置。
  8. 請求項7に記載の光照射装置において、
    前記支持体は、前記遮光マスクの側方に設けられたことを特徴とする光照射装置。
  9. 請求項8に記載の光照射装置において、
    前記周縁部吸着管の上端面は、前記光源の下方に位置していることを特徴とする光照射装置。
JP2008100331A 2008-04-08 2008-04-08 光照射装置 Expired - Fee Related JP5112151B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008100331A JP5112151B2 (ja) 2008-04-08 2008-04-08 光照射装置
TW98107966A TWI474375B (zh) 2008-04-08 2009-03-12 光照射裝置
CN2009101276785A CN101556908B (zh) 2008-04-08 2009-03-18 光照射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008100331A JP5112151B2 (ja) 2008-04-08 2008-04-08 光照射装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012224005A Division JP5373168B2 (ja) 2012-10-09 2012-10-09 光照射装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009253079A JP2009253079A (ja) 2009-10-29
JP2009253079A5 true JP2009253079A5 (ja) 2011-03-03
JP5112151B2 JP5112151B2 (ja) 2013-01-09

Family

ID=41174964

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008100331A Expired - Fee Related JP5112151B2 (ja) 2008-04-08 2008-04-08 光照射装置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5112151B2 (ja)
CN (1) CN101556908B (ja)
TW (1) TWI474375B (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2011089828A1 (ja) * 2010-01-22 2013-05-23 シャープ株式会社 光照射装置、光照射方法および液晶パネルの製造方法
JP5472616B2 (ja) * 2010-01-27 2014-04-16 ウシオ電機株式会社 光照射装置
JP5373168B2 (ja) * 2012-10-09 2013-12-18 株式会社アルバック 光照射装置
JP6614795B2 (ja) * 2015-05-11 2019-12-04 Aiメカテック株式会社 紫外線照射装置、及び基板組立システム
CN108717250B (zh) * 2018-06-05 2021-03-23 江苏永鼎股份有限公司 一种半导体芯片生产用接触式光刻机

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3094827B2 (ja) * 1995-02-14 2000-10-03 ウシオ電機株式会社 液晶パネルの貼り合わせ方法および装置
JPH1050584A (ja) * 1996-08-07 1998-02-20 Nikon Corp マスク保持装置
JP2001059953A (ja) * 1999-08-23 2001-03-06 Seiko Epson Corp 基板圧着装置及び液晶装置の製造方法
JP3483809B2 (ja) * 1999-08-31 2004-01-06 シャープ株式会社 基板の貼り合わせ方法および貼り合わせ装置並びに液晶表示装置の製造方法
US7365822B2 (en) * 2002-02-20 2008-04-29 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method for fabricating LCD
JP4039174B2 (ja) * 2002-08-12 2008-01-30 ウシオ電機株式会社 ディスプレイパネルの貼り合わせ装置
JP2004151325A (ja) * 2002-10-30 2004-05-27 Fujitsu Ltd 基板貼り合せ方法
KR100578262B1 (ko) * 2003-11-13 2006-05-11 주식회사 디엠에스 진공을 이용한 대면적 마스크 고정장치 및 그를 이용한노광장치와 노광방법
JP4380316B2 (ja) * 2003-12-17 2009-12-09 ウシオ電機株式会社 マスク取り付け治具および該マスク取り付け治具を用いたマスク取り付け方法
JP4572626B2 (ja) * 2004-08-26 2010-11-04 ウシオ電機株式会社 光照射装置
US20070070311A1 (en) * 2005-09-23 2007-03-29 Asml Netherlands B.V. Contacts to microdevices
JP4150041B2 (ja) * 2005-12-26 2008-09-17 富士通株式会社 貼合せ基板製造装置
JP4150042B2 (ja) * 2005-12-26 2008-09-17 富士通株式会社 貼合せ基板製造装置及び貼合せ基板製造方法
JP4118922B2 (ja) * 2006-03-24 2008-07-16 富士通株式会社 貼合せ基板製造装置及び貼合せ基板製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009253079A5 (ja)
JP2017000717A5 (ja)
JP2011049398A5 (ja) レーザ照射装置
WO2014074712A3 (en) Light-guided ophthalmic radiation device
ATE552519T1 (de) Optisches element, lithografievorrichtung mit derartigem optischen element und verfahren zur herstellung eines bauelements
MX339523B (es) Inspeccion del interior de envases desde abajo a traves del fondo del envase.
JP2011223036A5 (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
ATE427176T1 (de) Verschlussvorrichtung fur ein optisches element
JP2014517321A5 (ja)
JP2011114238A5 (ja)
JP2011125371A5 (ja)
JP2011500370A5 (ja)
JP5112151B2 (ja) 光照射装置
JP2018056529A5 (ja)
TWI444784B (zh) Light irradiation device
RU2019129597A (ru) Устройство сопряжения между лазерным источником и оперируемой тканью
JP5356842B2 (ja) 光照射装置及び光照射方法
JP2007052074A5 (ja)
JP2005205082A5 (ja)
JP2012091833A5 (ja)
JP2011009655A5 (ja)
TWD169175S (zh) 熱重量測定裝置之部分
JP2009283662A (ja) 光照射装置
JP2014167224A5 (ja)
RU155957U1 (ru) Устройство очистки полупроводниковых структур ультрафиолетом